JPH058199B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH058199B2
JPH058199B2 JP58114313A JP11431383A JPH058199B2 JP H058199 B2 JPH058199 B2 JP H058199B2 JP 58114313 A JP58114313 A JP 58114313A JP 11431383 A JP11431383 A JP 11431383A JP H058199 B2 JPH058199 B2 JP H058199B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
group
salts
acid
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58114313A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS606694A (en
Inventor
Hiroshi Sadaki
Hiroyuki Imaizumi
Takashi Nagai
Kenji Takeda
Isao Myokan
Takihiro Inaba
Yasuo Watanabe
Yoshikazu Fukuoka
Shinzaburo Minami
Isamu Saikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyama Chemical Co Ltd
Original Assignee
Toyama Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyama Chemical Co Ltd filed Critical Toyama Chemical Co Ltd
Priority to JP58114313A priority Critical patent/JPS606694A/en
Publication of JPS606694A publication Critical patent/JPS606694A/en
Publication of JPH058199B2 publication Critical patent/JPH058199B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、新規なセフアロスポリン類、具体的
には、 一般式 式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保
護基を、R2は、式
The present invention provides novel cephalosporins, specifically, the general formula In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, and R 2 represents the formula

【式】または式[expression] or expression

【式】(式中、R6,R7,R8,R9, R10およびR11は、同一または異なつて、水素原
子またはアルキル基を示す。)で表わされる基を、
R3は、水素原子を、R4は、水素原子を、R5は、
保護されていてもよいアミノ基を、−A−は、式
−CH2−または式
[Formula] (wherein R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are the same or different and represent a hydrogen atom or an alkyl group),
R 3 is a hydrogen atom, R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a hydrogen atom,
An optionally protected amino group, -A- is represented by the formula -CH 2 - or the formula

【式】(式中、R12は、 保護されていてもよいカルボキシル基で置換され
ていてもよいアルキル基を示し、〜は、シンまた
はアンチ異性体もしくはそれらの混合物でもよい
ことを示す。)で表わされる基を示す。」 で表わされるセフアロスポリンおよびその塩類に
関する。 而して、本発明の目的とするところは、広範囲
な抗菌スペクトルを有し、グラム陽性菌、グラム
陰性菌に対し優れた抗菌活性を示し、かつバクテ
リアが産生するβ−ラクタマーゼに対しても安定
な性質を有し、人ならびに動物の疾病に対し経口
および非経口で優れた治療効果を発揮する新規な
セフアロスポリンおよびその塩類を提供すること
にある。 本発明のセフアロスポリン類は、セフエム環の
3位エキソメチレン基に、式
[Formula] (In the formula, R 12 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and ~ represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) The group represented by is shown below. ” Concerning cephalosporin and its salts. Therefore, the object of the present invention is to have a broad antibacterial spectrum, exhibit excellent antibacterial activity against Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria, and be stable against β-lactamases produced by bacteria. The object of the present invention is to provide a novel cephalosporin and its salts, which have excellent therapeutic properties for human and animal diseases both orally and parenterally. The cephalosporins of the present invention have the formula

【式】 (式中、R6,R7およびR8は前記した意味を有す
る。)で表わされる6−オキソ−1,6−ジヒド
ロピリミジニル基または式
6-oxo-1,6-dihydropyrimidinyl group or formula represented by [Formula] (wherein R 6 , R 7 and R 8 have the above-mentioned meanings)

