JPH0574149A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH0574149A
JPH0574149A JP3230314A JP23031491A JPH0574149A JP H0574149 A JPH0574149 A JP H0574149A JP 3230314 A JP3230314 A JP 3230314A JP 23031491 A JP23031491 A JP 23031491A JP H0574149 A JPH0574149 A JP H0574149A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flash write
sense amplifier
bit line
bar
transistor
Prior art date
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Pending
Application number
JP3230314A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yamamoto
浩史 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
Priority to JP3230314A priority Critical patent/JPH0574149A/en
Publication of JPH0574149A publication Critical patent/JPH0574149A/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明はフラッシュライト機能を備えた多ビッ
ト構成の半導体記憶装置でセルアレイの占有面積を増大
させることなくその誤動作及び動作マージンの低下を防
止することを目的とする。 【構成】記憶セルCからビット線BL,バーBLに読み
出されたセル情報に基づいて前記ビット線に接続された
センスアンプSAでセル情報の読出し動作及び記憶セル
Cに対する記憶保持動作を行うとともに、フラッシュラ
イト制御回路6で選択して活性化されるフラッシュライ
ト用トランジスタTrfを動作させることにより、多数の
記憶セルCのセル情報を一括して書き換えるフラッシュ
ライト機能を備え、トランジスタTrfはセンスアンプ活
性化回路4から前記センスアンプSAに低電位側電源N
SGを供給する電源供給線にソースを接続し、ドレイン
を前記ビット線に接続し、ゲートをフラッシュライト制
御回路6に接続して構成する。
(57) [Summary] [Object] An object of the present invention is to prevent a malfunction and a decrease in operation margin of a multi-bit semiconductor memory device having a flash write function without increasing an occupied area of a cell array. .. A sense amplifier SA connected to the bit line performs a cell information read operation and a memory holding operation for the memory cell C based on the cell information read from the memory cell C to a bit line BL and a bar BL. By operating the flash write transistor Trf that is selected and activated by the flash write control circuit 6, a flash write function of collectively rewriting cell information of a large number of memory cells C is provided, and the transistor Trf activates the sense amplifier. From the digitizing circuit 4 to the sense amplifier SA on the low potential side power source N
A source is connected to a power supply line for supplying SG, a drain is connected to the bit line, and a gate is connected to the flashlight control circuit 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はフラッシュライト機能
を備えた半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a flash write function.

【0002】DRAMの一種類にはシリアルアクセスメ
モリを内蔵したデュアルポートメモリがあり、特に画像
用メモリとして使用される。このようなDRAMは動作
の高速性が要求されるため、同一ワード線に接続された
記憶セルのセル情報を一括して書換え可能とするフラッ
シュライト機能を備えているが、このような機能を備え
たDRAMにおいても高集積化及びチップの小型化が要
請されている。
One type of DRAM is a dual port memory having a built-in serial access memory, which is particularly used as an image memory. Since such a DRAM is required to operate at high speed, it has a flash write function that allows the cell information of the memory cells connected to the same word line to be collectively rewritten. Also in DRAMs, high integration and miniaturization of chips are required.

【0003】[0003]

【従来の技術】フラッシュライト機能を備えたDRAM
の一例を図7に従って説明すると、多数対のビット線B
L,バーBLにはそれぞれ一つのトランジスタと一つの
容量とから構成される多数の記憶セルCが接続され、各
ビット線BL,バーBLの各対毎にNチャネルMOSト
ランジスタTr1,Tr2とPチャネルMOSトランジスタ
Tr3,Tr4とからなるセンスアンプSAがそれぞれ接続
されている。また、各ビット線BL,バーBLにはそれ
ぞれリセット回路1が接続され、そのリセット回路1に
はリセット電圧供給回路2から1/2Vccのリセット電
圧VPRが供給され、同リセット回路1にHレベルのリ
セット信号BRSが入力されるとビット線BL,バーB
Lがリセット電圧VPRにリセットされる。
DRAM having a flash write function
An example will be described with reference to FIG. 7. Many pairs of bit lines B
A large number of memory cells C each composed of one transistor and one capacitor are connected to L and bar BL, and N channel MOS transistors Tr1 and Tr2 and P channel are provided for each pair of bit lines BL and bar BL. Sense amplifiers SA composed of MOS transistors Tr3 and Tr4 are connected to each other. Further, a reset circuit 1 is connected to each bit line BL and bar BL, and a reset voltage VPR of 1/2 Vcc is supplied from the reset voltage supply circuit 2 to the reset circuit 1 and the reset circuit 1 is at the H level. When the reset signal BRS is input, the bit lines BL, B
L is reset to the reset voltage VPR.

【0004】各センスアンプSAにはセンスアンプ活性
化回路4が接続され、そのセンスアンプ活性化回路4に
Hレベルの活性化信号LEが入力されると各センスアン
プSAのNチャネルMOSトランジスタTr1,Tr2のソ
ースに低電位側電源NSGが供給され、PチャネルMO
SトランジスタTr3,Tr4のソースに高電位側電源PS
Gが供給される。
A sense amplifier activation circuit 4 is connected to each sense amplifier SA, and when the H level activation signal LE is input to the sense amplifier activation circuit 4, the N-channel MOS transistor Tr1 of each sense amplifier SA, The low-potential-side power supply NSG is supplied to the source of Tr2, and the P-channel MO
The high-potential-side power supply PS is connected to the sources of the S transistors Tr3 and Tr4.
G is supplied.

