JPH0580981B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、固体の表面状態に関する測定を行う
分光偏光測定装置に関する。

〔従来の技術と問題点〕

サンプルに光線が当つて反射すると、反射が入
射面に対して平行である（平行反射計数rp）か垂
直である（垂直反射計数rs）かによつてサンプル
の構造によつて左右される偏光状態の変化を生じ
る。

材料の光学的性質は、実指数（屈折率ｎ）と仮
想指数（吸収係数ｋ）とで定義される。薄い材料
の場合は、これに厚さＴというもう１つのパラメ
ータが加わる。多層構造サンプルの場合は、各層
の上の３つのパラメータとサブストレートの２つ
の指数が必要である。この場合は、多層面のすべ
てのパラメータに関する情報を求めたい時は、複
数の相異なる波長を用いなければならない。また
関係者にとつて、周期的現象に基づく測定には、
層の光学的周期というあいまいさがあるというこ
とは周知である。

したがつて、複数の相異なる波長で偏光解折測
定を繰返さなければならない。昔は、レーザ光線
と波長別のフイルターを用いてこれを行つてい
た。

最近、広帯域光源から発生させる光線を利用す
る分光偏光測定装置が開発された。周波数制御モ
ノクロメータを用いて、スペクトルに含まれてい
る波長を解折する。

分光偏光測定法はまた、集積回路の構造工程、
特にガス拡散工程やイオン植え付け工程の監視用
に特に適している。また、固体の表面状態の精密
測定や、固体表面に関する現象（例えば化学的吸
着、吸収）の解折用にも用いられる。

従来の分光偏光測定装置の主要構成要素は次の
とおりである。

− 光源、 − 偏光器を構成要素として備えており、遮光板
で平行処理した偏光光線をスペシメンに斜め入
射照射する第１光学系、 − 検光子を構成要素として備えており、スペシ
メンによつて反射された光線を集光する第２光
学系、 − 該第２光学系の出口に取付けられている光検
知器。

偏光子と検光子の構成要素としての２つの偏光
部材の中に一方が一定速度で回転し、それによつ
て光検知器が受ける光線がこの偏光部材の速度の
倍周波数で振幅変調する。

機能は、光源のレベルまたは光検知器のレベル
で単色にする。すなわち、分光偏光測定装置にお
いては、光源の後または光検知器の前にモノクロ
メータを置く。

従来の分光測定装置はまた、光検知器が受ける
光線の振幅を偏光角度を基準にして測定し、サン
プル表面の情報を取出す電子制御／処理手段を構
成要素として備えている。

分光偏光測定装置の原理は見掛けは簡単であ
る。しかし、レーザ光線を使用しなくなり、広帯
域光源を使用するようになつてその設計は非常に
難しくなつた、複数の個別光学フイルタに代え
て、スペクトル全体にわたつて連続的に機能する
１つのモノクロメータを使用することになつたこ
とも、設計を難しくしている原因になつている。

従来の分光偏光測定装置の主な欠点を挙げれば
次のとおりである。

− 光源側に位置している偏光子を回転させる場
合は、光源の偏光に少しでも不具合があれば測
定が乱される；逆の場合、すなわち検光子を回
転させる場合も同じであり、この場合は、光検
知器の偏光、特にその入光窓の二色性に対する
鋭敏性が測定を乱す。

− 回転体（偏光子または検光子）は、可変偏光
角を生じるのみならず、光線をわずかに方向変
化させ、それによつて光線が円軌道を描いて回
転する。この現象は、１つだけの波長に対して
は補正できるが、広光学帯域で調節するモノク
ロメータを使用する場合は補正できない。

本発明は、これらの欠点を解消し、従来の分光
偏光測定装置にはなかつた様々な利点を備えてい
る分光偏光測定装置を提供することを目的とす
る。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の分光偏光測定装置においては、第１光
学系に回転偏光子を備える場合は、光源と第１光
学系との間に少なくとも１本の光フアイバーを備
え、光検知器の回転検光子を備える場合は第２光
学系と光検知器との間に、少なくとも１本の光フ
アイバーを備える。言い換えれば、回転偏光させ
る光学系と光源あるいは光検知器との間に第１光
フアイバーを備える。