【式】 (式中、R9,R10およびR11は前記した意味を有す
る。)で表わされる2−オキソ−1,2−ジヒド
ロピリミジニル基が結合しているところにその特
徴がある。 以下、さらに本発明を詳細に説明する。 本明細書において、特にことわらない限り、ア
ルキルとは、C1〜C14アルキルトル、たとえば、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−プチル、イソプチ、sec−プチル、tert−プ
チル、ペンチル、ヘキジル、ヘプチル、オクチ
ル、ドデシルまたはラウリルなどを;アルコキシ
とは、上で定義したアルキル基を有する−o−ア
ルキルを、低級アルキルとは、C1〜5アルキル、た
とえばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−プチル、イソプチル、sec−プチル、
tert−プチルまたはぺンチルなどを;低級アルコ
シキとは、上で定義した低級アルキル基を有する
−o−低級アルキルを;アシルとは、C1〜12アシ
ル、たとえば、アセチル、プロピオニル、プチリ
ル、ベンゾイル、ナフトイル、ペンタンカルボニ
ル、シクロヘキサンカルボニル、フロイルまたは
テノイルなどを;アシルオキシとは、上で定義し
たアシル基を有する−o−アシルを;アルキルチ
オとは、上で定義したアルキル基を有する−S−
アルキルを;アルケニルとは、C2〜10アルケニル、
たとえば、ビニル、アリル、イソプロペニル、2
−ペンテニルまたはブテニルなどを;アルキニル
とは、C2〜10アルキニル、たとえば、エチニルま
たは2−プロピニルなどを;シクロアルキルと
は、C3〜7シクロアルキル、たとえば、シクロプロ
ピル、シクロプチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシルまたはシクロヘプチルなどを;シクロアル
ケニルとは、C5〜7シクロアルケニル、たとえば、
シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘ
プテニルなどを;アリールとは、たとえば、フエ
ニル、ナフチルまたはインダニルなどを;アリー
ルオキシとは、上で定義したアリール基を有する
−o−アリールを;アルアルキルとは、たとえ
ば、ベンジル、フエネチル、4−メチルベンジル
またはナフチルメチルなどを;アルアルキルオキ
シとは、上で定義したアルアルキル基を有する−
o−アルアルキル基を;複素環式基とは、酸素、
窒素および硫黄から選択された少なくとも1個の
複素原子を含む複素環式基、たとえば、フリル、
チエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリ
ル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリ
ル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサ
ジアゾリル、チアトリアゾリル、オキサトリアゾ
リル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、
4−(5−メチル−2−ピロリニル)、4−(2−
ピロリニル)、N−メチルピペリジニル、ピリダ
ジニル、キノリル、フエナジニル、1,3−ベン
ゾジオキソラニル、ベンゾフリル、ベンゾチエニ
ル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリルまた
はクマリニルなどを;複素環アルキルとは、上で
定義した複素環式基およびアルキル基から成る基
を;ハロゲン原子とは、たとえば、フツ素、塩
素、臭素またはヨウ素原子などをそれぞれ意味す
る。 本明細書中の各一般式におけるR1は、水素原
子またはカルボキシル保護基であり、カルボキシ
ル保護基としては、従来ペニシリンおよびセフア
ロスポリン系化合物の分野で通常使用されている
ものが挙げられる。これらのカルボキシル保護基
としては接触還元、科学的還元またはその他の緩
和な条件下で処理すれば脱離するエステル形成
基、または生体内において容易に脱離するエステ
ル形成基、または水もしくはアルコールで処理す
れば容易に脱離する有機シリル基、有機リン基も
しくは有機スズ基など、またはその他の種々の公
知エステル形成基が挙げられる。 この種の保護基のうち好適な保護基としては、
具体的に次のものが挙げられる。 (イ) アルキル基。 (ロ) 置換基の少なくとも1つがハロゲン、ニト
ロ、アシル、アルコキシ、オキソ、シアノ、シ
クロアルキル、アリール、アルキルチオ、アル
キルスルフイニル、アルキルスルホニル、アル
コキシカルボニル、5−アルキル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル−、1−イ
ンダニル、2−インダニル、フリル、ビリジ
ル、4−イミダゾリル、フタルイミド、スクシ
ンイミド、アゼチジノアジリジノ、ピロリジ
ノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリ
ノ、N−低級アルキルピペラジノ、ピロリル、
ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オ
キサゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリ
ル、オキサジアゾリル、チアトリアゾリル、オ
キサトリアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリ
ル、キノリル、フエナジニル、ベンゾフリル、
ベンゾチエニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾ
チアゾリル、クマリニル、2,5−ジメチルピ
ロリジノ、1,4,5,6 −テトラヒドロピ
リミジニル、4−メチルピペリジノ、2,6−
ジメチルピペリジノ、4−(5−メチル−2−
ピロリニル)、4−(2−ピロリニル)、N−メ
チルピペリジニル、1,3−ベンゾジオキソラ
ニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ア
シルオキシ、アシルチオ、アシルアミノ、ジア
ルキルアミノカルボニル、アルコキシカルボニ
ルアミノ、アルケニルオキシ、アリールオキ
シ、アルアルキルオキシ、シクロアルキルオキ
シ、シクロアルケニルオキシ、複素環オキシ、
アルコキシカルボニルオキシ、アルケニルオキ
シカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニ
ルオキシ、アルアルキルオキシカルボニルオキ
シ、複素環オキシカルボニルオキシ、アルケニ
ルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニ
ル、アルアルキルオキシカルボニル、シクロア
ルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオ
キシカルボニル、複素環オキシカルボニル、ア
ルキルアニリノまたはハロゲン、低級アルキル
もしくは低級アルコキシで置換されたアルキル
アニリノである置換低級アルキル基。 (ハ) シクロアルキル基;低級アルキル置換シクロ
アルキルまたは(2,2−ジ低級アルキル−
1,3−ジオキソール−4−イル)メチル基。 (ニ) アルケニル基。 (ホ) アルキニル基。 (ヘ) フエニル基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換フエニル基、または式 〔式中、−Y1−は−CH=CH−O−、−CH=
CH−S−、CH2CH2S−、−CH=N−CH=
N−、−CH=CH−CH=CH−、−CO−CH=
CH−CO−もしくは−CO−CO−CH=CH−を
示す。〕 で示される基もしくはその置換誘導体(置換基
は前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれ
る)。または式 〔式中、−Y2−は−(CH23−、−(CH24−の
ような低級アルキレン基を示す。〕 で示される基もしくはその置換誘導体(置換基
は前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれ
る)のようなアリール基。 (ト) ベンジルまたは置換基が少なくとも1つの前
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置換
基である置換ベンジルのようなアルアルキル
基。 (チ) 複素環式基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換された複素環式基。 (リ) 脂環インダニル、脂環フタリジルまたは置換
基がメチルもしくはハロゲンであるそれらの置
換誘導体、脂環テトラヒドロナフチルまたは置
換基がメチルもしくはハロゲンであるその置換
誘導体、トリチル、コレステリル、ビシクロ
〔4,4,0〕デジルなど。 (ヌ) 脂環フタリジリデン低級アルキル基または置
換基がハロゲンもしくは低級アルキル基である
それらの置換誘導体。 上で例示したカルボキシル保護基は代表例であ
り、これら以外にも、つぎの文献に記載されてい
る保護基を任意に選択することができる。 米国特許3499909号、3573296号および3641018
号;西独特許公開公報2301014号、2253287号およ
び2337105号。 これらの中で好ましいカルボキシル保護基とし
ては、たとえば、5−低級アルキル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル−低級アルキ
ル基、アシルオキシアルキル基、アシルチオアル
キル基、フタリジル基、インダニル基、フエニル
基、置換基を有するかもしくは有しないフタリジ
リデン低級アルキル基または次の式で表わされる
基のように生体内で容易に脱離する基が挙げられ
る。
It is characterized by the bonding of a 2-oxo-1,2-dihydropyrimidinyl group represented by the formula: (wherein R 9 , R 10 and R 11 have the meanings described above). Hereinafter, the present invention will be explained in further detail. In this specification, unless otherwise specified, alkyl refers to C 1 -C 14 alkyl, for example,
Methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl,
n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, dodecyl or lauryl; alkoxy refers to -o-alkyl having an alkyl group as defined above; lower alkyl refers to , C 1-5 alkyl, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl,
tert-butyl or pentyl; lower alkoxy refers to -o-lower alkyl having a lower alkyl group as defined above; acyl refers to C 1-12 acyl, such as acetyl, propionyl, butyryl, benzoyl, naphthoyl, pentanecarbonyl, cyclohexanecarbonyl, furoyl or thenoyl, etc.; acyloxy refers to -o-acyl having an acyl group as defined above; alkylthio refers to -S- having an alkyl group as defined above;
Alkyl; alkenyl is C 2-10 alkenyl,
For example, vinyl, allyl, isopropenyl, 2
- pentenyl or butenyl; alkynyl refers to C 2-10 alkynyl, such as ethynyl or 2-propynyl; cycloalkyl refers to C 3-7 cycloalkyl, such as cyclopropyl, cycloptyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl etc.; cycloalkenyl means C 5-7 cycloalkenyl, e.g.
cyclopentenyl, cyclohexenyl, cycloheptenyl, etc.; aryl, for example, phenyl, naphthyl or indanyl; aryloxy, -o-aryl having an aryl group as defined above; aralkyl, for example, benzyl, phenethyl, 4-methylbenzyl or naphthylmethyl; aralkyloxy means - having an aralkyl group as defined above;
o-aralkyl group; heterocyclic group refers to oxygen,
Heterocyclic groups containing at least one heteroatom selected from nitrogen and sulfur, such as furyl,
thienyl, pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, pyridyl,
4-(5-methyl-2-pyrrolinyl), 4-(2-
Heterocyclic alkyl is defined above. A group consisting of a heterocyclic group and an alkyl group; the halogen atom means, for example, a fluorine, chlorine, bromine or iodine atom, respectively. R 1 in each general formula herein is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, and examples of the carboxyl protecting group include those conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds. These carboxyl-protecting groups include ester-forming groups that are eliminated by treatment under catalytic reduction, chemical reduction, or other mild conditions, or ester-forming groups that are easily eliminated in vivo, or treated with water or alcohol. Examples thereof include an organic silyl group, an organic phosphorus group, an organic tin group, etc., which are easily eliminated in this case, and various other known ester-forming groups. Among these types of protecting groups, suitable protecting groups include:
