JPH057754A - 気液接触装置 - Google Patents

気液接触装置

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JPH057754A
JPH057754A JP3167068A JP16706891A JPH057754A JP H057754 A JPH057754 A JP H057754A JP 3167068 A JP3167068 A JP 3167068A JP 16706891 A JP16706891 A JP 16706891A JP H057754 A JPH057754 A JP H057754A
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JP
Japan
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liquid
casing
gas
air
disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP3167068A
Other languages
English (en)
Inventor
Chikashi Inasumi
近 稲住
Masayoshi Ichiki
正義 市来
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Kanadevia Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp, Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Zosen Corp
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Publication of JPH057754A publication Critical patent/JPH057754A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/006Baffles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/0066Stirrers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 気液接触装置 【目的】 気体と液体の量のバランスをさせ易くする。
気体と液体を効率よく接触させる。 【構成】 ケーシング11内にロータ12を収める。ケーシ
ング11は、前後方向にのびた水平円筒状胴壁21を有す
る。ロータ12は、胴壁21の軸心と同心状に配置された水
平回転軸31およびこれに前後方向に間隔をおいて取付け
られている複数の多孔体製垂直状円盤32よりなる。最前
端の円盤32から最後端の円盤32まで各円盤32を順次通過
させながら気体を移送する。ケーシング11内に各円盤32
の先端部を浸漬させる液溜め13を形成するようにケーシ
ング11の前端部から液体を供給し、ケーシング11の後端
部から液体を排出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、道路トンネルの換気
空気のように、比較的低濃度のNOxを含む空気の浄化
装置において、ゼオライトによる空気の脱硝効率を高め
るために、空気を冷却脱湿するために用いられる気液接
触装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の従来装置としては、図6に示す
ように、塔状ケーシング61内の高さの中程に充填物62が
配置され、ケーシング61周壁の下端近くに温風入口63
が、ケーシング61頂壁中央部に冷風出口64がそれぞれ設
けられ、ケーシング61周壁上端近くに冷水入口65が設け
られるとともに、冷水入口65に、先端散水ノズル66付パ
イプ67の基端が接続され、ケーシング61底壁中央部に温
水出口68が設けられ、冷水と温風を接触させて、温水と
冷風を得るものが知られている。
【0003】また、別の従来装置としては、図7に示す
ように、ケーシング71内に2つの充填物72が上下2段に
配置され、両充填物72の間に中間トレイ73が配置され、
ケーシング71周壁の下端近くに温風入口74が、ケーシン
グ71頂壁中央部に冷風出口75がそれぞれ設けられ、上充
填物72には、トレイ73から上向きにのびて先端散水ノズ
ル76を上充填物72に上方から臨ませた上循環パイプ77が
備えられ、下充填物72には、これの下方から上向きにの
びて先端散水ノズル76を下充填物72に上方から臨ませた
循環パイプ77が備えられているものが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図6に示す装置では、
冷風の温度を極力低く、温水温度を極力高くすることが
望まれる(理想的には、冷風温度と冷水温度が等しく、
温水温度と温風温度が等しいこと)。
【0005】原理的には、塔高Lが十分であれば、上記
理想が達成される。しかしながら、この場合、空気〜水
のバランスの関係で、風量に対する散水量を非常に小さ
くする必要がある。散水量に対し塔径が過大であると、
冷水が塔内に均一に流下せず、気液接触が不十分とな
り、効率的な熱交換が行えない。逆に、通風量に対し塔
径が過少であると、通風の圧力損失が高く、また通風流
速が高くなり、液の吹上げ(フラッティング現象)など
が起こりやすくなる。
【0006】操業条件にもよるが、上記空気〜水をバラ
ンスさせた装置の設計は困難で、現実には冷風温度およ
び温水温度の一方に着目した設計がなされている。
【0007】図7に示す装置では、各段の充填物72毎に
十分に液を循環させることにより、空気〜水をバランス
させているが、中間トレイ73のところの圧力損失が大き
いという問題点がある。また、各段において、液が完全
混合となるので、段数をおおくとらないと、所望の性能
が得られないという問題点がある。
【0008】この発明の目的は、上記問題点を解決した
気液接触装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明による気液接触
装置は、前後方向にのびた水平円筒状胴壁を有するケー
