JPH0574899B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0574899B2
JPH0574899B2 JP61040158A JP4015886A JPH0574899B2 JP H0574899 B2 JPH0574899 B2 JP H0574899B2 JP 61040158 A JP61040158 A JP 61040158A JP 4015886 A JP4015886 A JP 4015886A JP H0574899 B2 JPH0574899 B2 JP H0574899B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
high power
window
foil
power window
fin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP61040158A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61195549A (ja
Inventor
Auneri Tsui
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Energy Sciences Inc
Original Assignee
Energy Sciences Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Energy Sciences Inc filed Critical Energy Sciences Inc
Publication of JPS61195549A publication Critical patent/JPS61195549A/ja
Publication of JPH0574899B2 publication Critical patent/JPH0574899B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
    • H01J33/02Details
    • H01J33/04Windows

Landscapes

  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Refuse-Collection Vehicles (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子放射装置に関する。更に詳しく
は、例えば連続照射プロセスの如きにおいて、電
子ビーム処理装置が接続し得る出力を量的に増大
させるための改良された電子ビーム処理装置用大
電力窓及び支持構造に関するものである。
〔従来の技術と問題点〕
金属性でしかも電子ビーム透過性の窓箔を大気
圧に抗して支持するのみならず、例えば米国特許
第3440466号に示されているような熱シンク及
び/又は冷却用流体に対する熱伝達媒体として作
用するフインの列のような従来の大電力用電子ビ
ーム処理装置窓及びそれらの支持構造には、使用
中における電子ビームの妨害や、熱膨張及びこれ
に関連した要因による窓の崩壊といつた問題があ
つた。例えば米国特許第3442466号に開示されて
いる型式の窓構造は、75〜98%の透過率(フイン
による直交電子の25〜2%阻止)を達成している
が、約12.7mm(0.5インチ)よりも幅広い場合に
は、熱膨張及びこれに関連した要因によるフイン
の崩壊が生ずることが見出されている。またかか
る構成においては、フインの長さが厚さよりもは
るかに大きく、かくして窓枠が長くなることによ
り、熱膨張の問題を別にしても、フインを座屈さ
せるだけの真空たわみを受けることになる。更
に、フインの厚さ又は数を増大することは直交し
ていない電子ビームの妨害を増し、窓を通過する
電子の量は益々減少する。
真空室を閉鎖する窓箔(0.0254mm(0.001イン
チ)厚のアルミニウム箔のような)は、隣接する
フインの間の距離の二乗に比例する熱及び機械的
応力の双方を受けることになる。更に、アルミニ
ウム箔は高温に耐えられないと同時に、大気中で
の化学的腐食作用のために劣化することがある。
大電力の用途に対して窓箔をその最良の状態で動
作させるには、フインが熱的に膨張して座屈する
ことからして、フイン間の距離が極めて重要であ
る。一旦座屈するとその箔は用をなさず、真空を
保持することができない。
従つて、本発明の目的は、従来での窓における
如上の不都合を解消すると同時に、従来座屈を急
速に生じさせた運転状態に対して感応せず、大き
な窓や大電力及び/又は長い処理領域に対しても
使用できるような、新規な改良された大電力用の
電子ビーム窓構成及びその支持構造を提供するに
ある。