Specifically, the following can be mentioned. (a) Alkyl group. (b) At least one of the substituents is halogen, nitro, acyl, alkoxy, oxo, cyano, cycloalkyl, aryl, alkylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkoxycarbonyl, 5-alkyl-2-oxo-1,3 -dioxol-4-yl-, 1-indanyl, 2-indanyl, furyl, biridyl, 4-imidazolyl, phthalimide, succinimide, azetidinoaziridino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, thiomorpholino, N-lower alkylpiperazino, pyrrolyl,
Pyrazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, quinolyl, phenazinyl, benzofuryl,
Benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, coumarinyl, 2,5-dimethylpyrrolidino, 1,4,5,6-tetrahydropyrimidinyl, 4-methylpiperidino, 2,6-
dimethylpiperidino, 4-(5-methyl-2-
pyrrolinyl), 4-(2-pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl, 1,3-benzodioxolanyl, alkylamino, dialkylamino, acyloxy, acylthio, acylamino, dialkylaminocarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkenyloxy, Aryloxy, aralkyloxy, cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, heterocyclicoxy,
Alkoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyloxy, aryloxycarbonyloxy, aralkyloxycarbonyloxy, heterocyclicoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, cycloalkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, heterocyclic A substituted lower alkyl group which is a ring oxycarbonyl, an alkylanilino or an alkylanilino substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy. (c) Cycloalkyl group; lower alkyl-substituted cycloalkyl or (2,2-di-lower alkyl-
1,3-dioxol-4-yl)methyl group. (d) Alkenyl group. (e) Alkynyl group. (f) A substituted phenyl group or a substituted phenyl group in which the phenyl group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above, or a substituent of the formula [In the formula, -Y 1 - is -CH=CH-O-, -CH=
CH−S−, CH 2 CH 2 S−, −CH=N−CH=
N-, -CH=CH-CH=CH-, -CO-CH=
Indicates CH-CO- or -CO-CO-CH=CH-. ] A group represented by (the substituent is arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above) or a substituted derivative thereof. or expression [In the formula, -Y 2 - represents a lower alkylene group such as -(CH 2 ) 3 - or -(CH 2 ) 4 -. ] An aryl group such as the group represented by the following or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above). (g) An aralkyl group such as benzyl or a substituted benzyl in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (h) A substituted heterocyclic group in which the heterocyclic group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (li) Alicyclic indanyl, alicyclic phthalidyl or substituted derivatives thereof whose substituent is methyl or halogen, alicyclic tetrahydronaphthyl or substituted derivatives thereof whose substituent is methyl or halogen, trityl, cholesteryl, bicyclo[4,4 , 0] Desir et al. (v) Alicyclic phthalidylidene lower alkyl group or substituted derivatives thereof whose substituent is a halogen or lower alkyl group. The carboxyl protecting groups exemplified above are representative examples, and in addition to these, protecting groups described in the following documents can be arbitrarily selected. U.S. Patents 3499909, 3573296 and 3641018
No.: West German Patent Publications No. 2301014, No. 2253287 and No. 2337105. Among these, preferred carboxyl protecting groups include, for example, 5-lower alkyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-lower alkyl group, acyloxyalkyl group, acylthioalkyl group, phthalidyl group, and indanyl group. , a phenyl group, a phthalidylidene lower alkyl group with or without a substituent, or a group that is easily eliminated in vivo, such as a group represented by the following formula.