光フアイバーは、いわゆる多モード型光フアイ
バーとし、その内部を複数の光路として偏光攪拌
を行う。

かくして、光源の異方性を補正するかたまは光
検知器、特にその入光窓の異方性を補正する。光
検知器の入光窓は水晶である場合が少なくなく、
広帯域光源を使用する光子カウント式光増倍管の
場合は複屈折を起こす。

光フアイバーの寸法条件によつて偏光攪拌エフ
エクトが左右される。光フアイバーの長さは約１
〜10mとしなければならない。このモード攪拌な
らびに他の必須条件を考慮すれば、光フアイバー
の直径は、数百μｍとすることが望ましいことが
分る。

発明の分光偏光測定装置の１つの特徴として
は、さらに、別の光学系と光検知器あるいは光源
との間に、少なくとも１本の第２光フアイバーを
備える。

本発明の分光偏光測定装置の利点については後
述する。

分光偏光測定装置においては、定速回転させな
い方の偏光部材を例えばステツピング・モータで
方向調節する。この場合は、残留偏光によるエフ
エクトはそれほど重要ではなくなるが、方向を段
階的に調節する時に第２光フアイバーの使用によ
る利点が引出される。

本発明の第１実施態様の分光偏光測定装置にお
いては、光源は広帯域光源であり、電子手段で調
節するモノクロメータが光検知器の前にある。

この場合は、光源と、定速回転偏光子付き第１
光学系との間に第１光フアイバーを備える。モノ
クロメータが光検知器側にある時は、第１光フア
イバーは光源側にある。

この場合は、第２光学系とモノクロメータとの
間にある第２光フアイバーが、後記の円上の光点
の回転の問題の解決を著しく容易化する。すなわ
ち、この光点の円運動包絡線の像を第２光フアイ
バーに入れ、光フアイバーの出口から出る光線を
すべてモノクロメータに入れるだけでよい。

本発明の第２実施態様の分光偏光測定装置にお
いては、広帯域光源と第１光学系との間にモノク
ロメータを備え、回転検光子付き第２光学系と光
検知器との間に第１光フアイバーを備える。この
場合も、モノクロメータが光源側にある時は、第
１光フアイバーは光検知器側にある。ただし、第
１実施態様の分光偏光測定装置も、第２実施態様
の分光偏光測定装置も、これと異なる配置にする
ことが可能である。

第２実施態様の分光偏光測定装置においては、
第２光フアイバーを、当然モノクロメータと第１
光学系との間に備える。この第２光フアイバー
は、モノクロメータの出側と第１光学系との間の
開度整合を行う働きをする。モノクロメータをス
ペクトル掃引（balayage spectral）する時は、
出光線の方向と出発点が少し移動する。

本発明の特に好ましい１つの実施態様の分光偏
光測定装置においては、光源を、高圧キセノンア
ーク電球とし、光検知器を光子カウント式光増倍
管とし、モノクロメータをダブルプリズム式モノ
クロメータとする。

分光偏光解折器には、一般的に、サンプル表面
の色々な点を解折するために、第１，第２光学系
との関係においてサンプルを精密移動させる手段
を備えている。

光フアイバーを用いることによつて、また、光
源、モノクロメータ、光検知器ならびに電子制
御／処理手段を、少なくとも部分的に、１つのフ
レームにおいて、すなわちサンプルから一定間隔
だけ隔てて接続することができる。

さらに、１つのサンプルと２つの光学系とから
成る複数の集合体を、光フアイバーによつて、こ
のフレームを、すなわち、一般的には、光源、モ
ノクロメータ、光検知器ならびに電子制御／処理
手段を構成要素として備えている共通部分に時間
多重方式で接続することができる。

従来は、光信号の不可避の減衰という理由か
ら、また信号を光フアイバーに入れてそこから出
すという光学的制約条件を考慮して、分光偏光測
定装置の内部で光フアイバーが使用されるという
ことはなかつた。また分光偏光測定装置の調節の
複雑さということも、考慮しなければならない。