本発明の他の目的は、窓における電流密度を制
限して、それにより大電力処理能力を増大させ
た、新規な大電力用の窓箔構造を提供するにあ
る。
本発明の別な目的は、大きな透過率を持つ大電
力用窓を提供するにある。
本発明の更に別な目的は、非直交電子ビームの
妨害を最小にした大電力用窓構造を提供するにあ
る。
〔問題点解決のための手段〕
その重要な一側面から要約するに、本発明は、
真空室を閉鎖している縦方向に延在する金属性の
窓箔と、その箔の内面に真空圧によつて保持さ
れ、連続的に平行に且つ近接して正確に延在され
た導電性フインの組合わせ(セツト)の複数から
なる列の一つ以上とからなり、導電性フインは窓
箔長手の両縁部間で前記窓箔の内面を横方向に横
断して湾曲している、排気型電子ビーム発生器な
どに用いる大電力用窓からなる。以下において
は、好ましき構造上の詳細及び最善の動作モード
が示される。
第1A図及び第1B図を参照するに、電子ビー
ム照射処理装置又は発生器の如き電子放射装置に
用いられる大電力用の窓1は、その窓の長さ全部
にわたつて延在する壁即ち堅固な縁部支持部材2
を含む枠によつて境界づけられている電子透過性
の窓箔5を有する。枠の縁部支持部材2間に固定
され且つそれらに接触しているものは、複数の曲
線状のフインF(第1A図)及びF′(第1B図)で
ある。フインFはただひとつの曲率半径を持つ弓
状の導電性フイン4が連続した形状(C字状)に
おいて示されているが、フインF′は、複数の湾曲
部分からなるS字状の導電性フイン4からなるも
のとして示されている。枠中において、フインは
組立時に金属箔5の窓に対して押圧されて、排気
された電子ビーム発生器を閉鎖する。この電子ビ
ーム発生器は、真空と、窓の反対側にある大気と
の間で1.029Kg/cm2(14.7p.s.i.)の差圧を持つ。
またこの大気によつて、窓はフインに対して熱伝
導状態に接触保持される。電子ビームは、窓の平
面に直交するように、すなわち第1A図及び第1
B図ではその紙面に対して垂直に向けられる。
前に述べたように、窓の組立体は、使用状態下
において、熱的及び機械的な負荷を受ける。熱的
負荷は、電子放射装置(図示されていないが、例
えば米国特許第3702412号、第3769600号及び第
4100450号において記述されている型式のもの)
によつて発生される電子ビームが、電子を第1A
図及び第1B図で紙面の方へと該装置の真空室を
通して伝送し、またその後箔5を通し窓の外側の
大気(第1A図及び第1B図の紙面の下)へと伝
送するときに、窓1において発生される。このこ
とは基本的に、5つの要因によるものである。す
なわち、(1)直交状電子ビームの妨害、(2)直交して
いない電子ビームの妨害、(3)箔5を通電する間に
エネルギーの幾らかを失う電子、(4)空気中及び装
置からの電子の後方散乱及び(5)電子ビーム又は化
学的反応などの結果として窓の大気側で発生され
る熱がその要因である。
電子放射路に直交した平面に沿う本発明のフイ
ンF又はF′の曲がりは、線形即ち直線のフインを
持つ従来の窓に固有の制御できない熱偏向及び座
屈という問題を緩和する。なぜなら、湾曲したフ
インFはすべて、同じ方向に同じ量(線形フイン
の場合よりも遥かに少ない量)だけの熱膨張を行
うからである。かくして、フインによつて支持さ
れる窓箔5が受ける熱及び/又は機械的応力はか
なり小さくなる。
かかる弓形に湾曲されたフインFの使用から得
られる他の利点には、(1)窓を通る電子ビームの電
力処理能力すなわち最大電流密度の改善、(2)フイ
ン間でできるだけ大きなスパンを使用することか
ら見た窓の透過率の改良(直交していない電子の
より僅かな阻止及び/又は良好な透過率の達成)、
(3)電子エネルギーが減少するにつれて窓箔5の阻
止力が増大することから低い加速電圧(150kw以
下)で重要な、薄い窓箔5を使用しうる能力の改
良、(4)大電力及び/又は長い処理領域用に、窓を
特に幅広くできる能力の改善、(5)フインFに沿つ
て窓枠の真空負荷すなわち真空偏向を受ける非常
に長い窓を作成できる能力の改善、及び(6)上記事
項の組合わせなどが含まれる。
第2A図及び第2B図に見られるように、別な
一連の利点が、フインFの断面形状及び面積をL
として点線によつて示されているような従来の線
形のフインの標準的な矩形断面から変えることに
よつて得られる。第2A図にはほぼ三角形又は幾
らか台形状のフインF1が示されており、第2B
図には幾らか放射線状のフインF2が示されてい
る。第2A図及び第2B図の左端において示され
ているように、厳密に直角にではないが、しかし
それと少しだけ異なる角度をもつて窓箔5に向か
つて放射されてきた電子e-は、矩形のフインLに
よれば妨害されたであろうが、この場合にはその
ようなことはない。
更に、上方に向かつて先細になつているフイン
F1及びF2の傾斜部分は、そのフインの頂部へと、
