JPH0581670A - 薄膜磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】Ｎｉ−Ｐめっき膜２と下地膜３の間のテクスチ
ャ加工に、加水分解を起しやすく、砥粒の分散剤として
使用可能な界面活性剤を加工液に添加し加工する。加工
中に分解生成した有機酸は表面に吸着し、洗浄や成膜前
の汚染から保護され下地膜３、磁性膜４、保護膜５を形
成する。 【効果】新しい表面を現出するまで洗浄する必要がない
ため、洗浄や乾燥が簡素化され、成膜前の保護をする効
果もある

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子計算機やワークステ
ーションなどの外部記憶装置として用いられている磁気
記録媒体の製造方法に係り、特に、製造プロセスの簡素
化と磁気特性を安定して供給する薄膜磁気ディスクの製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁性膜又は下地膜を成膜する基板
表面は、特開昭６３−４２０２７号公報に記載されてい
るように、成膜前に新しい表面を現出させていた。しか
し、新しい表面は活性であるため、自然酸化膜の生成や
吸着汚染などが起きやすい。特に、スパッタ成膜装置の
メンテナンスの都合で一時ストックする必要があり、こ
の保管時に前記のような汚染が生じる。このため、成膜
前にもう一度新しい表面を現出する必要がある。また、
磁気特性や浮上特性などの向上のため、磁気ディスク媒
体の基板面、あるいは基板面上に設けられたＮｉ−Ｐメ
ッキ等の下地膜上に、磁気ディスク媒体の円周方向で、
ほぼ同心円状に加工痕を残す加工（以下テクスチャ加工
と略す）を行う。この後の洗浄では、きれいな表面が現
出しているため乾燥時に染みが発生しやすい。この染み
の発生を防ぐための乾燥設備が、複雑化することと、設
備投資の増大が問題となる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、洗浄
後の表面汚染や乾燥での染みなどを防ぐと共に、成膜前
の基板表面を保護し、新しい表面が現出するまでの洗浄
設備投資を少なくすることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明ではテクスチャ加工中に加水分解を起しやす
く、且つ、砥粒の分散剤として使用可能な界面活性剤を
加工液に添加し、加工中に分解生成した有機酸が加工表
面に吸着し、洗浄後の乾燥や保管中の汚染から保護する
ように製造する。

【０００５】

【作用】テクスチャ加工中には砥粒が基板表面に押しつ
けられ、さらに研磨されるため、局部的に熱が発生す
る。この熱が砥粒の分散剤として使用するエステル系の
界面活性剤に加水分解を起す。研磨によって現出した新
しい表面に、加水分解で生成した有機酸が吸着し、Ｎｉ
−Ｐの表面を保護する。有機酸は金属表面に対して吸着
力が強いため非イオン界面活性剤では完全に除去されに
くい。また、有機酸が吸着した表面は疎水性のため、水
切れが良く染みを発生しないで洗浄後の乾燥が簡単に行
うことが出来る。このため、洗浄も新しい表面を現出す
るまで処理する必要がなく、乾燥時の水切れが良いた
め、洗浄設備の投資も少なくてすむ。

【０００６】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明
する。

【０００７】図１は、本発明の薄膜磁気ディスクの製造
プロセスの一例を示し、図２は、従来の製造プロセスの
一例を示す。

【０００８】従来の薄膜磁気ディスクの製造方法は図２
に示すように、磁性媒体を支えるアルミ合金基板１に適
度な固さを持たせるためのＮｉ−Ｐ下地膜２をめっき
し、境面研磨後洗浄する。この後、ヘッドの浮上特性や
形状的な磁気異方性を付けるため、円周方向にテクスチ
ャ加工を行って洗浄する。洗浄後、磁性媒体の磁気異方
性を付けるための下地膜３、磁性膜４、磁性膜の摩耗を
保護するための保護膜５をスパッタで連続的に成膜し、
ヘッド浮上時に問題となる表面の突起などを無くすため
表面を軽く加工し、摩擦係数を小さくするため潤滑膜６
を塗布後検査して終了となる。

【０００９】本実施例の薄膜磁気ディスクの製造方法は
図１に示すように、アルミ合金基板１にＮｉ−Ｐ下地膜
２をメッキ後境面研磨、洗浄する。次に、本実施例で
は、テクスチャ加工において、エステル系の界面活性剤
を添加した加工液で加工を行って洗浄する。この時、表
面には薄い有機酸が吸着され、洗浄乾燥を容易にする。
また、この皮膜は、スパッタ成膜までの間、保護膜とし
て作用し、スパッタ成膜でこの皮膜は逆スパッタされ除
去される。

【００１０】次に、本実施例と従来の製造方法との違い
について図３、図４を用いて詳細に説明する。図３、図
４は本実施例と従来の製造方法において、加工及び洗浄
の詳細なプロセスを示す。

【００１１】従来の薄膜磁気ディスクの加工及び洗浄プ
ロセスは、図３に示すように、テクスチャ加工の後に洗
剤超音波洗浄を行ない、大方の加工粉や砥粒、加工液を
落とす。次いで、洗剤スクラブ、純水スクラブで殆んど
の異物や加工液を落とし、更に純水超音波、又は、高圧
ジェット洗浄を行ない、スピン乾燥をする。従来の洗浄
プロセスでは仕上面は、異物はもちろん新しい表面が現
れる表面を要求される。このため、図３の洗浄工程で
は、超音波洗浄やスクラブ洗浄のステーションを二、三
段にする必要があった。また、洗浄後の表面は活性状態
であるため、スピン乾燥で染みを発生しやすくなる。更
に、成膜装置のメンテ状態では一時保管する必要があ
り、この時自然酸化膜の生成や吸着汚染がある。このた
め、一時保管した製品はもう一度成膜前に洗浄する必要
がある。また、乾燥で出来た染みは洗浄では落ちないた
め、硝酸などの酸でエッチングするか、乾燥時に染みを
生成しない方法を利用する必要がある。乾燥時に染みを
生成しない方法には、乾燥中の雰囲気を不活性なガス、
例えば、窒素ガスに置換する方法があるが、完全に空気
を遮断するためには設備が高価なものになり煩雑化す
る。

【００１２】本発明の薄膜磁気ディスクの加工及び洗浄
プロセスは、図４に示すように、従来の製造プロセスに
比べ簡素化できる。即ち、テクスチャ加工の後に洗剤超
音波洗浄を行ない、大方の加工粉や砥粒、加工液を落と
す。次いで、洗剤スクラブ、純水スクラブで殆んどの異
物や加工液を落とし、更に純水超音波、又は、高圧ジェ
ット洗浄を行ない、スピン乾燥をする。しかし、本発明
では洗浄プロセスの仕上面は、加工粉や砥粒等の異物は
除去するが、新しい表面を現出するまで洗浄は行わな
い。このため洗浄プロセスにおいて、異物除去に対する
洗浄マージンができ、その結果、超音波洗浄やスクラブ
洗浄のステーションを、図４に示すようなプロセスでも
充分に対応が可能となる。本発明の製造プロセスで特に
特徴的なことは、テクスチャ加工液の砥粒の分散剤とし
て使用する界面活性剤に、加水分解しやすいエステル系
の物を使用していることである。加工液が水溶性と油性
では、分散剤として使用する界面活性剤の種類は多少異
なるが、本発明の製造プロセスでは、加工液に添加する
界面活性剤はエステル系が良い。

【００１３】次に、従来のプロセスに対し本発明の効果
を図５、図６、図７を用いて説明する。

【００１４】図５は、従来及び本発明の製造方法で加工
及び洗浄し、Ｎｉ−Ｐの表面に出来た染みの状態を示
す。従来の方法では放射状の染みが発生するが、本発明
の方法では染みは発生しない。従来の加工後の洗浄方法
では新しい面が現出するため、スピン乾燥中に、空気中
の酸素と水と基板表面の材質が、図６に示すように反応
する。即ち、Ｎｉ−Ｐ基板表面に水が付着している場
合、空気中の酸素が水滴の表面層に溶け込み、その結
果、水滴表面と水滴中央の間で溶存酸素の濃度勾配が出
来る。その結果、基板と水滴表面が接触している近くで
は酸素濃度が高いためカソードとして水酸基イオンを生
成し、酸素濃度が低い水滴中央ではアノードとなり、Ｎ
ｉは酸化反応が起きイオンとして水に溶け出す。水に溶
け出したＮｉイオンは、回転による遠心力で放射状に水
が流れ、乾燥することで化学的に安定した化合物として
析出し、表面に図５に示すような形状の染みが表れる。
しかし、本発明では、表面に有機物が均一に吸着されて
いるため、Ｎｉの酸化反応が起きない。このため染みは
出来ない。

【００１５】図７は、従来及び本発明の製造方法で作成
した薄膜磁気ディスクの磁気特性を示す。評価は、ディ
スク基板に対して円周方向θと半径方向Ｒの、保持力及
び角形比の比較を行なった。先ず、保持力では本発明は
θ方向が約１２００エルステッドと従来の約１１００エ
ルステッドとやや大きく、またＲ方向では逆に本発明は
約８００エルステッドと従来の約１０００エルステッド
より小さい。本発明でθとＲ方向の保持力の差が大きい
ことはそれだけ磁気異方性が強く表れていることを示
し、θに配向が付くことは電磁変換特性などとしては好
ましい。角形比でも同様に、従来と本発明とでは、本発
明のほうがθとＲ方向の差が大きい。この図より、表面
に有機酸が吸着していても磁気特性に悪影響は無く、む
しろ良い方向に向くことが判る。

【００１６】以上の実施例は、油性の加工液を使用し、
添加した界面活性剤は本発明ではソルビタントリオレー
ト、従来ではポリオキシエチレンノニルフェノールエー
テルで評価した一例を示す。また、スパッタ膜は、下地
膜がＣｒ、磁性膜がＣｏ系合金、保護膜がＣで行なっ
た。

【００１７】

【発明の効果】本発明によれば、テクスチャ加工後の洗
浄及び乾燥が大幅に簡素化できる上、吸着した有機酸が
保護膜として働くため安定した製品を供給することが出
来る。また、吸着した有機保護膜はその上に下地膜、磁
性膜を成膜しても磁気特性に悪影響されることはなく、
磁気異方性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す薄膜磁気ディスクの製
造プロセスの説明図、

【図２】従来の薄膜磁気ディスクの製造プロセスの説明
図、

【図３】従来の加工及び洗浄の詳細な製造プロセスのフ
ローチャート、

【図４】本発明の一実施例を示す加工及び洗浄の詳細な
製造プロセスのフローチャート、

【図５】従来及び本発明の加工及び洗浄プロセスで処理
後に、表面に出来た染みの状態を示す説明図、

【図６】染みの生成メカニズムを示す説明図、

【図７】従来及び本発明の製造プロセスで作製した薄膜
磁気ディスクの磁気特性を示す説明図。

【符号の説明】

１…アルミ基板、２…Ｎｉ−Ｐ下地膜、３…下地膜、４
…磁性膜、５…保護膜、６…潤滑膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森口 善弘 神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社 日立製作所小田原工場内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁性媒体を支えるＮｉ−Ｐめっき基板の上
   に、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を順次成膜し、前
   記基板と前記下地膜の間にテクスチャ加工処理を行う薄
   膜磁気ディスクの製造方法において、テクスチャ加工処
   理を行い、表面に薄い有機皮膜を付け、洗浄後の基板表
   面状態を安定にし、自然酸化膜などの汚染を防止するこ
   とを特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方法。
2. 【請求項２】請求項１において、前記有機皮膜が金属表
   面に対し吸着力の強い、極性基を持った有機物を吸着し
   ておく薄膜磁気ディスクの製造方法。
3. 【請求項３】請求項２において、極性基がステアリン
   酸、パルミチン酸、オレイン酸等の有機酸を吸着した薄
   膜磁気ディスクの製造方法。
4. 【請求項４】請求項１において、表面に薄い有機皮膜を
   テクスチャ加工で付ける薄膜磁気ディスクの製造方法。
5. 【請求項５】請求項４において、砥粒を分散すために添
   加する界面活性剤にエステル系の界面活性剤を使用する
   薄膜磁気ディスクの製造方法。
6. 【請求項６】請求項５において、加工液に添加した界面
   活性剤が加工中に加水分解することで、分解生成物の一
   つである酸を吸着する薄膜磁気ディスクの製造方法。
7. 【請求項７】請求項５において、エステル系の界面活性
   剤にソルビタンエステルを使用した薄膜磁気ディスクの
   製造方法。
8. 【請求項８】請求項７において、ソルビタンエステルに
   エステル結合が三つ持った薄膜磁気ディスクの製造方
   法。
9. 【請求項９】請求項１において、洗浄後の表面は疎水面
   である薄膜磁気ディスクの製造方法。
10. 【請求項１０】請求項１において、テクスチャ加工後の
    洗浄は、洗剤超音波洗浄、洗剤スクラブ洗浄、純水スク
    ラブ洗浄、高圧ジェット洗浄又は純水超音波洗浄、スピ
    ン乾燥等の組合せである薄膜磁気ディスクの製造方法。