JPH0578370B2 - - Google Patents

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JPH0578370B2
JPH0578370B2 JP63282597A JP28259788A JPH0578370B2 JP H0578370 B2 JPH0578370 B2 JP H0578370B2 JP 63282597 A JP63282597 A JP 63282597A JP 28259788 A JP28259788 A JP 28259788A JP H0578370 B2 JPH0578370 B2 JP H0578370B2
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JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
mercury
concentration
mercury concentration
hypochlorite
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP63282597A
Other languages
English (en)
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JPH02191526A (ja
Inventor
Masaaki Kawakami
Satoshi Fujii
Hajime Ase
Isamu Komine
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は、ごみ焼却炉等から排出される排ガス
中の水銀濃度を制御する方法に関するものであ
る。 [従来の技術] 次亜塩素酸塩を添加した洗浄液と排ガスを接触
させて、排ガス中から水銀を除去する装置は以前
から考えられており、水銀除去方法に関する発明
として、洗浄液PHを所定の範囲に制御するもの、
次亜塩素酸塩が水銀と最もよく反応すべく、予冷
塔において排ガス温度を下げたのち、洗浄液と接
触させるものなどが提案されているが、いずれ
も、原ガス水銀濃度や原ガス還元成分濃度の変動
に対して、処理ガス水銀濃度を制御するものでは
ない。したがつて、処理ガス水銀濃度が作業環境
基準値(0.05mg/Nm3)を下廻る保証はなく、ま
た、原ガス水銀濃度が低い場合は、過剰な次亜塩
素酸塩を消費する可能性もある。 このようなプロセスに対して、最も一般的な制
御方法としては、処理ガス水銀濃度を計測し、こ
の値と目標値との偏差に応じて、操作量である次
亜塩素酸塩の流量を計算するPID制御方法が考え
られる。 [発明が解決しようとする課題] しかしながら、このPID制御においては、次の
ような問題がある。 (1) 先ず、第1にはプロセスが有するむだ時間に
関するものである。第4図は次亜塩素酸塩の流
量に対する処理ガス水銀濃度のステツプ応答の
一例を示す線図である。第4図によれば、水銀
除去プロセスの動特性は、「むだ時間+一次遅
れ」系で近似できることがわかる。第4図よ
り、むだ時間(L)≒3.5分、時定数(T)=≒6.5分が
求められる。 このように、動特性がL/T≪1でない性質
をもつような制御対象を、汎用のPID制御で制
御することは困難で、PID制御で安定に運転す
るためには制御系のゲインを下げざるを得ず、
そのため偏差の解消に時間がかゝる。 (2) 第2のプロセスの非線形性の問題がある。第
5図は洗浄液中の酸化剤濃度に対する水銀除去
特性を示したもので、洗浄液中の酸化剤濃度が
高いほど水銀除去の割合が低下する非線形性が
あることがわかる。このため、制御系が不安定
にならないように、制御対象である水銀除去プ
ロセスのゲインが高いところで制御装置のゲイ
ンを調整しなければならない。この結果、処理
ガスの水銀濃度が低い領域では制御対象のゲイ
ンが低くなり、閉ループ系の一巡伝達関数のゲ
インが低下し、偏差の解消に時間がかゝる。 本発明は、上記の課題を解決すべくなされたも
ので、閉ループからのむだ時間が除外され、非線
形の問題も解消できる排ガス中の水銀濃度制御方
法をうることを目的としたものである。 [課題を解決するための手段] 先ず、制御対象である洗浄装置の動的モデルを
構成する。洗浄塔を循環している洗浄液ラインの
途中から添加される次亜塩素酸塩は、排ガス中の
水銀を除去する酸化剤となる。したがつて、次亜
塩素酸の流量が洗浄液中の酸化剤の濃度に関与
し、酸化剤が排ガス中の水銀と反応し、洗浄液中
に溶解して除去される。処理ガス中の水銀濃度
は、次亜塩素酸塩の流量、洗浄液中の酸化剤の濃
度と密接な関係があるので、この3つを変数とし
てモデル化すると、一般には非線形系であるた
め、ある定常点回りで線形化した次のように定式
化する。 d/dtx1(t) x2(t)= A・x1(t) x2(t)+b・u(t−L) y(t)=C・x1(t) x2(t) ……[1] x1(t):処理ガス水銀濃度[mg/Nm3] x2(t):洗浄液中の酸化剤濃度[ppm] u(t−L):次亜塩素酸塩流量[c.c./min] y(t):観測量 L:むだ時間[min] A,b,c:パラメータ ここで、処理ガス水銀濃度目標値に、実際値が
追従するように制御装置内に目標値と実際値の偏
差の積分項を導入する。 d/dtx3(t)=r(t)−x1(t) ……[2] x3(t):偏差積分値[mg/Nm3・min] r(t):処理ガス水銀濃度目標値[mg/Nm3] したがつて、[1]、[2]式を合わせた拡大系
は、次のように表現される。
【表】 A ̄
b ̄
〓x(t)〓

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 水銀含有排ガス中の水銀を次亜塩素酸塩を添
    加した洗浄液と接触させて除去し、排出される排
    ガス中の水銀濃度を制御する方法において、 排出される排ガス中の水銀濃度と添加する次亜
    塩素酸塩の流量を測定して洗浄液中の酸化剤濃度
    を測定又は推定し、添加する次亜塩素酸塩の流量
    の変動が排出される排ガス中の水銀濃度変動に影
    響するまでの無駄時間をLとするとき、前記測定
    又は推定量、排ガス中の水銀濃度、次亜塩素酸塩
    流量及び排出される排ガス中の水銀濃度の目標値
    を入力として、前記Lだけ後に排出される排ガス
    中の水銀濃度とその目標値との偏差を数式モデル
    により推定し、前記推定されたLだけ後に排出さ
    れる排ガス中の水銀濃度と目標値との偏差をゼロ
    に制御するように次亜塩素酸塩の流量を操作する
    ことを特徴とする排ガス中の水銀濃度制御方法。 2 数式モデルが線形モデルより構成され、該線
    形モデルのパラメータが排出される排ガス中の水
    銀濃度によつて変化するように構成された請求項
    1記載の排ガス中の水銀濃度制御方法。
JP63282597A 1988-10-11 1988-11-10 排ガス中の水銀濃度制御方法 Granted JPH02191526A (ja)

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