又は頂部に対して数度(3゜)までの小さな角度を
もつて放射されてきた電子e-のフイン表面上での
反射を可能にし、電子の妨害を排除しかつ窓箔5
を通つての透過を可能にする。その結果窓1上で
の熱負荷応力の減少が生じ、同様に高い電流密度
の電子ビームが有害な影響なしに窓を通して配送
される。電子ビームに対面するフインFの表面を
タンタルのような大きな原子番号の材料でもつて
被覆即ちコーテイングすることにより、窓の大気
側への電子ビームの一層良好な反射が得られる。
他方、アルミニウムのような小さな原子番号の材
料でもつて電子ビームに対面するフインFの表面
及び/又は箔の内側を覆うことは、高速電子が停
止するときに発生されるX線が重大な問題となる
場合に、そのX線のレベルを減少させるために使
用される。
第2A図及び第2B図のフインF1及びF2にそ
れぞれ対応している第3A図及び第3B図を参照
するに、窓箔5のフイン側での真空V及び窓の反
対側すなわち露出された側での大気圧Pは、窓箔
5上に長手方向の張力Tを作り出す。この張力は
図示のように、箔5に結果的に“丘及び谷”を作
り出し、フインと箔との間における良好な接触を
妨げている。このことは、Aにおけるようにフイ
ンFの表面接触領域が平坦であることにより一層
悪化される。フインと箔との接触面が比較的大き
な曲率半径R(第3A図及び第3B図)を持ち、
且つ非常になめらかな表面を持つように設計され
たならば、窓箔の浅く湾曲した部分との有効な接
触領域の長さが改善され、また熱伝導性能が改善
されることが見出されている。
ここで、窓箔の成分について見ると、採用され
てきたものはチタン箔であつた。しかし、アルミ
ニウム−チタン又は銅−チタンのような二つの異
なる極端に薄い箔を一諸に接合してバイメタルの
窓箔を構成するならば、高温下での寿命、引張強
度及び導電性についての改良が達成されることが
見出されている。かかるバイタル箔の使用から得
られる利点としては、(1)チタンをベースとする基
材であることによる高い強度、並びに(2)チタンの
みによるよりも3〜15倍又はそれ以上良好な導電
性及び箔5とフインFとの間での真空における良
好なコンダクタンスが含まれる。後者に関して、
高度の真空における箔5とフインFとの間での熱
抵抗は、銅−銅又はアルミニウム−銅界面によつ
て減少される。金や銀は経済的に見て好ましくな
い。
本発明による窓構造の最上の実用性は、第4図
及び第5図において示されている如く、縦方向の
縁部支持部材2と横方向の縁部支持部材7とを持
つ共通の枠に、モジユールのようにして窓を列と
して平行に並べて複数配列して用いることによつ
て与えられる。しかしながら、かかる大きな枠は
使用に際して厳しい圧力負荷を受ける。そこで、
異なる厚さ(この例ではより厚い厚さ)のフイン
として作用する中間の横支柱6が、厳しい圧力負
荷の下での座屈を防止するために、長手方向の縁
部支持部材2の間で、窓構造に沿い且つ窓構造に
接触して周期的に設けられている。横支柱6の周
期の間に、複数の導電性フイン3が設けられて組
合わせられてフインFをなしている。かかる横支
柱6は、第4図及び第5図に示されているよう
に、隣接する窓で縦方向に互い違いに設けられる
のが良く、またそれによる直交電子の妨害が2〜
10%以下にならねばならない。かかる構造は、高
性能動作のための大きな寸法の一つの窓構造にお
いて多数の電子ビームを使用することを可能にす
る。
以上本発明がその好ましい実施例に対する応用
に関連して記述されてはいるが、本発明による改
良は、かかる改良の利点が求められる他の応用に
おいても使用できること、そして本発明の重要な
技術を実施するための機械的構成及び修正をそれ
自体当業者に対して示唆していること、従つて、
かかる修正は特許請求の範囲に規定されている本
発明の精神及び範囲内にあることは明らかであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1A図及び第1B図は、本発明にとつて特に
有用な2つの型式のフインを実施している窓の部
分平面図であり;第2A図及び第2B図は、第1
図のフインの拡大断面図であつて、特に、代替可
能な断面状構成を例示している図であり;第3A
図及び第3B図は、窓のフインと金属性箔との間
の接触界面を示す、第2Aおよび第2B図に類似
の図であり;第4図は、第1図のフイン構造の1
つを用いた大きな窓を示す平面図であつて、特に
横支柱が構造上の一体性のために付加されている
図であり;第5図は、本発明に従つて構成された
大きな窓構造を部分的に破断して示す斜視図であ
る。 F,F′:フイン、1:窓、2:絶縁支持部材、
3,4:導電性フイン、5:窓箔、6:横支柱、
7:縁部支持部材。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 排気型電子ビーム発生器などのための大電力