【0005】各センスアンプSAにはリセット回路5が
接続され、そのリセット回路5には前記リセット電圧供
給回路2から1/2Vccのリセット電圧VPRが供給さ
れ、前記センスアンプ活性化回路4にHレベルの活性化
信号LEが入力されていない状態で同リセット回路5に
Hレベルのリセット信号BRSが入力されると、前記低
電位側電源NSG及び高電位側電源PSGがリセット電
圧VPRにリセットされる。
A reset circuit 5 is connected to each sense amplifier SA, the reset voltage VPR of 1/2 Vcc is supplied from the reset voltage supply circuit 2 to the reset circuit 5, and the sense amplifier activation circuit 4 is set to an H level. When the H level reset signal BRS is input to the reset circuit 5 while the activation signal LE is not input, the low potential side power supply NSG and the high potential side power supply PSG are reset to the reset voltage VPR.

【0006】各ビット線BL,バーBLにはNチャネル
MOSトランジスタで構成されるフラッシュライト用ト
ランジスタTrfのドレインが接続され、そのトランジス
タTrfのソースは低電位側電源Vssに接続されている。
そして、各対のビット線の一方のビット線BLに接続さ
れた前記トランジスタTrfのゲートはフラッシュライト
用ワード線FW0を介してフラッシュライト制御回路6
に接続され、他方のビット線バーBLに接続された前記
トランジスタTrfのゲートはフラッシュライト用ワード
線FW1を介してフラッシュライト制御回路6に接続さ
れている。
A drain of a flash write transistor Trf composed of an N channel MOS transistor is connected to each bit line BL and bar BL, and a source of the transistor Trf is connected to a low potential side power source Vss.
The gate of the transistor Trf connected to one bit line BL of each pair of bit lines has the flash write control circuit 6 via the flash write word line FW0.
, And the gate of the transistor Trf connected to the other bit line bar BL is connected to the flash write control circuit 6 via the flash write word line FW1.

【0007】従って、フラッシュライト制御回路6によ
りフラッシュライト用ワード線FW0,FW1のいずれ
かがHレベルに引き上げられると当該トランジスタTrf
がオンされてビット線BL,バーBLのいずれかがLレ
ベルに引き下げられる。
Therefore, when either of the flash write word lines FW0 and FW1 is pulled up to the H level by the flash write control circuit 6, the transistor Trf is concerned.
Is turned on and either the bit line BL or the bar BL is pulled down to the L level.

【0008】このように構成されたDRAMの通常の読
出し動作を図8に従って説明すると、読出し動作に先立
ってまずリセット信号BRSがLレベルに引き下げられ
てリセット回路1,5の動作が停止され、次いでロウデ
コーダによりいずれかのワード線WLが選択されてHレ
ベルに引き上げられると当該ワード線WLに接続されて
いる記憶セルCからセル情報が読み出されてビット線B
L,バーBLに僅かな電位差が生じる。
A normal read operation of the DRAM thus configured will be described with reference to FIG. 8. First, prior to the read operation, the reset signal BRS is pulled down to the L level to stop the operation of the reset circuits 1 and 5, and then the reset circuit BRS is stopped. When one of the word lines WL is selected by the row decoder and pulled up to the H level, cell information is read from the memory cell C connected to the word line WL and the bit line B is read.
A slight potential difference occurs between L and bar BL.

【0009】この状態でセンスアンプ活性化回路4に活
性化信号LEが入力されてセンスアンプSAに電源Vss
レベルの低電位側電源NSGと電源Vccレベルの高電位
側電源PSGとが供給されてセンスアンプSAが活性化
され、ビット線BL,バーBLの電位差が拡大されてそ
のセル情報がデータバス(図示しない)を介して読み出
されるとともに、そのビット線電位に基づいて当該記憶
セルCに対しセル情報のリフレッシュ動作が行われる。
In this state, the activation signal LE is input to the sense amplifier activation circuit 4 and the sense amplifier SA is supplied with the power supply Vss.
The low-potential-side power supply NSG of the level and the high-potential-side power supply PSG of the power supply Vcc level are supplied to activate the sense amplifier SA, the potential difference between the bit lines BL and bar BL is enlarged, and its cell information is transferred to the data bus (illustrated in the figure). No.) and the cell information refresh operation is performed on the memory cell C based on the bit line potential.