シングと、胴壁の軸心と同心状に配置された水平回転軸
およびこれに前後方向に間隔をおいて取付けられている
複数の多孔体製垂直状円盤よりなるロータと、最前端の
円盤から最後端の円盤まで各円盤を順次通過させながら
気体を移送する気体移送手段と、ケーシング内に各円盤
の先端部を浸漬させる液溜めを形成するようにケーシン
グの前端部に液体を供給し、ケーシングの後端部から液
体を排出する液体移送手段とを備えているものである。
【0010】
【作用】この発明による気液接触装置には、前後方向に
のびた水平円筒状胴壁を有するケーシングと、胴壁の軸
心と同心状に配置された水平回転軸およびこれに前後方
向に間隔をおいて取付けられている複数の多孔体製垂直
状円盤よりなるロータとが備わっているから、各円盤に
対し十分な液を浸漬させても、上記フラッティング現象
を生じることはないし、従来装置の中間トレイのような
ものもないから、圧力損失が小である。
【0011】さらに、同装置には、最前端の円盤から最
後端の円盤まで各円盤を順次通過させながら気体を移送
する気体移送手段と、ケーシング内に各円盤の先端部を
浸漬させる液溜めを形成するようにケーシングの前端部
に液体を供給し、ケーシングの後端部から液体を排出す
る液体移送手段とが備わっているから、ケーシング内を
気体が前から後に流れ、各円盤の先端部を浸漬させなが
ら液溜め中を液体が後から前に流れ、気体と液体の流れ
が向流となる。
【0012】
【実施例】この発明の実施例を、図1〜図5を参照して
つぎに説明する。
【0013】気液接触装置は、図1に示すように、ケー
シング11と、ケーシング11に収められているロータ12と
よりなる。ケーシング11内には液溜め13が形成され、ロ
ータ12の外周面を含む先端部が液溜め13に浸漬されてい
る。
【0014】ケーシング11は、前後方向にのびた水平円
筒状胴壁21と、これの前後両端開口をそれぞれ閉鎖して
い前後端壁22,23とよりなる。胴壁21内面の下端部には
所定間隔で複数の垂直仕切板24が設けられている。前端
壁22の上端近くには温風入口25が、後端壁23の上端近く
には冷風出口26がそれぞれ設けられている。また、冷風
出口26近くの胴壁21前端に冷水入口27が設けられ、前端
壁22の下端に温水出口28が設けられている。
【0015】ロータ12は、胴壁21の軸心と同心状に配置
された水平回転軸31と、複数の仕切板24の隣り合うもの
同し間に位置するように回転軸31に前後方向に間隔をお
いて取付けられている複数の垂直状円盤32とよりなる。
回転軸31は、その長さ方向適所において軸受33で支持さ
れている。
【0016】円盤32は、図2および図3に詳しく示すよ
うに、回転軸31にはめられた取付ボス34と、対をなすも
の同し前後方向に相対するように取付ボス34に放射状に
設けられた複数対のアーム35と、対をなすアーム35の間
に挾まれるように複数対のアーム35の先端に渡し止めら
たリング状保水スポンジ36と、対をなすアーム35の間に
挾まれるように取付ボス34と保水スポンジ36間に配され
て重合わされている複数枚の円環状波付金網37とよりな
る。金網37の枚数は3以上であることが好ましい。ま
た、金網37の目の大きさは10mm以下、最適には3mm以
下であることが好ましい。
【0017】ケーシング11内には、温風が温風入口25を
通じて導入され、冷風が冷風出口26を通じて導出される
ことにより、ケーシング11内には前から後へ向かう空気
流れが生じている。
【0018】一方、冷水入口27を通じてケーシング11内
に冷水が導入され、温水出口28を通じて、冷水供給量に
見合う温水がケーシング11から導出される。これによ
り、液溜め13には、後から前に向かう液体流れが生じて
いる。
【0019】上記のように空気流れおよび液体流れが生
じた状態でロータ12を回転させると、ロータ12の先端部
が液体溜め13に順次浸漬されることにより、ロータ12に
冷水(場所によっては温水)が保持され、ロータ12の回
転にしたがってロータ12を伝って冷水が流下する間に、
温風と接触して熱交換され、温風が冷風となる。
【0020】図4および図5は、円盤の変形例を示す。
【0021】この変形例による円盤42は、回転軸31には
められた取付ボス44と、取付ボス44に放射状に設けられ
た複数のT字状アーム45と、各アーム45の基部を挾み付
けている一対のL字状ブラケット46と、複数のアーム45
の隣り合うもの同しの中間に渡されている内外連結部材
47,48と、各アーム45の先端部とブラケット46の先端部
の間に一対の小保水スポンジ51を介して片持ち状に挾み
止められている複数の波付金網52と、各アーム45の先端
に取付けられている複数の大保水スポンジ53とよりな
る。
【0022】この変形例の円盤では、T字状アーム45と
ブラケット46の組合せにより、円盤42の主要骨組み部分
が構成されるため、大径の円盤を形成することが容易で
ある。
【0023】
【発明の効果】この発明によれば、各円盤に対し十分な
液を浸漬させても、上記フラッティング現象を生じるこ
とはないし、従来装置の中間トレイのようなものもない
から、圧力損失が小であるから、各円盤にそって流下す
る液体の量と、各円盤を通過する気体の量をバランスさ
せ易い。
【0024】さらに、ケーシング内を気体が前から後に
流れ、各円盤の先端部を浸漬させながら液溜め中を液体
が後から前に流れ、気体と液体の流れが向流となるか
ら、気体と液体を効率よく接触させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による装置の垂直縦断面図である。
【図2】円盤の一部拡大正面図である。
【図3】円盤の一部拡大断面図である。
【図4】円盤の変形例を示す図2相当の正面図である。
【図5】同変形例を示す図3相当の断面図である。
【図6】従来装置の垂直縦断面図である。
【図7】他の従来装置の垂直縦断面図である。
【符号の説明】
11 ケーシング 12 ロータ 13 液溜め 21 ケーシング胴壁 31 回転軸 32 円盤 42 円盤
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 F28C 1/00 7153−3L F28F 25/08 9141−3L // B01D 53/34 129 A 6953−4D

