JPH0576450B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は、ビフエニル体の製造法に関するもの
である。 （従来の技術） 耐熱性、耐薬品性、機械特性、電気特性に非常
に優れ、電子産業、航空宇宙産業、重電機産業分
野等まで広く採用されているポリイミドの原料で
あるビフエニルテトラカルボン酸二無水物等のビ
フエニルは、高温、高圧下で、金属触媒を用い、
ベンゼン、又はその誘導体から得られているが、
高温、高圧下での反応なので安全上、エネルギー
消費の点、及び高価な金属触媒を用いる点等問題
が多い。 （発明の目的） 本発明の目的は、高温、高圧を必要としないビ
フエニル体の製造法を提供するものである。 （発明の構成） 本発明は、一般式

【式】 （ここでR₁はＨ、またはC₁〜C₄のアルキル基
またはアリール基である） で示されるα−アゾヒドロペルオキシドおよび酸
化剤を芳香族炭化水素の基質に溶解させ、α−ア
ゾヒドロペルオキシドをカジカル分解するに必要
な光及び／又は熱を加えることを特徴とするビフ
エニル体の製造法である。α−アゾヒドロペルオ
キシドは、例えば、対応する芳香族ヒドラジンと
アルデヒドを縮合させ、更に酸化させて得られ
る。本発明で使用される酸化剤としては、基質に
溶解するものが用いられ、ベンゾキノン、ナフト
キノン、アントラキノン等のキノンが好ましい。
使用量はα−アゾヒドロペルオキシドに対して、
0.5〜４倍量（当量）が好ましい。光照射は、高
圧水銀灯、メタルハライドランプ、螢光灯等で行
うことが出来、波長は一般に3000Å以上が好まし
く、更に、3200〜4200Åが好ましい。最適波長
は、α−アゾヒドロペルオキシドの種類によつて
異なる。加熱は基質の沸点以下の温度で行われ
る。光照射、加熱によりα−アゾヒドロペルオキ
シドがラジカル分解し、アリール（aryl）ラジカ
ルが発生する。α−アゾヒドロペルオキシドの基
質中での濃度は、10^-3〜１モル／が使用され、
５×10^-1〜２×10^-2モル／が好ましい。反応
は、α−アゾヒドロペルオキシドが分解して発生
するラジカル（アリール（aryl）ラジカル）に対
し、不活性な気体、例えばアルゴン、窒素、ヘリ
ウム中で、又脱気下で行われる。本発明の反応は
常圧で行うことが出来、高温、高圧を必要としな
い。 （発明の効果） 本発明は、α−アゾヒドロペルオキシドを芳香
族炭化水素基質中で酸化剤の存在下光照射及び／
又は加熱することによりビフエニル体を製造する
ものであり、高温、高圧を必要としないので、安
全上も、エネルギー消費の点でも問題がない。又
高収率である。 実施例 オルソキシレン中に、

【化】 で示されるα−アゾヒドロペルオキシドを10^-2
Ｍ／、1.4ナフトキノンを２×10^-2Ｍ／溶解
した溶液を、アルゴン雰囲気下、沸点で６時間還
流し、α−アゾヒドロペルオキシドが消失するま
で反応を行い、３，４，3′，4′テトラメチルビフ
エニルを得た。収率（α−アゾヒドロペルオキシ
ドの量に対して）は60％であつた。２，３，3′，
4′テトラメチルビフエニルも同時に生成したが、
再結晶法で、３，４，3′，4′テトラメチルビフエ
ニルを分離した。尚、1.4ナフトキノンを加えな
い場合の３，４，3′，4′テトラメチルビフエニル
の収率は30％であつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 【式】 （ここでR₁はＨ、またはC₁〜C₄のアルキル基
   またはアリール基である） で示されるα−アゾヒドロペルオキシドおよび酸
   化剤を芳香族炭化水素の基質に溶解させ、ついで
   前記α−アゾヒドロペルオキシドをラジカル分解
   するに必要な光および／または熱を加えることを
   特徴とするビフエニル体の製造法。