    用窓であつて、真空室を閉鎖して長手方向に延在
    している金属性の窓箔と、真空圧によつて前記窓
    箔の内面に対して保持され、連続的かつ平行に近
    接して正確に延在された導電性フインの組の複数
    からなる列の一以上とからなり、導電性フインは
    窓箔の長手の縁部間で前記内面を横方向に横断し
    て湾曲していることを特徴とする大電力用窓。 2 前記導電性フインの曲線は、少なくとも1部
    分がC字又はS字形状からなつていることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の大電力用
    窓。 3 前記導電性フインの断面は、前記窓箔から前
    記真空室の内方に向かつて先細になつていること
    を特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の大電
    力用窓。 4 前記導電性フインは断面がほぼ放物線状であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載
    の大電力用窓。 5 前記導電性フインは、ほぼ三角形又は台形状
    の断面であることを特徴とする特許請求の範囲第
    3項に記載の大電力用窓。 6 前記複数の導電性フインは、異なる厚さの断
    面のフインを含んでいることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項に記載の大電力用窓。 7 前記導電性フインの少なくとも1部分は、電
    子ビーム反射性能を増大させるために原子番号の
    高い元素でもつて覆われていることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載の大電力用窓。 8 原子番号の高い元素はタンタルであることを
    特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の大電力
    用窓。 9 前記導電性フインの1部分は、前記フインと
    電子との接触によるX線発生を減少させるために
    原子番号の低い元素でもつて覆われていることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の大電力
    用窓。 10 前記原子番号の低い元素はアルミニウムで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第9項に記
    載の大電力用窓。 11 前記窓箔は、該窓箔と電子との接触による
    X線発生を減少させるために電子ビームに対面す
    る表面上に原子番号の低い元素を持つていること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の大電
    力用窓。 12 前記原子番号の低い元素はアルミニウムで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第11項に
    記載の大電力用窓。 13 前記窓箔はバイメタル箔であることを特徴
    とする特許請求の範囲第2項に記載の大電力用
    窓。 14 前記バイメタル箔はチタンを含んでいるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第13項に記載の
    大電力用窓。 15 前記バイメタル箔は銅を含んでいることを
    特徴とする特許請求の範囲第13項に記載の大電
    力用窓。 16 前記窓箔に固定される前記フインの表面
    は、該窓箔の幾らか湾曲された部分に付着するよ
    うに湾曲されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の大電力用窓。
JP61040158A 1985-02-25 1986-02-25 電子ビーム処理装置のための大電力用窓 Granted JPS61195549A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/705,020 US4591756A (en) 1985-02-25 1985-02-25 High power window and support structure for electron beam processors
US705020 1985-02-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61195549A JPS61195549A (ja) 1986-08-29
JPH0574899B2 true JPH0574899B2 (ja) 1993-10-19