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 前後方向にのびた水平円筒状胴壁21を有
    するケーシング11と、 胴壁21の軸心と同心状に配置された水平回転軸31および
    これに前後方向に間隔をおいて取付けられている複数の
    多孔体製垂直状円盤32よりなるロータ12と、 最前端の円盤32から最後端の円盤32まで各円盤32を順次
    通過させながら気体を移送する気体移送手段と、 ケーシング11内に各円盤32の先端部を浸漬させる液溜め
    13を形成するようにケーシング11の前端部から液体を供
    給し、ケーシング11の後端部から液体を排出する液体移
    送手段と、 を備えている気液接触装置。
JP3167068A 1991-07-08 1991-07-08 気液接触装置 Pending JPH057754A (ja)

Priority Applications (1)

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JP3167068A JPH057754A (ja) 1991-07-08 1991-07-08 気液接触装置

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JP3167068A JPH057754A (ja) 1991-07-08 1991-07-08 気液接触装置

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JPH057754A true JPH057754A (ja) 1993-01-19

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ID=15842814

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JP3167068A Pending JPH057754A (ja) 1991-07-08 1991-07-08 気液接触装置

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JP (1) JPH057754A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1128327A (ja) * 1997-07-10 1999-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 空気清浄機
CN1104271C (zh) * 1999-10-20 2003-04-02 北京化工大学 离心力场作用下的多级气-液接触装置
CN1118314C (zh) * 1999-10-20 2003-08-20 北京化工大学 离心力场作用下的气-液接触装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1128327A (ja) * 1997-07-10 1999-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 空気清浄機
CN1104271C (zh) * 1999-10-20 2003-04-02 北京化工大学 离心力场作用下的多级气-液接触装置
CN1118314C (zh) * 1999-10-20 2003-08-20 北京化工大学 离心力场作用下的气-液接触装置

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