【0010】次いで、ワード線WLの選択が停止されて
Lレベルに引き下げられ、センスアンプ活性化信号LE
がLレベルに引き下げられてセンスアンプSAへの電源
の供給が停止され、リセット信号BRSがHレベルに引
き上げられて低電位側電源NSG及び高電位側電源PS
Gとビット線BL,バーBLが1/2Vccのリセット電
位VPRにリセットされ、次の動作を待つ状態となる。
Then, the selection of the word line WL is stopped and pulled down to the L level, and the sense amplifier activation signal LE is generated.
Is pulled down to the L level to stop the power supply to the sense amplifier SA, the reset signal BRS is pulled up to the H level, and the low potential side power source NSG and the high potential side power source PS are supplied.
G, the bit line BL, and the bar BL are reset to the reset potential VPR of 1/2 Vcc, and wait for the next operation.

【0011】一方、上記DRAMのフラッシュライト動
作を図9に従って説明すると、まずリセット信号BRS
がLレベルに引き下げられ、次いでいずれかのワード線
WLが選択されて記憶セルCから読み出されたセル情報
によりビット線BL,バーBLに僅かな電位差が生じ
る。
On the other hand, the flash write operation of the DRAM will be described with reference to FIG.
Is lowered to the L level, then one of the word lines WL is selected and the cell information read from the memory cell C causes a slight potential difference between the bit lines BL and BL.

【0012】この状態でフラッシュライト制御回路6に
より例えばフラッシュライトワード線FW0が選択され
てHレベルに引き上げられると、当該フラッシュライト
ワード線FW0に接続されたトランジスタTrfがオンさ
れてビット線BLがLレベルに引き下げられる。
In this state, when the flash write control circuit 6 selects, for example, the flash write word line FW0 and raises it to H level, the transistor Trf connected to the flash write word line FW0 is turned on and the bit line BL is set to L level. Can be lowered to a level.

【0013】次いで、センスアンプ活性化回路4に活性
化信号LEが入力されてセンスアンプSAに低電位側電
源NSGと高電位側電源PSGとが供給されてセンスア
ンプSAが活性化され、ビット線BL,バーBLの電位
差が拡大され、そのビット線電位に基づいて選択された
ワード線に接続されている全ての記憶セルCのセル情報
が書き換えられる。
Then, the activation signal LE is input to the sense amplifier activation circuit 4, the low potential side power source NSG and the high potential side power source PSG are supplied to the sense amplifier SA, the sense amplifier SA is activated, and the bit line is activated. The potential difference between BL and BL is enlarged, and the cell information of all memory cells C connected to the word line selected based on the bit line potential is rewritten.

【0014】次いで、ワード線WLの選択が停止されて
Lレベルに引き下げられ、フラッシュライトワード線F
W0がLレベルに引き上げられ、センスアンプ活性化信
号LEがLレベルに引き下げられてセンスアンプSAへ
の電源の供給が停止され、リセット信号BRSがHレベ
ルに引き上げられて低電位側電源NSG及び高電位側電
源PSGとビット線BL,バーBLが1/2Vccのリセ
ット電位VPRにリセットされ、次の動作を待つ状態と
なる。
Then, the selection of the word line WL is stopped and pulled down to the L level, and the flash write word line F
W0 is pulled up to L level, the sense amplifier activation signal LE is pulled down to L level, power supply to the sense amplifier SA is stopped, and the reset signal BRS is pulled up to H level, so that the low-potential-side power source NSG and high The potential-side power supply PSG and the bit lines BL and BL are reset to the reset potential VPR of 1/2 Vcc, and the next operation is awaited.

【0015】従来では図10に示すように一つのセルア
レイに対して一つの入出力I/O に対応するメモリセルア
レイが形成されているが、近年のデュアルポートメモリ
では多ビット化が進み、一つのセルアレイ7の中に多数
の入出力回路I/O に対応するメモリセルが形成されてお
り、例えば図11に示すように一つのセルアレイ7を4
つの入出力I/O 0〜I/O 3に対応する部分に分割してい
る。計4つのセルアレイ7があり、I/O 0〜I/O 15に
対応しており、各コラムデコーダ8及びロウデコーダ9
で各入出力I/O 0〜I/O 15から1ビットずつ計16ビ
ットの出力信号を出力可能としたものがある。このよう
なセルアレイ7では各入出力I/O毎にロウデコーダ9を
設けると回路面積が増大するため、共通のロウデコーダ
9で各入出力I/O に対応する記憶セルを選択するように
なっている。
Conventionally, as shown in FIG. 10, a memory cell array corresponding to one input / output I / O is formed for one cell array. However, in recent dual port memories, the number of bits has been increased and one Memory cells corresponding to a large number of input / output circuits I / O are formed in the cell array 7. For example, as shown in FIG.
It is divided into parts corresponding to one input / output I / O 0 to I / O 3. There are a total of four cell arrays 7, corresponding to I / O 0 to I / O 15, each column decoder 8 and row decoder 9
In some cases, each input / output I / O 0 to I / O 15 can output an output signal of 16 bits, one bit at a time. In such a cell array 7, if the row decoder 9 is provided for each input / output I / O, the circuit area increases, so that the common row decoder 9 selects the memory cell corresponding to each input / output I / O. ing.