Family

ID=24831733

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61040158A Granted JPS61195549A (ja) 1985-02-25 1986-02-25 電子ビーム処理装置のための大電力用窓

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4591756A (ja)
EP (1) EP0195153B1 (ja)
JP (1) JPS61195549A (ja)
CN (1) CN85108631B (ja)
AT (1) ATE43752T1 (ja)
CA (1) CA1229648A (ja)
DE (1) DE3570802D1 (ja)
FI (1) FI81477C (ja)
IL (1) IL75535A0 (ja)
IN (1) IN163830B (ja)

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4801071A (en) * 1987-02-05 1989-01-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method for soldering and contouring foil E-beam windows
US4933557A (en) * 1988-06-06 1990-06-12 Brigham Young University Radiation detector window structure and method of manufacturing thereof
FI88226C (fi) * 1990-05-24 1993-04-13 Tampella Oy Ab Foerfarande foer styrning av en elektronstraole i en elektronaccelerator samt en elektronaccelerator
JPH052100A (ja) * 1990-10-12 1993-01-08 Toshiba Corp 電子ビーム照射装置および電子ビーム透過膜の製造方法
DE4219562C1 (ja) * 1992-06-15 1993-07-15 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
US5478266A (en) * 1993-04-12 1995-12-26 Charged Injection Corporation Beam window devices and methods of making same
US5391958A (en) * 1993-04-12 1995-02-21 Charged Injection Corporation Electron beam window devices and methods of making same
DE4438407C2 (de) * 1994-10-27 1996-09-19 Andreas Dr Rer Nat Ulrich VUV-Lampe
DE19518623C2 (de) * 1995-05-24 2002-12-05 Igm Robotersysteme Ag Wiener N Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen
US5801387A (en) * 1996-03-28 1998-09-01 Electron Processing Systems, Inc. Method of and apparatus for the electron beam treatment of powders and aggregates in pneumatic transfer
US6052401A (en) * 1996-06-12 2000-04-18 Rutgers, The State University Electron beam irradiation of gases and light source using the same
JP2001221899A (ja) * 2000-02-07 2001-08-17 Ebara Corp 電子線照射装置
US20020135290A1 (en) 2001-03-21 2002-09-26 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US7265367B2 (en) * 2001-03-21 2007-09-04 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
EP2080014B1 (en) * 2006-10-24 2016-08-31 B-Nano Ltd. An interface, a method for observing an object within a non-vacuum environment and a scanning electron microscope
US20080296479A1 (en) * 2007-06-01 2008-12-04 Anderson Eric C Polymer X-Ray Window with Diamond Support Structure
US7709820B2 (en) * 2007-06-01 2010-05-04 Moxtek, Inc. Radiation window with coated silicon support structure
US7737424B2 (en) * 2007-06-01 2010-06-15 Moxtek, Inc. X-ray window with grid structure
US20110121179A1 (en) * 2007-06-01 2011-05-26 Liddiard Steven D X-ray window with beryllium support structure
WO2009009610A2 (en) * 2007-07-09 2009-01-15 Brigham Young University Methods and devices for charged molecule manipulation
US9305735B2 (en) 2007-09-28 2016-04-05 Brigham Young University Reinforced polymer x-ray window
WO2009085351A2 (en) * 2007-09-28 2009-07-09 Brigham Young University X-ray window with carbon nanotube frame
EP2190778A4 (en) * 2007-09-28 2014-08-13 Univ Brigham Young CARBON NANO TUBE ASSEMBLY
US8498381B2 (en) 2010-10-07 2013-07-30 Moxtek, Inc. Polymer layer on X-ray window
US8981294B2 (en) 2008-07-03 2015-03-17 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment
SE533567C2 (sv) 2009-03-11 2010-10-26 Tetra Laval Holdings & Finance Förfarande för montering av ett fönster för utgående elektroner och en fönsterenhet för utgående elektroner
US20100239828A1 (en) * 2009-03-19 2010-09-23 Cornaby Sterling W Resistively heated small planar filament
US8247971B1 (en) 2009-03-19 2012-08-21 Moxtek, Inc. Resistively heated small planar filament
US7983394B2 (en) * 2009-12-17 2011-07-19 Moxtek, Inc. Multiple wavelength X-ray source
RU2563963C2 (ru) * 2010-02-08 2015-09-27 Тетра Лаваль Холдингз Энд Файнэнс С.А. Узел и способ для уменьшения складок в фольге
MX2012008598A (es) * 2010-02-08 2012-08-15 Tetra Laval Holdings & Finance Ensamblaje y metodo para reducir arrugas en una lamina metalica en un arreglo circular.
US8526574B2 (en) 2010-09-24 2013-09-03 Moxtek, Inc. Capacitor AC power coupling across high DC voltage differential
US8804910B1 (en) 2011-01-24 2014-08-12 Moxtek, Inc. Reduced power consumption X-ray source
US8750458B1 (en) 2011-02-17 2014-06-10 Moxtek, Inc. Cold electron number amplifier
US8929515B2 (en) 2011-02-23 2015-01-06 Moxtek, Inc. Multiple-size support for X-ray window
US9174412B2 (en) 2011-05-16 2015-11-03 Brigham Young University High strength carbon fiber composite wafers for microfabrication
US8989354B2 (en) 2011-05-16 2015-03-24 Brigham Young University Carbon composite support structure
US9076628B2 (en) 2011-05-16 2015-07-07 Brigham Young University Variable radius taper x-ray window support structure
US8761344B2 (en) 2011-12-29 2014-06-24 Moxtek, Inc. Small x-ray tube with electron beam control optics
JP2016513349A (ja) 2013-02-20 2016-05-12 ビー−ナノ リミテッド 走査型電子顕微鏡
US9173623B2 (en) 2013-04-19 2015-11-03 Samuel Soonho Lee X-ray tube and receiver inside mouth
US11901153B2 (en) 2021-03-05 2024-02-13 Pct Ebeam And Integration, Llc X-ray machine
CN113658837B (zh) * 2021-08-16 2022-07-19 上海交通大学 一种引导自由电子透过固体的方法及固体结构

