JPH0579976U - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 幅の異なる基板に対してローラの移動等の操
作を行うこと無く搬送することができ、しかも、装置を
停止することなく連続して行うことのできる高効率の基
板洗浄装置を提供することである。 【構成】 回転軸３に、大ローラ６ａ小ローラ６ｂを組
合わせた支持用ローラ６と、小ローラ６ｂと同一直径の
保持ローラ７を取付ける。回転軸３の傾斜角度は、搬送
開始部および終了部で０°、第１傾斜部で０°から３０
°に、洗浄部で３０°、第２傾斜部で３０°から０°に
し、基板を円滑に搬送できるようにする。基板５は、支
持ローラ６に当接して位置決めされるので、基板の幅に
関係無く、他種類の基板に対応することができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、基板を洗浄するための装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】

近年、電子機器の普及に伴い、各種電子機器に合わせて多種多様の基板が提供 されている。このため、各種の基板を、それぞれ高い精度を維持して製造するこ とが要求されている。

【０００３】 この様な基板の製造には、基板の洗浄を行う洗浄工程が設けられている。この 洗浄工程には、搬送部１と洗浄手段２とを有する基板洗浄装置が設けられている 。搬送部１には、図４に示すように、駆動手段Ｍに接続される複数本の回転軸３ が配設され、各回転軸３に一対のローラ４が取付けられている。ローラ４は、直 径の大きい大ローラ４ａと小さい小ローラ４ｂを組合わせて形成され、断面が略 Ｔ字形となる形状となっている。そして、回転軸３には、それぞれの小ローラ４ ｂ，４ｂが対面する様に配設され、搬送路の幅となる大ローラ４ａ，４ａ間の距 離が、基板５の幅と略一致するように取付けられている。

【０００４】 この様な一対のローラ４，４間に基板５が載置されて、搬送方向と一致する基 板側縁部が大ローラ４ａの側面に、また、側縁部近傍の下面が小ローラ４ｂに支 持される。したがって、基板５は、大ローラ４ａによって搬送路での位置決めが 行われている。そして、ローラ４の回転に伴って、基板５が水平方向に搬送され る。この時、搬送部の上方に配設された洗浄手段２から洗浄水を吹き付けること により、基板５の洗浄が行われている。この洗浄水として、不純物が含有されな い純水を使用する等により、基板の精度が維持されている。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来技術では、以下の様な問題がある。

【０００６】 すなわち、基板の種類の多様化により、基板の幅も多種となっている。したが って、１つの搬送部１により多種の基板の洗浄を行うためには、回転軸３を長尺 とし、図４の破線で示す様に、ローラ４ｃを基板５の幅に合わせて移動すること により対応させている。しかし、基板５の搬送距離に合わせてローラ４が多数配 設されているため、全ローラを基板幅に合わせて移動させることは大変な手間と なり、装置を長時間停止させることになる。これでは、幅の異なる基板の洗浄を 連続して行うことができず、製造効率が低下することになる。

【０００７】 また、基板幅と、搬送路幅とが一致しないときには、基板がローラに接触する ことや、搬送路中で左右或いは回転方向への位置がずれる等の問題が起こること になる。基板には、高い精度が要求されるため、位置ずれ等によっても不良品と なる率が高いものとなり、製品生産率が大幅に低下することになる。

【０００８】 本考案は、上記のような従来技術の課題を解決するために提供されたもので、 その目的は、幅の異なる基板に対してローラの移動等の操作を行うこと無く搬送 することができ、しかも、装置を停止することなく連続して行うことのできる高 効率の基板洗浄装置を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

請求項１記載の考案では、基板を搬送するための搬送部と、前記搬送部上の基 板を洗浄するための洗浄部とを備えた基板洗浄装置において、 前記搬送部に、駆動手段に接続された回転軸と、前記回転軸に取付けられ、基 板を側縁部下面および側面から支持し、基板を搬送する支持ローラ、および基板 の下面の一部を保持し基板を搬送する保持ローラとが設けられ、 支持ローラに対して保持ローラを上部方向となるように回転軸が設けられたこ とを特徴とする。