これに対して、本発明の分光偏光測定装置にお
いては、少なくとも１か所において、好ましくは
２か所において、光フアイバーを用い、光フアイ
バーの使用に伴う難点を相殺して余りある利点を
光フアイバーから引出す。

〔実施例〕

本発明の前記以外の特徴、利点は、添附図面
を、参照しながら以下に行う発明内容の詳述を通
して明らかになろう。

添附図面は、本明細書本文の不可分の一部であ
り、発明内容を理解するうえで参照すべきもので
ある。

従来のタイプの分光偏光測定装置の原理図を第
１図に示す。

電源１が光源２（例えば高圧キセノンアーク電
球）に接続している。第１光学系１０に、光源２
から発した光線を、好ましくはサンプルの面に対
して平行な面内において２つの直交方向に移動自
在である載物台４０上に載せたサンプル４を照射
する光線に変換する偏光子１５がある。

有効光線は、サンプル４の表面に対する垂線を
中心にして入射光線と対称であるサンプルからの
反射光線である。

この反射光線が検光子２５付き第２光学系２０
へ送られ、そこから、モノクロメータ６（この実
施態様においてはダブルプリズム式モノクロメー
タ）の入光窓へ送られる。モノクロメータ６の出
光窓から出た光線は、増幅器を従えている光増倍
管である光検知器７へ送られ、広帯域光子カウン
テイングが行われる。

第１図に示す分光偏光測定装置の偏光子１５
は、例えば40Hzの周波数に相当する速度で定速回
転する。検光子２５は、ステツピング・モータに
よつて約1/100度単位の精度で方向調節する。

電子制御ユニツト８が、 − 偏光子１５に働きかけて、これを連続回転さ
せる、 − 載物台４０に働きかけて、そのＸ−Ｙ定置を
行う、 − 検光子２５に働きかけて、ステツピング・モ
ータを介してその方向調節を行う、 − モノクロメータ６に働きかけて、その波長を
設定する、 − 光検知器７から出た信号は回路８に印加され
る。回路８は、偏光子１５の回転に関連してこ
の信号を格納し、またサンプルの位置、検光子
の位置、測定波長などの他のデータを格納す
る。

これらの情報が、場合によつては電子制御ユニ
ツト８で前処理された後、マイクロコンピユータ
９へ送られ、マイクロコンピユータ９が同情報か
ら必要情報を生成し、続いて、光点が当つた位置
を基準としたサンプルの表面あるいはまたは多層
構造の状態の特性曲線をプロツトする。

第１図から、光源から光検知器に至るまでの光
学構成要素は、すべてサンプル４に対して厳密に
設定した位置に配置しなければならいことが分か
る。場合によつては、炉内部で展開している現象
を動的に観察したいということもある。しかし、
前記の位置上の制約条件があるために、分光偏光
解折器ではこの観察を行うことができない。した
がつて、サンプルを炉から取出して載物台の上に
置かなければならない。

さらに、第１図に示す分光偏光測定装置は、キ
セノンアーク電球である光源の残留偏光の影響を
受ける。また偏光子１５の回転時の光点の円運動
の影響を受ける。光点の円運動は、方向調節自在
である検光子２５によつてある程度増幅される。

光源２の残留偏光は、電子制御ユニツト８によ
る実測値の処理を乱す。この光点の回転に対処す
べく、光線をモノクロメータ６の入光窓に当てる
という妥協策がとられている。

本発明はこのような現状を改善しようとするも
のである。本発明の第１実施態様の分光偏光測定
装置を第２図に示す。

キヤノン電球２−１の電源１、マイクロプロセ
ツサ８、モノクロメータ６−１、光増倍管７−
１、その増幅器、または場合によつてはマイクロ
コンピユータ９が１つのフレームに取付けえられ
ている。本発明の第１実施態様の分光偏光解折器
の構成要素は、その必要性がある場合は数字１を
後に添えた番号で示し、第２実施態様の分光偏光
測定装置の構成要素は、数字２を後に添えた番号
で示す。

光源２−１から発した光線は、レンズ３を通し
て光フアイバー３−１の入側カプラー３１へ送ら
れる。

光フアイバー３−１は、光フアイバーの出側カ
プラー１１、レンズ１２、平行処理遮光板１１に
ならびに回転偏光子１５から成る光学系１０−１
に接続している。

偏光子１５から出た平行光線が、サンプル４−
１（例えば集積回路）が入つている収容体４１の
壁面に設けられている入光窓４３に当る。

サンプル４−１から反射された光線は、収容体
４１の壁面に設けられている出光窓４２を通つて
第２光学手段２０−１の検光子２５に当る。レン
ズ２６が、偏光子２５を通過した光線を第２光フ
アイバー５−１の入側カプラー２７に当てる。

第２光フアイバー５−１の出側カプラー２８か
ら出た光線は、レンズ２９を通り、モノクロメー
タ６−１の入光窓６０に当る。モノクロメータ６
−１の構成要素は次のとおりである。第１反射鏡
６１、第１プリズム６２、第２反射鏡６３、中間
窓６４、別の反射鏡６５、第２プリズム６６、別
の反射鏡６７、出光窓６８。光増倍管７１と増幅
器７６とで構成されている光検知器７−１が出光
窓に対面している。増幅器７６の出力は、マイク
ロプロセツサを本体とする電子制御ユニツト８に
接続しており、電子制御ユニツト８はマイクロコ
ンピユータ９に接続している。

この分光偏光測定装置は、収容体４１があるた
めに現象の動的観察を行うことができる。これに
関連して述べれば、光フアイバーは大きな可撓性
を備えているために、熱の影響を受けやすい構成
を、前記の１つのフレーム内において熱源から隔
たつた位置に配置することができる。

光フアイバー３−１は、一例として長さ２ｍ、
直径200μｍの、ステツプ型またはグレーデツド
型の１本の多モード光フアイバーである。

この光フアイバーは、キセノン電球２−１によ
る偏光不具合を著しく抑制する、あるいはまた完
全に消滅させる、ということが確認された。

光フアイバーのカプラー３１，１１，２７，２
８は、例えばフランスのメーカ、アリアンス・テ
クニク・インタナシオナル（Alliance
Technique International（ATI））から発売され
ているコネクタとすることができる。

かくして、従来の分光偏光測定装置においては
難点視されていた光フアイバーを備えることによ
つて、光フアイバーによる減衰をそれど大きくす
ることなく、光フアイバーを利用することによる
大きなメリツトを確保できるということが確認さ
れた。従来の分光偏光測定装置と違つて、本発明
の分光偏光測定装置においては、光フアイバーを
利用することによつて信号対雑音比の面でメリツ
トを確保することができる。

光フアイバー５−１は、検光子１５の回転によ
る光点の回転ならびに検光子５２による新たな偏
光を計算に入れて、サンプル４−１から反射され
る光線を受ける。この光線を光フアイバーの入側
カプラー２７に集束させ、この回転現象が関与す
る領域全体が、光線が光フアイバー５−１に入る
のを見れるようにするだけでよい。他端のカプラ
ー２８が、レンズ２９を通してほとんどすべての
有効光線を確実に、あらかじめ設定した方向にお
いて入光スリツト６０からモノクロメータ６−１
の中へ送り込む。かようにして、相当な長さの光
フアイバーを使用することによる減衰が、本発明
の設計の効果としての有効信号のレベルの増大に
よつてほとんどが相殺されることになる。

マイクロプロセツサ８とマイクロコンピユータ
９による信号処理は既知の方式で行うが、本発明
の分光偏光解折器においては、進行中の現象を動
的に追従する信号を得ることができる。

場合によつては、第１図の回路構成を逆にする
ことができる、すなわち偏光子１５をステツピン
グモータで方向調節し、検光子２５を連続回転さ
せることができる。

また場合によつては、モノクロメータ６−１を
光検知器７−１のそばではなく、光源と光フアイ
バー３−１との間に配置することもできる。

例えば、静的走査するサンプルのカルトグラフ
イ（cartography）の場合がそうである。次に、
第３図を参照しながらこの場合に適用する本発明
の第２実施態様の分光偏光測定装置について説明
する。