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2449872A (en) * 1946-10-04 1948-09-21 Electronized Chemleals Corp Electron discharge vessel
US3440466A (en) * 1965-09-30 1969-04-22 Ford Motor Co Window support and heat sink for electron-discharge device
US3442466A (en) * 1966-04-08 1969-05-06 Tenka Automaten Kirschner & Co Take-up reeling device for safety belts and/or similar appliances
US3702412A (en) * 1971-06-16 1972-11-07 Energy Sciences Inc Apparatus for and method of producing an energetic electron curtain
US3769600A (en) * 1972-03-24 1973-10-30 Energy Sciences Inc Method of and apparatus for producing energetic charged particle extended dimension beam curtains and pulse producing structures therefor
DE2503499A1 (de) * 1975-01-29 1976-08-05 Licentia Gmbh Elektronendurchlaessiges fenster
US4100450A (en) * 1977-02-17 1978-07-11 Energy Sciences Inc. Method of and apparatus for generating longitudinal strips of energetic electron beams
DD138588A1 (de) * 1978-08-29 1979-11-07 Siegfried Panzer Elektronenstrahlaustrittsfenster
US4362965A (en) * 1980-12-29 1982-12-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Composite/laminated window for electron-beam guns

Also Published As

Publication number Publication date
ATE43752T1 (de) 1989-06-15
CN85108631A (zh) 1986-08-20
CN85108631B (zh) 1988-04-20
FI81477C (fi) 1990-10-10
IL75535A0 (en) 1985-10-31
EP0195153B1 (en) 1989-05-31
EP0195153A2 (en) 1986-09-24
FI852384A0 (fi) 1985-06-14
FI81477B (fi) 1990-06-29
US4591756A (en) 1986-05-27
IN163830B (ja) 1988-11-19
JPS61195549A (ja) 1986-08-29
EP0195153A3 (en) 1987-01-21
FI852384L (fi) 1986-08-26
CA1229648A (en) 1987-11-24
DE3570802D1 (en) 1989-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0574899B2 (ja)
US3566958A (en) Heat sink for electrical devices
US3837924A (en) Solar array
US3657466A (en) Superconductors
US8421042B2 (en) Electron beam emitter
US5506032A (en) Structural panel having integral heat pipe network
US6800989B2 (en) Method of forming filament for electron beam emitter
JPS62500132A (ja) 電気ヒ−タ
US4421628A (en) Rectangular target plate for cathode sputtering apparatus
US4731804A (en) Window configuration of an X-ray tube
US3482198A (en) Photosensitive device
US3112185A (en) Electron discharge devices and materials therefor
US5400004A (en) Distributed window for large diameter waveguides
US5274304A (en) Helix type traveling wave tube structure with supporting rods covered with boron nitride or artificial diamond
US5313179A (en) Distributed window for large diameter waveguides
US3088989A (en) Vzzzzzzm
US4573872A (en) High temperature heat resistant structure
FR2362487A1 (fr) Multiplicateur d'electrons a structure de confinement de faisceaux
US3143684A (en) Composite metallic electrode material and electrodes made therefrom
US3641380A (en) Anode electrode for electron discharge device
JP2982760B2 (ja) 進行波管のコレクタ
EP0184250A2 (en) Electron-beam-pumped semiconductor laser and array
IT8322168A1 (it) Assorbitore piano per collettore solare, il suo procedimento di fabbricazione, e collettore utilizzante un tale assorbitore
EP0080129B1 (en) A gas cooler assembly
US3356867A (en) Thermal and electrical insulating means

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees