JPH0576451B2 - - Google Patents

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JPH0576451B2
JPH0576451B2 JP8726284A JP8726284A JPH0576451B2 JP H0576451 B2 JPH0576451 B2 JP H0576451B2 JP 8726284 A JP8726284 A JP 8726284A JP 8726284 A JP8726284 A JP 8726284A JP H0576451 B2 JPH0576451 B2 JP H0576451B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
azohydroperoxide
reaction system
reaction
biphenyl compound
producing
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP8726284A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60228428A (ja
Inventor
Takahiro Tezuka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication of JPS60228428A publication Critical patent/JPS60228428A/ja
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明は、ビフエニル体の製造法に関するもの
である。 (従来の技術) 高分子化学原料等に利用されるビフエニルは、
高温、高圧下で、金属触媒を用い、ベンゼン、又
はその誘導体から得られているが、高温、高圧下
での反応なので、安全上、エネルギー消費の点、
及び高価な金属触媒を用いる点等問題が多い。 (発明の目的) 本発明の目的は、高温、高圧を必要としないビ
フエニル体の製造法を提供するものである。 (発明の構成) 本発明は、一般式
【化】 (ここでR1はH、またはC1〜C4のアルキル基
またはアリール基である) で示されるα−アゾヒドロペルオキシドおよび酸
化剤を芳香族炭化水素の基質に溶解させ、α−ア
ゾヒドロペルオキシドをラジカル分解するに必要
な光及び/又は熱を加え、α−アゾヒドロペルオ
キシドが消失してから、反応系内に酸素を導入す
ることを特徴とするビフエニル体の製造法であ
る。α−アゾヒドロペルオキシドは、例えば、対
応する芳香族ヒドラジンとアルデヒドを縮合さ
せ、更に酸化させて得られる。光照射は、高圧水
銀灯、メタルハライドランプ、螢光灯等で行うこ
とが出来、波長は一般に3000Å以上が好ましく、
更に、3200〜4200Åが好ましい。最適波長は、α
−アゾヒドロペルオキシドの種類によつて異な
る。光照射の場合温度は、任意の温度で良く、常
温で行われる。加熱は、基質の沸点以下の温度で
行われる。光照射、加熱によりα−アゾヒドロペ
ルオキシドがラジカル分解し、アリール(aryl)
ラジカルが発生する。α−アゾヒドロペルオキシ
ドの基質中での濃度は、10-3〜1モル/が使用
され、5×10-2モル/が好ましい。反応は、α
−アゾヒドロペルオキシドが消失するまで行わ
れ、光照射の場合10-2モル/のとき2〜10時間
程度である。濃度を薄くすると反応時間は短くて
良く、濃くすると長くなる。反応は、α−アゾヒ
ドロペルオキシドが分解し発生するラジカル(ア
リール(aryl)ラジカル)に対し不活性な気体、
例えばアルゴン、窒素、ヘリウム中で、又脱気下
で行われる。α−アゾヒドロペルオキシドが消失
してから、反応系内に酸素を導入する。純水な酸
素でも良く、空気でも良い。気泡として反応系内
に導入するのが好ましい。酸素の導入によつて、
副生成物として生成しているジヒドロビフエニル
体がビフエニル体に変わる。本発明は、大気圧で
反応が行われ、高温、高圧を必要とせず、又無
水、無触媒で行うことが出来る。 (発明の効果) 本発明は、α−アゾヒドロペルオキシドを芳香
族炭化水素基質中で、光照射及び/又は加熱後、
α−アゾヒドロペルオキシドが消失してから、反
応系内に酸素を導入することによりビフエニル体
を製造するものであり、高温、高圧を必要としな
いので、安全上も、エネルギー消費の点でも問題
がない。又、収率もよい。 実施例 オルソキシレン中に、
【化】 で示されるα−アゾヒドロペルオキシドを10-2
M/、溶解した溶液を、アルゴン気流下で、高
圧水銀灯にてパイレツクスガラスを通して6時
間、室温で外部光照射した後、反応系内に2時間
酸素の散気を行い、3,4,3′,4′テトラメチル
ビフエニルを得た。収率(α−アゾヒドロペルオ
キシドの量に対して)は80%であつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 【化】 (ここでR1はH、またはC1〜C4のアルキル基
    またはアリール基である) で示されるα−アゾヒドロペルオキシドおよび酸
    化剤を芳香族炭化水素の基質に溶解させ、ついで
    前記α−アゾヒドロペルオキシドをラジカル分解
    するに必要な光および/または熱を加え、その後
    反応系内に酸素を導入することを特徴とするビフ
    エニル体の製造法。
JP8726284A 1984-04-27 1984-04-27 ビフエニル体の製造法 Granted JPS60228428A (ja)

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