【0016】従って、上記のような多ビット構成のDR
AMにおけるフラッシュライト機能部分は次のような構
成となる。すなわち、図12に示すように例えばビット
線BL1,バーBL1は入出力I/O 0に対応し、ビット
線BL2,バーBL2は入出力I/O 1に対応し、ビット
線BL1,バーBL1に接続されたフラッシュライト用
トランジスタTrfのゲートはフラッシュライト用ワード
線FW00,FW01を介してフラッシュライト制御回
路6aに接続され、ビット線BL2,バーBL2に接続
されたフラッシュライト用トランジスタTrfのゲートは
フラッシュライト用ワード線FW10,FW11を介し
てフラッシュライト制御回路6bに接続され、各フラッ
シュライト制御回路6a,6bはそれぞれ独立して動作
するように制御されて各入出力I/O 0,I/O 1毎にフラ
ッシュライト動作を行うことができるようになってい
る。
Therefore, the multi-bit DR as described above is used.
The flashlight function part in AM has the following configuration. That is, as shown in FIG. 12, for example, the bit lines BL1 and BL1 correspond to the input / output I / O 0, the bit lines BL2 and BL2 correspond to the input / output I / O 1, and to the bit lines BL1 and BL1. The gate of the connected flash write transistor Trf is connected to the flash write control circuit 6a via the flash write word lines FW00 and FW01, and the gate of the flash write transistor Trf connected to the bit lines BL2 and BL2 is the flash. It is connected to the flash write control circuit 6b via the write word lines FW10 and FW11, and the respective flash write control circuits 6a and 6b are controlled so as to operate independently and the respective input / output I / O 0 and I / O are controlled. The flash write operation can be performed for each one.

【0017】そのフラッシュライト動作を図13に従っ
て説明すると、まずリセット信号BRSがLレベルに引
き下げられ、次いでいずれかのワード線WLが選択され
て記憶セルCから読み出されたセル情報によりビット線
BL1,バーBL1及び同BL2,バーBL2に僅かな
電位差が生じる。
The flash write operation will be described with reference to FIG. 13. First, the reset signal BRS is pulled down to L level, then one of the word lines WL is selected and the bit line BL1 is selected by the cell information read from the memory cell C. , BL1 and BL2, BL2 generate a slight potential difference.

【0018】この状態で入出力回路I/O 0に対応する記
憶セルに対しフラッシュライトを行うべくフラッシュラ
イト制御回路6aのみを動作させて例えばフラッシュラ
イト用ワード線FW00をHレベルに引き上げると当該
フラッシュライトワード線FW00に接続されたトラン
ジスタTrfがオンされてビット線BL1がLレベルに引
き下げられる。
In this state, if only the flash write control circuit 6a is operated to perform flash write to the memory cell corresponding to the input / output circuit I / O 0 and the word line FW00 for flash write is pulled up to the H level, the flash concerned is flashed. The transistor Trf connected to the write word line FW00 is turned on, and the bit line BL1 is pulled down to L level.

【0019】次いで、センスアンプ活性化回路4に活性
化信号LEが入力されてセンスアンプSAに低電位側電
源NSGと高電位側電源PSGとが供給されてセンスア
ンプSAが活性化され、ビット線BL1,バーBL1の
電位差が拡大され、そのビット線電位に基づいて選択さ
れたワード線WLに接続されている記憶セルCのセル情
報が書き換えられる。
Then, the activation signal LE is input to the sense amplifier activation circuit 4, the low potential side power source NSG and the high potential side power source PSG are supplied to the sense amplifier SA, the sense amplifier SA is activated, and the bit line is activated. The potential difference between BL1 and BL1 is enlarged, and the cell information of the memory cell C connected to the word line WL selected based on the bit line potential is rewritten.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な動作においてフラッシュライトワード線FW00に接
続されたトランジスタTrfがオンされてビット線BL1
がLレベルに引き下げらる過程において、同ビット線B
L1の電位がビット線バーBL1の電位よりセンスアン
プSA内のNチャネルMOSトランジスタTr1のしきい
値Vth以上低下すると、同トランジスタTr1がオンされ
て1/2Vccレベルにリセットされている低電位側電源
NSGを低下させる。すると、各センスアンプSAを活
性化信号LEに先立って活性化させてしまうことにな
り、フラッシュライト動作を行わない入出力回路I/O 1
に対応するビット線BL2,バーBL2に選択された記
憶セルからセル情報が確実に読み出される前に当該ビッ
ト線BL2,バーBL2に対応するセンスアンプSAが
動作し始める。
However, in the above-described operation, the transistor Trf connected to the flash write word line FW00 is turned on and the bit line BL1 is turned on.
Bit line B in the process of falling to the L level.
When the potential of L1 falls below the potential of the bit line bar BL1 by the threshold value Vth of the N-channel MOS transistor Tr1 in the sense amplifier SA, the transistor Tr1 is turned on and reset to the 1/2 Vcc level. Lowers NSG. Then, each sense amplifier SA is activated prior to the activation signal LE, and the input / output circuit I / O 1 that does not perform the flash write operation is activated.
Before the cell information is surely read from the storage cell selected by the bit line BL2, bar BL2 corresponding to, the sense amplifier SA corresponding to the bit line BL2, bar BL2 starts to operate.

【0021】従って、ビット線BL2,バーBL2に接
続されたセンスアンプSAはビット線BL2,バーBL
2の不安定な電位差を増幅することにより動作マージン
が低下したり、あるいはセンスアンプSAの誤動作によ
り選択された記憶セルのセル情報を破壊することがあ
る。
Therefore, the sense amplifier SA connected to the bit lines BL2 and BL2 is connected to the bit lines BL2 and BL.
The operation margin may be reduced by amplifying the unstable potential difference of No. 2 or the cell information of the selected memory cell may be destroyed due to the malfunction of the sense amplifier SA.

【0022】一方、前記各入出力毎にセンスアンプSA
の電源を別電源とすれば上記問題点は解決されるが、各
入出力回路毎に別電源とすることは電源配線数を増大さ
せて回路面積を増大させるという問題点がある。
On the other hand, a sense amplifier SA is provided for each input / output.
Although the above problem can be solved by using a separate power source as the power source, there is a problem that the separate power source for each input / output circuit increases the number of power source wirings and increases the circuit area.

【0023】この発明の目的は、フラッシュライト機能
を備えた多ビット構成の半導体記憶装置でセルアレイの
占有面積を増大させることなくその誤動作及び動作マー
ジンの低下を防止することにある。
An object of the present invention is to prevent malfunction and reduction in operation margin of a multi-bit semiconductor memory device having a flash write function without increasing the area occupied by the cell array.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。すなわち、ビット線BL,バーBLとワード
線WLを選択することにより所定の記憶セルCを選択
し、該記憶セルCからビット線BL,バーBLに読み出
されたセル情報に基づいて該ビット線BL,バーBLに
接続されたセンスアンプSAで該セル情報の読出し動作
及び該記憶セルCに対する記憶保持動作を行うととも
に、前記各ビット線BL,バーBLにはフラッシュライ
ト用トランジスタTrfを接続し、前記フラッシュライト
用トランジスタTrfをフラッシュライト用ワード線FW
を介してフラッシュライト制御回路6で選択して活性化
することにより、選択されたワード線WLに接続された
多数の記憶セルCのセル情報を一括して書き換えるフラ
ッシュライト機能を備え、前記フラッシュライト用トラ
ンジスタTrfはソースをセンスアンプ活性化回路4から
前記センスアンプSAに低電位側電源Vssを供給する電
源供給線に接続し、ドレインをビット線BL,バーBL
に接続し、ゲートをフラッシュライト制御回路6に接続
した。
FIG. 1 illustrates the principle of the present invention. That is, a predetermined memory cell C is selected by selecting the bit line BL, bar BL and the word line WL, and the bit line is read based on the cell information read from the memory cell C to the bit line BL, bar BL. A sense amplifier SA connected to BL and bar BL performs a read operation of the cell information and a memory holding operation to the memory cell C, and a flash write transistor Trf is connected to each bit line BL and bar BL. The flash write transistor Trf is connected to the flash write word line FW.
The flash write control circuit 6 has a flash write function of collectively rewriting cell information of a large number of storage cells C connected to the selected word line WL by selecting and activating the flash write control circuit 6 via the flash write control circuit. The transistor Trf has a source connected to the power supply line for supplying the low-potential-side power supply Vss from the sense amplifier activation circuit 4 to the sense amplifier SA, and a drain connected to the bit line BL, bar BL
And the gate was connected to the flashlight control circuit 6.

【0025】また、前記フラッシュライト用トランジス
タTrfはドレインをセンスアンプ活性化回路4から前記
センスアンプSAに高電位側電源Vccを供給する電源供
給線に接続し、ソースをビット線BL,バーBLに接続
し、ゲートをフラッシュライト制御回路6に接続しても
よい。
The flash write transistor Trf has a drain connected to a power supply line for supplying a high potential side power supply Vcc from the sense amplifier activation circuit 4 to the sense amplifier SA, and a source connected to the bit lines BL and BL. Alternatively, the gates may be connected to the flashlight control circuit 6.

【0026】[0026]

【作用】フラッシュライト制御回路6で選択されたフラ
ッシュライト用トランジスタTrfはセンスアンプSAの
活性化と同時に動作して当該トランジスタTrfに接続さ
れたビット線BL,バーBLの電位をセンスアンプSA
の低電位側電源NSGのレベルあるいは高電位側電源P
SGのレベルに移行させる。
The flash write transistor Trf selected by the flash write control circuit 6 operates at the same time as the activation of the sense amplifier SA so that the potentials of the bit lines BL and bar BL connected to the transistor Trf are changed to the sense amplifier SA.
Of the low-potential-side power source NSG or high-potential-side power source P
Move to SG level.