理解しやすくするために、光路は変えず、第２
図と第３図の分光偏光測定装置の間の対称性を考
慮して、フレームとマイクロコンピユータ９を第
３図の右手に置くのがよいと考えた。

先の場合と同様に、キセノン光源２−２の電源
１、モノクロメータ６−２、マイクロプロセツサ
を本体とする電子制御ユニツト８ならびに光検知
器７−２が１つのフレームに取付けられている。

第１図に示す分光偏光測定装置の場合と同様
に、サンプルの表面に対して平行な面内において
Ｘ／Ｙ方向に移動自在な載物台４０の上にサンプ
ル４を置く。

光源２−２から発した光線は、レンズ３０を通
つてモノクロメータ６−２の入光スリツト６０に
当る。モノクロメータ６−２の構成はモノクロメ
ータ６−１と同じである。

モノクロメータ６−１の出光間〓６８から出た
光線はレンズ２９に当り、レンズ２９が第２光フ
アイバー５−２の出側カプラー２８上に結像す
る。

光フアイバーの長さ、直径ならびに構成に関す
る制約条件は第１実施態様の分光偏光測定装置の
場合と同じである。

光フアイバー５−２から出た光線は、カプラー
１１を介して第１光学系１０−２のレンズ１２に
当る。光線は、レンズ１２の後ろにある遮光板１
３によつて平行処理された後ステツピングモータ
で方向調節する偏光子１５に当る。

サンプルによつて反射された光線は第２光学系
の検光子２５に当る。検光子２５の後に遮光板２
４があり、その次にレンズ２６があり、レンズ２
６から出た光線が第１光学系３−２の入側カプラ
ー２７に当る。

光フアイバー３−２の出側カプラー３１はレン
ズ３０に対面しており、レンズ３０が光検知器の
入光窓上に結像する。この入光窓は、マイクロプ
ロセツサ８に接続している増幅器７８を従えてい
る光増倍管７１の入光窓である。

回転検光子２５側にある第１光フアイバー３−
２が、光増倍管７１の水晶搬入光窓が起こす可能
性のある偏光不具合による測定にとつて都合の悪
い作用を減衰させるかまたは完全に消滅させる働
きをする。

第２光フアイバー５−２は、モノクロメータ６
−２の窓６８から出ていく光線の位置や方向のわ
ずかな変化に難無く対応する。この光線が必ずカ
プラー２８に当るようにしさえすれば、入射光線
（この実施態様においては単色）がすべて第１光
学系１０−２に入り、したがつてこの光線がすべ
て、予め設定した方向においてサンプルに当つて
反射する。

先述のごとく、光フアイバー、その入／出側カ
プラーが存在することによる減衰に起因する様々
な不都合に悩まされるのではなく、光フアイバー
の存在による様々なメリツトを確保することがで
きる。

一般的に言つて、方解石製の偏光子と前記の
様々な構成要素を用いれば、230〜930nmのスペ
クトル帯域、さらにはもつと高く3μｍ maxの
スペクトル帯域でこの分光偏光測定装置を使用す
ることができる；ただし、1.1μｍ以上のスペクト
ル帯域で使用できる光子カウント式光増倍管はま
だ開発されていないため、光増倍管に代えて他の
赤外線光検知器を用いる。

先述のとおり、光フアイバーの長さは、少なく
とも１ｍ、好ましくは２〜10ｍないしそれ以上と
することとが望ましい。

光フアイバーの直径は、好ましくは200ミクロ
ン程度とし、モノクロメータの口径が約Ｆ／８の
場合は、光フアイバーの口径はＦ／２とする。こ
の時の中間光学系の倍率は４でなければならな
い。直径200ミクロンの光フアイバーの場合は800
ミクロンの光点（tache）が得られ、その大部分
がモノクロメータの入光間隙に入ることができ
る。

これに対して、直径200ミクロンの光フアイバ
ーは、偏光回転による光点の運動を考慮して、有
効信号を完全に受入れることができる。

光フアイバーの長さに関しては、紫外線を使用
する場合は下限に近くするのがよい。

本発明の分光偏光測定装置で確保できる最高精
度は、それ自体だけでは重要ではない。分光偏光
測定装置の信号を後で処理して使用するにはモデ
リングの技術が必要である、すなわち、サンプル
表面の推定構造のモデルカーブをプロツトし、こ
のカーブと、スペクトル全体にわたつて得られた
実測点とを関係づけなければならない。このよう
な場合、得られた実測信号の信頼度によつてモデ
リングのクオリテイが大きく左右されるというこ
とは関係者にとつて周知である。

本発明はさらに、追跡（トラツキグ）という、
分光偏光測定装置の別の測定方法も容易化する。
この測定方式の場合は、測定中に方向調節自在の
検光子あるいは偏光子固定するのではなく、各波
長ごとに理想的測定が行える位置に移動する。こ
れを在来の装置によつて極めて簡単に行うことが
できる。

第３図に示す実施態様の分光偏光測定装置にお
いては、サンプル表面の色々な点を載物台４０を
移動させて解折する。第２図の実施態様の分光偏
光測定装置の場合も同じであるが、この場合は光
学系１０−１，２０−１を移動させる。光フアイ
バーによつて可能にされるこの移動は第１図の実
施態様の分光偏光測定装置においては行えず、ま
た入射角度を加減することもできない。

分光偏光解折器の基本構成要素を１つのフレー
ム内において統合すれば、マイクロコンピユータ
９を含めてこの基本構成要素を、各々がサンプル
と載物台、あるいはまた炉尚サンプルならびに２
つの光学系１０，２０、光フアイバー３，５から
なる複数の測定集合体に対して共通させて用いる
ことができる。

接続を多重にし、命令を時間多重化し、光フア
イバー光源２に多重係合させ、光フアイバーをモ
ノクロメータの入光窓の前で並置し、光フアイバ
ーの最大長さをそれぞれに合せるだけでよい。こ
れが第２図の実施態様の分光偏光測定装置であ
る。第３図の実施態様の分光偏光測定装置でもそ
うできることは言うまでもない。

第２図の分光偏光測定装置と第３図の分光偏光
解折器は光学的にほぼ対称である。したがつて、
第２図の実施態様の分光偏光測定装置も第３図の
実施態様の分光偏光測定装置も、同時機能設計ま
たは多重モード機能設計にすることができる。

本発明は、上に紹介した実施態様だけに限られ
ることはなく、その特許請求の範囲内においてこ
れ以上にも様々な実施態様が可能であることは言
うまでもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来の分光偏光測定装置の原理図で
ある。第２図は、本発明の第１実施態様の分光偏
光測定装置である。第３図は、本発明の第２実施
態様の分光偏光測定装置である。 １……電源、２……光源、１０……第１光学
系、１７……偏光子、４……サンプル、４０……
載物台、２０……第２光学系、２５……検光子、
６……モノクロメータ、７……光検知器、８……
電子制御ユニツト、９……マイクロコンピユー
タ、２−１……キセノン電球、８……マイクロプ
ロセツサ、６−１……モノクロメータ、９……光
増倍管、２−１……光源、３０……レンズ、３１
……入側カプラー、３−１……光フアイバー、１
０−１……光学系、１１……光フアイバー、１２
……レンズ、１３……平行処理遮光板、４３……
入光窓、４１……収容体、４−１……サンプル、
４１……出光窓、２０−１……第２光学手段、２
６……レンズ、５−１……第２光フアイバー、２
８……出側カプラー、２９……レンズ、６６……
入光窓、６−１……モノクロメータ、６１……第
１反射鏡、６２……第１プリズム、６３……第２
反射鏡、６４……中間間隙、６５……別の反射
鏡、６６……第２プリズム、６７……別の反射
鏡、６８……出側間隙、７−１……光検知器、７
１……光増倍管、７６……増幅器、４１……収容
体、３−１……光フアイバー、３１，１１，２
７，２８……光フアイバーカプラー、５−１……
光フアイバー、７−１……光検知器、２４……遮
光板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ イ 光源２； ロ サンプル４に、偏光光線を、斜めに入射させ
   る偏光部材としての偏光子１５を備えている第
   １光学系１０； ハ サンプル４から反射された光を集光する偏光
   部材としての検光子２５を備えている第２光学
   系２０； ニ 前記第２光学系２０の出口に取付けられてい
   る光検知器７； ホ 入射光を分光選択する手段、又は反射光を分
   光分析する手段６；及び ヘ 光検知器７が受光した照射の振幅を、偏光角
   の関数として測定し、サンプルの表面状態に関
   する情報を決定するための電子制御及び電子処
   理手段８，９とを備え、前記偏光部材の一方が
   一定速度で回転させられている分光偏光測定装
   置であつて； 前記第１光学系１０と、前記第２光学系２０の
   うち、偏光部材が回転させられている一方の光学
   系１０−１，２０−２と、光源２−１あるいは光
   検知器７−２との間に、多モードタイプの少なく
   とも１本の第１光フアイバー３−１，３−２が配
   置されていることを特徴とする分光偏光測定装
   置。 ２ 他方の光学系２０−１，１０−２と、光検知
   器７−１あるいは光源２−２との間に、少なくと
   も１本の第２光フアイバーが配置されていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の分光
   偏光測定装置。 ３ 光フアイバー３，５の直径が、約百μｍであ
   り、長さが１〜10ｍであることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項又は第２項に記載の分光偏光測
   定装置。 ４ 回転しない方の偏光部材が、ステツピング・
   モータによつて方向調節されることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記
   載の分光偏光測定装置。 ５ 光源２の広帯域光源であり、前記反射光を分
   光分析する手段が、電子手段で調節されるモノク
   ロメータ６−１であつて、そして光源２−１と、
   回転させられる偏光子を含む第１光学系１０−１
   との間に、第１光フアイバー３−１があることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のい
   ずれかに記載の分光偏光測定装置。 ６ 第２光学系２０−１と、モノクロメータ７−
   １との間に第２光フアイバー５−１が配置されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第５項に記
   載の分光偏光測定装置。 ７ 入射光を分光選択する手段が、前記光源２−
   ２と、第１光学系１０−２との間に配置されたモ
   ノクロメータ６−２であり、回転させられている
   検光子を有する第２光学系２０−２と、光検知器
   ７−２との間に、第１光フアイバー２０−２が配
   置されていることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項乃至第４項のいずれかに記載の分光偏光測定
   装置。 ８ モノクロメータ６−２と、第１光学系１０−
   ２との間に、第２光フアイバー５−２が配置され
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第７項に
   記載の分光偏光測定装置。 ９ 光源が、キセノンアーク電球であり、光検知
   器７が、光子カウント式光増倍管であることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項乃至第８項のいず
   れかに記載の分光偏光測定装置。 １０ 前記入射光を分光選択する手段又は、反射
   光を分光分析する手段がダブルプリズム式モノク
   ロメータであることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項乃至第９項のいずれかに記載の分光偏光測
   定装置。 １１ 前記サンプルが、第１および第２光学系に
   関して精密に移動させられる手段に載置されてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第
   １０項のいずれかに記載の分光偏光測定装置。 １２ 光源２、前記入射光を分光選択する手段又
   は反射光を分光分析する手段６、光検知器７なら
   びに電子制御及び電子処理手段８，９が、１つの
   フレームにおいて接続されていることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項乃至第１１項のいずれか
   に記載の分光偏光測定装置。 １３ 前記光フアイバーは、複数のサンプルと光
   学系の集合を、光源２、入射光を分光選択する手
   段又は反射光を分光分析する手段６、光検知器７
   ならびに電子制御及び電子処理手段８，９から成
   る共通部分に時間多重方式で接続するように配置
   されていることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項乃至第１２項のいずれかに記載の分光偏光測定
   装置。