【００１０】 請求項２記載の考案では、請求項１記載の回転軸に角度調節手段を設けたこと を特徴とする。

【００１１】

【作用】

以上のような構成を有する基板洗浄装置の作用は次の通りとなる。

【００１２】 即ち、請求項１記載の考案では、回転軸を傾斜させ、傾斜下方の支持ローラに より基板を支持させることにより、位置ずれを起こすこと無く、多様な幅の基板 に対応して搬送することができる。したがって、基板の種類に関係無く搬送する ことができ、装置を停止させること無く洗浄できる。

【００１３】 請求項２記載の考案では、回転軸に角度調節手段が設けられたことにより、基 板や洗浄液の種類に適宜対応することができる。

【００１４】

【実施例】

以下、本考案の基板洗浄装置の一実施例を図面に基づいて説明する。なお、本 実施例において従来技術と同様の部材に関しては同一の符号を付し、説明は省略 する。

【００１５】 すなわち、本実施例の基板洗浄装置では、図１に示すように、搬送部１の回転 軸３に、直径の大きい大ローラ６ａと小さい小ローラ６ｂを組合わせて断面が略 Ｔ字形に形成された支持用ローラ６と、前記支持用ローラの小ローラ６ｂと同一 直径の保持ローラ７とが一定の間隔で取付けられている。搬送部１は、この様な 回転軸が、搬送開始部、第１傾斜部、洗浄部、第２傾斜部、終了部のユニットに より構成されている。

【００１６】 搬送部１のそれぞれのユニットの回転軸３は、支持ローラ６を支点として保持 ローラ７側が上方となるように傾斜して配設されている。各ユニットは、搬送開 始部が水平方向に対して傾斜角度が０°に、第１傾斜部が傾斜角度０°から１５ °まで緩やかな傾斜状態に、直接洗浄に要する搬送範囲および水切りを行う範囲 の洗浄部が、１５°の一定の傾斜角度に、第２傾斜部が傾斜角度１５°から０° まで緩やかな傾斜状態に、終了部が傾斜角度０°に設定されている。

【００１７】 なお、第１および第２傾斜部では、各回転軸３の傾斜角度が、搬送路の基板５ を円滑に搬送することができる様に調整されている。

【００１８】 この様な構成を有する本実施例の基板洗浄装置では、基板５は搬送部１の開始 部上に載置され、支持ローラ６および保持ローラ７の回転により一定方向に搬送 される。第１傾斜部から洗浄部および第２傾斜部では、支持ローラ６を支点とし て回転軸３に傾斜が設けられているため、基板５の側縁は傾斜の下方となる支持 ローラの大ローラ６ａ側面に確実に当接することになる。また、基板５の下面は 、小ローラ６ｂおよび保持ローラ７に保持される。この状態で傾斜角度が１５° まで搬送された基板は、傾斜角度が１５°に維持された洗浄部の洗浄範囲で洗浄 水が吹き付けられる。さらに、この洗浄水の吹き付け終了後は、同じく傾斜角度 １５°に維持された水切り範囲で、基板上に付着する洗浄水の水滴が傾斜に沿っ て流下して、水切りが行われる。この後、第２傾斜部の回転軸３の角度とともに 基板の傾斜角度が徐々に０°に戻される。

【００１９】 この様な本実施例の基板洗浄装置では、回転軸３を傾斜させ、基板５を支持ロ ーラ６に常時当接させて、確実に支持させることにより、搬送部上の基板が、左 右および回転方向への位置ずれを起こすこと無く、確実に位置決めされる。また 、この時、小ローラ６ｂおよび保持ローラ７により基板５の下面が保持されるた め、基板５を常に安定した状態で搬送し、洗浄することができる。

【００２０】 すなわち、搬送部上の基板の位置決めが支持ローラのみによって行われている ため、基板の幅の種類に関係無く、多種の基板に対応することができ、しかも連 続して洗浄することができる。したがって、本実施例では、製造効率および製品 生産率を大幅に向上することができる。

【００２１】 なお、本考案は上述した実施例に限定されるものではなく、具体的な各部材の 形状および取付け位置等は適宜変更可能である。

【００２２】 例えば、回転軸３を傾斜された状態で設けることに限定されず、回転軸に角度 の調整手段を設けることにより、回転軸の角度を変更自在とすることができる。 これは、例えば、図２に示すように、回転軸３の保持部８に角度調整装置９を設 けることや、また、駆動手段Ｍに角度調整の手段を設けること等により行われる 。これにより、基板を水平状態で洗浄部まで搬送し、洗浄範囲および水切り範囲 で、その都度傾斜させることや、洗浄範囲および水切り範囲で、傾斜と水平の状 態を数回繰り返して行う等も可能となる。さらに、洗浄のためのユニットや水切 りのためのユニットを設け、これらのユニットに一定数量の基板が搬送されると 角度調整装置９等の角度の調整手段により傾斜させ、洗浄や水切りを行うことも できる。したがって、角度の調整手段を設けることにより、基板の種類や洗浄液 等の条件に適宜適応することができ、基板に合わせた最適な洗浄状態とすること ができる。

【００２３】 さらに、支持ローラ６は、図３に示すように、基板５を保持するための小ロー ラ６ａと、基板の側縁部を支持し、且つ基板の搬送方向に回転する回転ローラ１ ０とに分割して設けることもできる。これにより、基板５の下面から保持する小 ローラ６ａおよび保持ローラ７の配設範囲が広くなるので、より多くの種類の基 板に対応することができる。この時、基板５を支持する回転ローラ１０は、回転 することによって基板側縁との摩擦が小さくなり、基板に掛かる負担が軽くなる 。これにより、基板５の側縁部と回転ローラ１０とが接触しても粉塵の発生が皆 無となり、高い精度を維持して製造することができる。

【００２４】 また、１本の回転軸３に取付けられる保持ローラ７は１個に限定されず、複数 設けることにより、広範囲の基板に、確実に対応することができる。

【００２５】 さらに、回転軸３の傾斜は１５°に限定されず適宜変更可能である。さらに、 回転軸の傾斜は支持ローラ６を支点とする他に、駆動手段を支点とすることや、 回転軸の保持ローラ７側端部を支点として、支持ローラ６側を下方向に傾斜させ る等適宜変更可能であり、同様の効果を得ることができる。

【００２６】 ところで、基板５を支持ローラ６に当接されることにより、基板の位置ずれを 修正することができることから、搬送部１に傾斜を設けることは洗浄時に限定さ れない。例えば、搬送部に載置された基板を支持ローラに当接させて位置ずれを 修正した後、再び傾斜角度を０°として洗浄を行っても、位置ずれを起こすこと 無く搬送することができる。さらに、洗浄終了後の乾燥状態となった基板の位置 ずれを修正することにより、確実に次工程に搬送することができる。

【００２７】

【考案の効果】

本考案では、搬送される基板の洗浄を行うときに、基板搬送用ローラの取付け られた回転軸を傾斜させ、一方のローラに支持させることにより、基板の幅の種 類に関係無く、多種の基板を連続して円滑に洗浄することができる。さらに、基 板を左右および回転方向への位置ずれを起こさずに、また、基板に負担を掛ける こと無く搬送することができ、高い精度を維持して洗浄を行うことができる。

【００２８】 したがって、基板洗浄時には、幅の異なる基板に対してローラの移動等の操作 を行うこと無く搬送されて、しかも、装置を停止することなく連続して洗浄が行 われる高効率で高生産性となる基板洗浄装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例である基板洗浄装置の搬送部
を示す正面図。

【図２】角度調整装置の設けられた基板洗浄装置の搬送
部を示す正面図。

【図３】他の実施例の搬送部を示す正面図。

【図４】従来の基板洗浄装置を示す要部拡大正面図。

【符号の説明】

１ … 搬送部 ２ … 洗浄手段 ３ … 回転軸 ４ … ローラ ５ … 基板 ６ … 支持ローラ ７ … 保持ローラ ８ … 保持部 ９ … 角度調整装置 １０ … 回転ローラ Ｍ … 駆動手段

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を搬送するための搬送部と、前記搬
   送部上の基板を洗浄するための洗浄部とを備えた基板洗
   浄装置において、 前記搬送部に、駆動手段に接続された回転軸と、前記回
   転軸に取付けられ、基板を側縁部下面および側面から支
   持し、基板を搬送する支持ローラ、および基板の下面の
   一部を保持し基板を搬送する保持ローラとが設けられ、 支持ローラに対して保持ローラを上部方向となるように
   回転軸が設けられたことを特徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 回転軸に、角度調節手段を設けたことを
   特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。