【0027】[0027]

【実施例】以下、この発明を具体化した一実施例を図2
〜図6に従って説明する。なお、前記従来例と同一構成
部分は同一符号を付してその説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment embodying the present invention will now be described with reference to FIG.
~ It demonstrates according to FIG. The same components as those of the conventional example are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0028】図2に示すように、ビット線BL1,バー
BL1は入出力I/O0に対応し、ビット線BL2,バー
BL2は入出力I/O 1に対応し、各ビット線BL1〜バ
ーBL2に接続されるフラッシュライト用トランジスタ
Trfのソースは各センスアンプSAに低電位側電源NS
Gを供給する電源供給線に接続されている。そして、各
トランジスタTrfのドレイン及びソースは前記従来例と
同様に接続されている。
As shown in FIG. 2, the bit lines BL1 and BL1 correspond to the input / output I / O0, the bit lines BL2 and BL2 correspond to the input / output I / O1, and the respective bit lines BL1 to BL2. The source of the flash light transistor Trf connected to is connected to each sense amplifier SA at the low potential side power supply NS.
It is connected to a power supply line that supplies G. The drain and source of each transistor Trf are connected in the same manner as in the conventional example.

【0029】さて、このように構成されたDRAMの通
常の読出し動作時には各フラッシュライト用トランジス
タTrfがすべてオフ状態となるため、図3に示すように
その読出し動作は前記従来例と同様である。
Now, during the normal read operation of the DRAM thus constructed, all the flash write transistors Trf are turned off, so that the read operation is the same as that of the conventional example as shown in FIG.

【0030】一方、フラッシュライト動作を図4に従っ
て説明すると、まずリセット信号BRSがLレベルに引
き下げられ、次いでいずれかのワード線WLが選択され
て記憶セルCから読み出されたセル情報によりビット線
BL1,バーBL1及び同BL2,バーBL2に僅かな
電位差が生じる。
On the other hand, the flash write operation will be described with reference to FIG. 4. First, the reset signal BRS is pulled down to the L level, then one of the word lines WL is selected, and the bit line is read according to the cell information read from the memory cell C. A slight potential difference is generated between BL1, bar BL1 and BL2, bar BL2.

【0031】この状態で入出力I/O 0に対応する記憶セ
ルに対しフラッシュライトを行うべくフラッシュライト
制御回路6aのみを動作させて例えばフラッシュライト
用ワード線FW00をHレベルに引き上げると当該フラ
ッシュライトワード線FW00に接続されたトランジス
タTrfがオン状態となる。しかし、この状態では当該ト
ランジスタTrfのドレイン及びソースはともにリセット
電位に維持されていて同電位であるので、同トランジス
タTrfにドレイン電流が流れることはない。
In this state, when only the flash write control circuit 6a is operated to perform flash write to the memory cell corresponding to the input / output I / O 0, and the flash write word line FW00 is pulled up to the H level, the flash write is performed. The transistor Trf connected to the word line FW00 is turned on. However, in this state, the drain and the source of the transistor Trf are both maintained at the reset potential and have the same potential, so that the drain current does not flow in the transistor Trf.

【0032】次いで、センスアンプ活性化回路4に活性
化信号LEが入力されてセンスアンプSAに低電位側電
源NSGと高電位側電源PSGとが供給されてセンスア
ンプSAが活性化され、これと同時に前記トランジスタ
Trfのソース電位が引き下げられることによりトランジ
スタTrfにドレイン電流が流れてビット線BL1の電位
が引き下げられ、このようなビット線BL1,バーBL
1の電位差に基づいてセンスアンプSAの動作によりビ
ット線BL1,バーBL1の電位差が拡大され、そのビ
ット線電位に基づいて選択されたワード線WLに接続さ
れている記憶セルCのセル情報が書き換えられる。
Next, the activation signal LE is input to the sense amplifier activation circuit 4, the low potential side power source NSG and the high potential side power source PSG are supplied to the sense amplifier SA, and the sense amplifier SA is activated. At the same time, the source potential of the transistor Trf is lowered, so that the drain current flows through the transistor Trf and the potential of the bit line BL1 is lowered.
The potential difference between the bit lines BL1 and BL1 is expanded by the operation of the sense amplifier SA based on the potential difference of 1, and the cell information of the memory cell C connected to the word line WL selected based on the bit line potential is rewritten. Be done.

【0033】従って、入出力I/O 0に対応するビット線
BL1,バーBL1ではフラッシュライト動作により図
5に示すようにセンスアンプSAにフラッシュライト用
トランジスタTrfが接続された状態となり、センスアン
プSAが活性化されると同時にトランジスタTrfがオン
されて読み出されたセル情報に関わらずビット線BL1
がLレベル、同バーBL1がHレベルとなるようにその
電位差が拡大される。また、入出力I/O 1に対応するビ
ット線BL2,バーBL2ではフラッシュライト用トラ
ンジスタTrfがオンされないので、図6に示すようにセ
ンスアンプSAにビット線BL2,バーBL2のみが接
続された状態となり、センスアンプ活性化信号LEに基
づいて低電位側電源NSG及び高電位側電源PSGがセ
ンスアンプSAに供給されて選択された記憶セルのリフ
レッシュ動作が行われる。
Therefore, as shown in FIG. 5, the flash write transistor Trf is connected to the sense amplifier SA by the flash write operation on the bit lines BL1 and BL1 corresponding to the input / output I / O 0, and the sense amplifier SA is connected. Is activated at the same time that the transistor Trf is turned on and the bit line BL1
Is at the L level and the bar BL1 is at the H level, the potential difference is enlarged. Further, since the flash write transistor Trf is not turned on in the bit lines BL2 and BL2 corresponding to the input / output I / O 1, only the bit lines BL2 and BL2 are connected to the sense amplifier SA as shown in FIG. Then, the low-potential-side power supply NSG and the high-potential-side power supply PSG are supplied to the sense amplifier SA based on the sense amplifier activation signal LE to perform the refresh operation of the selected memory cell.

【0034】以上のようにこのDRAMでは異なる入出
力回路I/O にセル情報を出力する多数のセンスアンプS
Aの電源を共通としてもそのフラッシュライト動作時に
フラッシュライトを行わない入出力I/O に対応するセル
情報を出力するセンスアンプSAに対してはセンスアン
プ活性化信号LEに基づいてのみ低電位側電源NSG及
び高電位側電源PSGを供給することができるので、同
センスアンプSAでの動作マージンの低下あるいは誤動
作の発生を防止することができる。
As described above, in this DRAM, a large number of sense amplifiers S that output cell information to different input / output circuit I / Os.
For the sense amplifier SA which outputs cell information corresponding to the input / output I / O which does not perform flash write even when the power source of A is common, only on the low potential side based on the sense amplifier activation signal LE. Since the power supply NSG and the high-potential-side power supply PSG can be supplied, it is possible to prevent a decrease in the operation margin or the occurrence of malfunction in the sense amplifier SA.

【0035】なお、前記実施例ではフラッシュライト用
トランジスタTrfのソースをセンスアンプSAに低電位
側電源NSGを供給する電源供給線に接続し、ドレイン
をビット線BL,バーBLに接続して、フラッシュライ
ト用トランジスタTrfの動作に基づいてビット線BL,
バーBLの電位を引き下げる構成としたが、フラッシュ
ライト用トランジスタTrfのドレインをセンスアンプS
Aに高電位側電源PSGを供給する電源供給線に接続
し、ソースをビット線BL,バーBLに接続して、フラ
ッシュライト用トランジスタTrfの動作に基づいてビッ
ト線BL,バーBLの電位を引き上げるような構成とし
てもよい。
In the above embodiment, the source of the flash write transistor Trf is connected to the power supply line for supplying the low-potential-side power supply NSG to the sense amplifier SA, and the drain is connected to the bit lines BL and BL to flash. Based on the operation of the write transistor Trf, the bit line BL,
Although the potential of the bar BL is lowered, the drain of the flash light transistor Trf is connected to the sense amplifier S.
A is connected to a power supply line that supplies a high-potential-side power supply PSG, the source is connected to the bit lines BL and bar BL, and the potentials of the bit lines BL and bar BL are raised based on the operation of the flash write transistor Trf. Such a configuration may be adopted.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上詳述したように、この発明はフラッ
シュライト機能を備えた多ビット構成の半導体記憶装置
でセルアレイの占有面積を増大させることなくその誤動
作及び動作マージンの低下を防止することができる優れ
た効果を発揮する。
As described above in detail, according to the present invention, in a semiconductor memory device having a multi-bit structure having a flash write function, it is possible to prevent the malfunction and the decrease of the operation margin without increasing the occupied area of the cell array. Exhibits excellent effects that can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】本発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図3】一実施例の通常動作を示す波形図である。FIG. 3 is a waveform diagram showing a normal operation of one embodiment.

【図4】一実施例のフラッシュライト動作を示す波形図
である。
FIG. 4 is a waveform diagram showing a flash write operation according to an embodiment.

【図5】一実施例のフラッシュライト動作時のセンスア
ンプとフラッシュライト用トランジスタの接続状態を示
す等価回路図である。
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing a connection state of a sense amplifier and a flash write transistor during a flash write operation according to an embodiment.

【図6】一実施例の通常動作時のセンスアンプとフラッ
シュライト用トランジスタの接続状態を示す等価回路図
である。
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram showing a connection state between a sense amplifier and a flash write transistor in a normal operation according to an embodiment.

【図7】従来例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a conventional example.

【図8】従来例の通常動作を示す波形図である。FIG. 8 is a waveform diagram showing a normal operation of a conventional example.

【図9】従来例のフラッシュライト動作を示す波形図で
ある。
FIG. 9 is a waveform diagram showing a flash write operation of a conventional example.

【図10】4ビット構成のDRAMのセルアレイを示す
レイアウト図である。
FIG. 10 is a layout diagram showing a cell array of a 4-bit DRAM.

【図11】16ビット構成のDRAMのセルアレイを示
すレイアウト図である。
FIG. 11 is a layout diagram showing a cell array of a 16-bit DRAM.

【図12】従来の多ビット構成のDRAMを示す回路図
である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a conventional multi-bit DRAM.

【図13】従来の多ビット構成のDRAMの動作を示す
波形図である。
FIG. 13 is a waveform chart showing an operation of a conventional multi-bit DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 センスアンプ活性化回路 6 フラッシュライト制御回路 BL,バーBL ビット線 WL ワード線 C 記憶セル Trf フラッシュライト用トランジスタ FW フラッシュライト制御回路 SA センスアンプ NSG 低電位側電源 PSG 高電位側電源 4 Sense amplifier activation circuit 6 Flash write control circuit BL, bar BL Bit line WL Word line C Storage cell Trf Flash write transistor FW Flash write control circuit SA Sense amplifier NSG Low potential side power source PSG High potential side power source

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビット線(BL,バーBL)とワード線
(WL)を選択することにより所定の記憶セル(C)を
選択し、該記憶セル(C)からビット線(BL,バーB
L)に読み出されたセル情報に基づいて該ビット線(B
L,バーBL)に接続されたセンスアンプ(SA)で該
セル情報の読出し動作及び該記憶セル(C)に対する記
憶保持動作を行うとともに、前記各ビット線(BL,バ
ーBL)にはフラッシュライト用トランジスタ(Trf)
を接続し、前記フラッシュライト用トランジスタ(Tr
f)をフラッシュライト用ワード線(FW)を介してフ
ラッシュライト制御回路(6)で選択して活性化するこ
とにより、選択されたワード線(WL)に接続された多
数の記憶セル(C)のセル情報を一括して書き換えるフ
ラッシュライト機能を備えた半導体記憶装置であって、 前記フラッシュライト用トランジスタ(Trf)はソース
をセンスアンプ活性化回路(4)から前記センスアンプ
(SA)に低電位側電源(NSG)を供給する電源供給
線に接続し、ドレインをビット線(BL,バーBL)に
接続し、ゲートをフラッシュライト制御回路(6)に接
続したことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A predetermined memory cell (C) is selected by selecting a bit line (BL, bar BL) and a word line (WL), and the bit line (BL, bar B) is selected from the memory cell (C).
L), the bit line (B
A sense amplifier (SA) connected to L, bar BL) performs a read operation of the cell information and a memory holding operation for the memory cell (C), and a flash write to each bit line (BL, bar BL). Transistor (Trf)
To connect the flashlight transistor (Tr
A large number of memory cells (C) connected to the selected word line (WL) by selecting and activating f) by the flash write control circuit (6) via the flash write word line (FW). Is a semiconductor memory device having a flash write function of collectively rewriting the cell information of the above, wherein the source of the flash write transistor (Trf) is a low potential from the sense amplifier activation circuit (4) to the sense amplifier (SA). A semiconductor memory device characterized by being connected to a power supply line for supplying a side power supply (NSG), a drain being connected to a bit line (BL, bar BL), and a gate being connected to a flash write control circuit (6).
【請求項2】 ビット線(BL,バーBL)とワード線
(WL)を選択することにより所定の記憶セル(C)を
選択し、該記憶セル(C)からビット線(BL,バーB
L)に読み出されたセル情報に基づいて該ビット線(B
L,バーBL)に接続されたセンスアンプ(SA)で該
セル情報の読出し動作及び該記憶セル(C)に対する記
憶保持動作を行うとともに、前記各ビット線(BL,バ
ーBL)にはフラッシュライト用トランジスタ(Trf)
を接続し、前記フラッシュライト用トランジスタ(Tr
f)をフラッシュライト用ワード線(FW)を介してフ
ラッシュライト制御回路(6)で選択して活性化するこ
とにより、選択されたワード線(WL)に接続された多
数の記憶セル(C)のセル情報を一括して書き換えるフ
ラッシュライト機能を備えた半導体記憶装置であって、 前記フラッシュライト用トランジスタ(Trf)はドレイ
ンをセンスアンプ活性化回路(4)から前記センスアン
プ(SA)に高電位側電源(PSG)を供給する電源供
給線に接続し、ソースをビット線(BL,バーBL)に
接続し、ゲートをフラッシュライト制御回路(6)に接
続したことを特徴とする半導体記憶装置。
2. A predetermined memory cell (C) is selected by selecting a bit line (BL, bar BL) and a word line (WL), and the bit line (BL, bar B) is selected from the memory cell (C).
L), the bit line (B
A sense amplifier (SA) connected to L, bar BL) performs a read operation of the cell information and a memory holding operation for the memory cell (C), and a flash write to each bit line (BL, bar BL). Transistor (Trf)
To connect the flashlight transistor (Tr
A large number of memory cells (C) connected to the selected word line (WL) by selecting and activating f) by the flash write control circuit (6) via the flash write word line (FW). Is a semiconductor memory device having a flash write function of collectively rewriting the cell information of the above, wherein the flash write transistor (Trf) has a drain of a high potential from the sense amplifier activation circuit (4) to the sense amplifier (SA). A semiconductor memory device, characterized in that it is connected to a power supply line for supplying a side power supply (PSG), a source is connected to a bit line (BL, bar BL), and a gate is connected to a flash write control circuit (6).
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100383263B1 (en) * 2001-03-19 2003-05-09 삼성전자주식회사 Semiconductor memory device and arrangement method thereof
US8116158B2 (en) 2008-04-28 2012-02-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device guaranteeing stable operation

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