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】 〔式中、R15は公知の置換基を有するかもしく
は有しないアルキル、アルケニル、アリール、ア
ルアルキル、脂環式または複素環式基を、R16
水素原子または公知の置換基を有するかもしくは
有しないアルキル、アルケニル、アリール、アル
アルキル、脂環式または複素環式基を、R17は水
素原子、ハロゲン原子または公知の置換基を有す
るかもしくは有しないアルキル、シクロアルキ
ル、アリールまたは複素環式基または−(CH2
nCOOR16(ただし、R16は前記した意味を有し、
nは0,1または2を示す。)をmは0,1また
は2を示す。〕 さらに、具体的には、たとえば、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル−
メチル、5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソール−4−イル−メチル、5−n−プロピル
−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル
−メチル基などの5−低級アルキル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル−メチル基;
アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、プ
ロピオニルオキシメチル、プチリルオキシメチ
ル、イソプチリルオキシメチル、バレリルオキシ
メチル、1−アセトキシエチル、1−アセトキシ
−n−プロピル、1−ピバロイルオキシエチル、
1−ピバロイルオキシ−n−プロピル基などのア
シルオキシアルキル基;アセチルチオメチル、ピ
バロイルチオメチル、ベンゾイルチオメチル、p
−クロロペンゾイルチオメチル、1−アセチルチ
オエチル、1−ピバロイルチオエチル、1−ベン
ゾイルチオエチル、1−(p−クロロベンゾイル
チオ)エチル基などのアシルチオアルキル基;メ
トキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキシ
メチル、イソプロポキシメチル、n−プチルオキ
シメチル基などのアルコキシメチル基;メトキシ
カルボニルオキシメチル、エトキシカルボニルオ
キシメチル、n−プロポキシカルボニルオキシメ
チル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、
n−プチルオキシカルボニルオキシメチル、tert
−プチルオキシカルボニルオキシメチル、1−メ
トキシカルボニルオキシ−エチル、1−エトキシ
カルボニルオキシ−エチル、1−n−プロポキシ
カルボニルオキシ−エチル、1−イソプロポキシ
カルボニルオキシ−エチル、1−n−プチルオキ
シカルボニルオキシ−エチル基などのアルコシキ
カルボニルオキシ−アルキル基;メトキシカルボ
ニルメチル、エトキシカルボニルメチル基などの
アルコキシカルボニルメチル基;フタリジル基;
インダニル基;フエニル基;2−(フタリジリデ
ン)−エチル、2−(5−フルオロフタリジリデ
ン)−エチル、2−(6−クロロフタリジリデン)
−エチル、2−(6−メトキシフタリジリデン)−
エチル基などのフタリジリデンアルキル基などが
挙げられる。 また、R5の保護されていてもよいアミノ基の
保護基としては、通常ペニシリンおよびセフアロ
スポリン系化合物の分野で通常使用されているも
のが挙げられ、たとえば、トリクロロエトキシカ
ルボニル、トリプロモエトキシカルボニル、ベン
ジルオキシカルボニル、p−トルエンスルホニ
ル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、o−
ブロモベンジルオキシカルボニル、(モノー、ジ
ー、トリー)クロロアセチル、トリフルオロアセ
チル、ホルミル、tert−アミルオキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、p−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、4−(フエニルアゾ)
ベンジルオキシカルボニル、4−(4−メトキシ
フエニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、ピリ
ジン−1−オキシド−2−イル−メトキシカルボ
ニル、2−フルフリルオキシカルボニル、ジフエ
ニルメトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
1−シクロプロピルエトキシカルボニル、フタロ
イル、スクシニル、1−アダマンチルオキシカル
ボニル、8−キノリルオキシカルボニルなどの脱
離しやすいアシル基;トリチル、o−ニトロフエ
ニルスルフエニル、2,4−ジニトロフエニルス
ルフエニル、2−ヒドロキシベンジリデン、2−
ヒドロキシ−5−クロロベンジリデン、2−ヒド
ロキシ−1−ナフチルメチレン、3−ヒドロキシ
−4−ピリジルメチレン、1−メトキシカルボニ
ル−2−プロピリデン、1−エトキシカルボニル
−2−プロピリデン、3−エトキシカルボニル−
2−ブチリデン、1−アセチル−2−プロピリデ
ン、1−ベンゾイル−2−プロピリデン、1−
〔N−(2−メトキシフエニル)カルバモイル〕−
2−プロピリデン、1−〔N−(4−メトキシフエ
ニル)カルバモイル〕−2−プロピリデン、2−
エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、2−エ
トキシカルボニルシクロベンチリデン、2−アセ
チルシクロヘキシリデン、3,3−ジメチル−5
−オキソシクロヘキシリデンなどの脱離しやすい
基およびジーもしくはトリ−アルキルシリル基な
どのアミノ基の保護基が挙げられる。 また、−A−は、式−CH2−または式
[Formula] [In the formula, R 15 is an alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a known substituent, and R 16 is a hydrogen atom or a known substituent. R 17 is an alkyl, alkenyl, aryl, aralkyl, alicyclic or heterocyclic group with or without a hydrogen atom, a halogen atom or a known substituent, a cycloalkyl, aryl or Heterocyclic group or -( CH2 )
nCOOR 16 (However, R 16 has the above meaning,
n represents 0, 1 or 2. ), m indicates 0, 1 or 2. ] Furthermore, specifically, for example, 5-methyl-
2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-
5-lower alkyl such as methyl, 5-ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl, 5-n-propyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl group -2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl group;
Acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, isoptyryloxymethyl, valeryloxymethyl, 1-acetoxyethyl, 1-acetoxy-n-propyl, 1-pivaloyloxyethyl,
Acyloxyalkyl groups such as 1-pivaloyloxy-n-propyl group; acetylthiomethyl, pivaloylthiomethyl, benzoylthiomethyl, p
- Acylthioalkyl groups such as chloropenzoylthiomethyl, 1-acetylthioethyl, 1-pivaloylthioethyl, 1-benzoylthioethyl, 1-(p-chlorobenzoylthio)ethyl groups; methoxymethyl, ethoxymethyl, n -Alkoxymethyl groups such as propoxymethyl, isopropoxymethyl, n-butyloxymethyl groups; methoxycarbonyloxymethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, n-propoxycarbonyloxymethyl, isopropoxycarbonyloxymethyl,
n-butyloxycarbonyloxymethyl, tert
-butyloxycarbonyloxymethyl, 1-methoxycarbonyloxy-ethyl, 1-ethoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-propoxycarbonyloxy-ethyl, 1-isopropoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-butyloxycarbonyloxy -Alkoxycarbonyloxy-alkyl groups such as ethyl groups; alkoxycarbonylmethyl groups such as methoxycarbonylmethyl and ethoxycarbonylmethyl groups; phthalidyl groups;
Indanyl group; Phenyl group; 2-(phthalidylidene)-ethyl, 2-(5-fluorophthalidylidene)-ethyl, 2-(6-chlorophthalidylidene)
-Ethyl, 2-(6-methoxyphthalidylidene)-
Examples include phthalidylidene alkyl groups such as ethyl group. In addition, as the protecting group for the amino group which may be protected for R5 , those commonly used in the field of penicillin and cephalosporin compounds are mentioned, such as trichloroethoxycarbonyl, tripromoethoxycarbonyl, benzyl oxycarbonyl, p-toluenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-
Bromobenzyloxycarbonyl, (mono, di, tri)chloroacetyl, trifluoroacetyl, formyl, tert-amyloxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4- (phenylazo)
Benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl, pyridin-1-oxid-2-yl-methoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl , isopropoxycarbonyl,
Easily eliminated acyl groups such as 1-cyclopropylethoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl; trityl, o-nitrophenylsulfenyl, 2,4-dinitrophenylsulfenyl , 2-hydroxybenzylidene, 2-
Hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1-naphthylmethylene, 3-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-
2-butylidene, 1-acetyl-2-propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1-
[N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl]-
2-propylidene, 1-[N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 2-
Ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclobenchilidene, 2-acetylcyclohexylidene, 3,3-dimethyl-5
Examples thereof include easily leaving groups such as -oxocyclohexylidene and protecting groups for amino groups such as di- or tri-alkylsilyl groups. -A- is the formula -CH 2 - or the formula

【式】(式中、R12は、保護されていて もよいカルボキシル基で置換されていてもよいア
ルキル基を示し、 は、シンまたはアンチ異性体
もしくはそれらの混合物でもよいことを示す。)
を意味する。 R12における保護されていてもよいカルボキシ
ル基の保護基としては、R1で説明したと同様の
カルボキシル保護基が挙げられる。 つぎに、
[Formula] (In the formula, R 12 represents an alkyl group that may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and represents that it may be a syn or anti isomer or a mixture thereof.)
means. Examples of the protecting group for the carboxyl group which may be protected in R 12 include the same carboxyl protecting groups as explained for R 1 . next,

【式】で表わされるオキシム体に は、シンおよびアンチ異性体並びにそれらの混合
物が存在するが、それらのいずれも本発明に包含
される。 本発明の各一般式の
The oxime represented by the formula includes syn and anti isomers and mixtures thereof, all of which are included in the present invention. Each general formula of the present invention

【式】基におい ては、つぎの平衡式で示すように互変異性体が存
在するが、その互変異性体も本発明に包含され
る。 〔上記平衡式中、R4およびR5は前記した意味
を有し、R5′は保護されていてもよいイミノ基を
示す。〕 そして、上の式におけるR5′のイミノ基の保護
基としては、通常ペニシリン、セフアロスポリン
の分野で用いる基が挙げられ、具体的には、R5
について説明したアミノ基の保護基のうち1価基
と同様の基が挙げられる。 一般式〔〕の化合物の塩類としては、従来ペ
ニシリン及びセフアロスポリン系化合物の分野で
周知の塩基性基または酸性基における塩を挙げる
ことができる。そのような塩基性基における塩と
しては、たとえば、塩酸、硝酸または硫酸などの
鉱酸との塩;シユウ酸、コハク酸、ギ酸、トリク
ロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸などの有機カル
ボン酸との塩;メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−2−スル
ホン酸、トルエン−4−スルホン酸、メシチレン
スルホン酸(2,4,6−トリメチルベンゼンス
ルホン酸)、ナフタレン−1−スルホン酸、ナフ
タレン−2−スルホン酸、フエニルメタンスルホ
ン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、トルエ
ン−3,5−ジスルホン酸、ナフタレン−1,5
−ジスルホン酸、ナフタレン−2,6−ジスルホ
ン酸、ナフタレン−2,7−ジスルホン酸、ベン
ゼン−1,3,5−トリスルホン酸,ベンゼン−
1,2,4−トリスルホン酸、ナフタレン−1,
3,5−トリスルホン酸などのスルホン酸との塩
を、また酸性基における塩としては、たとえば、
ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属と
の塩;カルシウムまたはマグネシウムなどのアル
カリ土類金属との塩;アンモニウム塩;プロカイ
ン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フエ
ネチルアミン、1−エフエナミン、N,N−ジベ
ンジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、ト
リメチルアミン、トリプチルアミン、ピリジン、
N,Nジメチルアニリン、N−メチルピペリジ
ン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジ
シクロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩素との
塩を挙げることができる。 また、本発明は、一般式〔〕のセフアロスポ
リン、その塩類のすべての光学異性体、およびラ
セミ体ならびにすべての結晶体および水和物を包
含するものである。 さらに具体的に述べれば、一般式〔〕の化合
物中、好ましい例としては、−A−が式
In the group [Formula], tautomers exist as shown in the following balanced formula, and these tautomers are also included in the present invention. [In the above balanced formula, R 4 and R 5 have the meanings described above, and R 5 ' represents an optionally protected imino group. ] In the above formula, the protecting group for the imino group of R 5 ' includes groups normally used in the fields of penicillin and cephalosporin, and specifically, R 5
Among the protecting groups for amino groups explained above, the same groups as the monovalent groups can be mentioned. Examples of the salts of the compound of general formula [] include salts with basic groups or acidic groups that are conventionally known in the field of penicillin and cephalosporin compounds. Salts on such basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; methane; Sulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene- 2-sulfonic acid, phenylmethanesulfonic acid, benzene-1,3-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid, naphthalene-1,5
-Disulfonic acid, naphthalene-2,6-disulfonic acid, naphthalene-2,7-disulfonic acid, benzene-1,3,5-trisulfonic acid, benzene-
1,2,4-trisulfonic acid, naphthalene-1,
Salts with sulfonic acids such as 3,5-trisulfonic acid, and salts with acidic groups include, for example,
Salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; ammonium salts; procaine, dibenzylamine, N-benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine, N,N-di Benzylethylenediamine, triethylamine, trimethylamine, triptylamine, pyridine,
Examples include salts with nitrogen-containing organic chlorine such as N,N dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, diethylamine, and dicyclohexylamine. Furthermore, the present invention encompasses all optical isomers and racemic forms of cephalosporin of the general formula [ ] and its salts, as well as all crystal forms and hydrates. More specifically, in the compound of the general formula [], as a preferable example, -A- is the formula

【式】で表わされるオキシム体が、その中で も、シン異性体が、さらには、R12がアルキル
基、特に、メチル基、エチル基もしくは式CH2
COOR1(式中、R1は、前記した意味を有する。)
で表わされる各々も基が挙げられる。 つぎに、R2の好ましいものの例としては、式
The oxime represented by [Formula], among them, the syn isomer, furthermore, R 12 is an alkyl group, especially a methyl group, an ethyl group or a formula CH 2
COOR 1 (wherein R 1 has the meaning described above)
Each of the groups represented by the above also includes groups. Next, as a preferable example of R 2 , the formula

【式】で表わされる基の場合、R6, R7およびR8は同一または異なつて、水素原子、
または低級アルキル基が、また、式
In the case of the group represented by [Formula], R 6 , R 7 and R 8 are the same or different, a hydrogen atom,
or a lower alkyl group also has the formula

【式】で表わされる基の場合、R9, R10およびR11は同一または異なつて、水素原子
または低級アルキル基が挙げられる。 一般式〔〕の化合物の中からいくつかの代表
的化合物について抗菌作用を示す。 抗菌作用(表−1) 日本化学療法学会標準法
〔(CHEMOTHERAPY)第23巻第1〜2頁
(1975年)〕に従い、Heart Infusion broth(栄研
化学社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を
含むHeart Infusion agar培地(栄研化学社製)
に接種し、37℃、20時間培養後、菌の発育の有無
を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもつ
てMIC(μg/ml)とした。ただし、接種菌量は
104個/プレート(104個/ml)とした。 試験化合物は以下のとおりである。 (A) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル
−)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−{〔1−(4−メチル−6−オキソ−
1,6−ジヒドロピリミジニル)〕メチル}−
Δ3−セフエム−4−カルボン酸のトリフルオ
ロ酢酸塩 (B) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−{〔1−(2,4−ジメチル
−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリミジニ
ル)〕メチル}−Δ3−セフエム−4−カルボン
酸のギ酸塩 (C) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−{〔1−(2−オキソ−1,2−ジヒド
ロピリミジニル)〕メチル}−Δ3−セフエム−
4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩
In the case of the group represented by the formula, R 9 , R 10 and R 11 may be the same or different and may be a hydrogen atom or a lower alkyl group. Some representative compounds of the general formula [] exhibit antibacterial activity. Antibacterial activity (Table 1) Cultured at 37°C for 20 hours in Heart Infusion broth (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.) according to the standard method of the Japanese Society of Chemotherapy [(CHEMOTHERAPY) Vol. 23, pages 1-2 (1975)]. Heart Infusion agar medium containing bacterial solution and drug (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.)
After culturing at 37°C for 20 hours, the presence or absence of bacterial growth was observed, and the minimum concentration at which bacterial growth was inhibited was defined as the MIC (μg/ml). However, the amount of inoculated bacteria is
104 pieces/plate ( 104 pieces/ml). The test compounds are as follows. (A) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl-)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{[1-(4-methyl-6-oxo-
1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-
Trifluoroacetate of Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid (B) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-{[1 -(2,4-dimethyl-6-oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl} -Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid formate (C) -yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-{[1-(2-oxo-1,2-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-
Trifluoroacetate of 4-carboxylic acid

【表】【table】

【表】 注 * ペニシリネース生産菌
** セフアロスポリネース生産菌
つぎに、本発明化合物の製造法について説明す
る。 本発明の化合物は、たとえば、下に示す方法に
よつて製造することができる。 〔上記式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7
R8,R9,R10,R11,R12,Aおよびは前記した
意味を有し、R21アミノ基、 式
[Table] Note * Penicillinase-producing bacteria ** Cephalosporinase-producing bacteria Next, the method for producing the compound of the present invention will be explained. The compound of the present invention can be produced, for example, by the method shown below. [In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 ,
R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , A and have the above-mentioned meanings, R 21 amino group, formula

【式】(式中、R23,R24およ びR25は同一または異なつて、水素原子または反
応に関与しない有機残基を示す。) または式
[Formula] (In the formula, R 23 , R 24 and R 25 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction.) or Formula

【式】(式中、R26およびR27 は同一または異なつて、水素原子または反応に関
与しない有機残基を示す。)で表わされる基を、
またR22は置換基を有するかもしくは有しないア
シルオキシまたはカルバモイルオキシ基を、Xは
ハロゲン原子を、ZはSまたはS→Oを、
および環中の点線は2〜3または3〜4位間が二
重結合であることを各々意味する。〕 以下、詳細に説明すると、R21はアミノ基、式
A group represented by [Formula] (wherein R 26 and R 27 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction),
In addition, R 22 is an acyloxy or carbamoyloxy group with or without a substituent, X is a halogen atom, Z is S or S→O,
And the dotted line in the ring means that the 2nd to 3rd or 3rd to 4th positions are double bonds, respectively. ] Below, to explain in detail, R 21 is an amino group, the formula

【式】または式[expression] or expression

【式】を 示すが、式[Formula] As shown, the formula

【式】で表わされる基 には、その異性体である式Group represented by [Formula] has the formula whose isomer is

【式】 で表わされる基も本発明に包含される。そして
R23,R24,R25,R26およびR27における反応に関
与しない有機残基としては、当該分野で知られて
いる有機残基、たとえば、置換基を有するかもし
くは有しない脂肪族残基、脂環式残基、芳香族残
基、芳香脂肪族残基、複素環残基、アシル基など
が挙げられ、具体的には次のような基が例示でき
る。 (1) 脂肪族残基:たとえば、メチル、エチル、プ
ロピル、n−プチル、イソプチル、ベンチルな
どのアルキル基;ビニル、プロペニル、プテニ
ルなどのアルケニル基。 (2) 脂環式残基:たとえば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチルなどのシクロア
ルキル基;シクロペンテニル、シクロヘキセニ
ルなどのシクロアルケニル基。 (3) 芳香族残基:たとえば、フエニル、ナフチル
などのアリール基。 (4) 芳香脂肪族残基:たとえば、ベンジル、フエ
ネチルなどのアルアルキル基。 (5) 複素環残基:たとえば、ピロリジニル、ピペ
ラジニル、フリル、チエニル、ピロリル、ピラ
ゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジ
ル、イミダゾリル、キノリル、ベンゾチアゾリ
ル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリ
アゾリル、テトラゾリルなどの分子中にヘテロ
原子(酸素、窒素または硫黄原子)を任意に含
有する複素環式基。 (6) アシル基:有機カルボン酸から誘導されるア
シル基であり、このような有機カルボン酸とし
ては、たとえば、脂肪族カルボン酸;脂環式カ
ルボン酸;脂環式脂肪族カルボン酸;脂肪族カ
ルボン酸に酸素または硫黄原子を介してまたは
介さずに芳香族残基もしくは複素環式基が結合
した芳香置換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ
脂肪族カルボン酸、芳香族チオ脂肪族カルボン
酸、複素環置換脂肪族カルボン酸、複素環オキ
シ脂肪族カルボン酸、複素環チオ脂肪族カルボ
ン酸;カルボニル基に酸素、窒素または硫黄原
子を介して芳香族残基、脂肪族残基もしくは脂
環式残基が結合した有機カルボン酸類;芳香族
カルボン酸;複素環カルボン酸などの有機カル
ボン酸が挙げられる。 ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、ブタン酸、イソブタン酸、
ペンタン酸、メトキシ酢酸、メチルチオ酢酸、
アクリル酸、クロトン酸などが挙げられ、脂環
式カルボン酸としては、シクロヘキサン酸など
が挙げられ、また脂環式脂肪族カルボン酸とし
ては、シクロペンタン酢酸、シクロヘキサン酢
酸、シクロヘキサンプロピオン酸、シクロヘキ
サジエン酢酸などが挙げられる。 また、上述の有機カルボン酸における芳香族
残基としては、フエニル、ナフチルなどが挙げ
られ、さらに上述の複素環式基としては、フラ
ン、チオフエン、ピロール、ピラゾール、イミ
ダゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチ
アゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、チアトリ
アゾール、オキサトリアゾール、テトラゾー
ル、ベンゾオキサゾール、ベンゾフランなどの
ヘテロ原子を環中に1個以上含む複素環化合物
の残基が挙げられる。 そして、これらの有機カルボン酸を構成する
各基は、たとえば、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、保護されたヒドロキシル基、アルキル
基、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、アミ
ノ基、保護されたアミノ基、カルボキシル基、
保護されたカルボキシル基などの置換基でさら
に置換されていてもよい。 また、R22のアシルオキシおよびカルバモイ
ルオキシ基としては、たとえば、アセトキシ、
プロピオニルオキシまたはプチリルオキシなど
のアルカノイルオキシ基;アクリロイルオキシ
などのアルケノイルオキシ基;ベンゾイルオキ
シまたはナフトイルオキシなどのアロイルオキ
シ基;およびカルバモイルオキシ基が挙げら
れ、これらはハロゲン原子、ニトロ基、アミノ
基、アルキル基、アルコシキ基、アルキルチオ
基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、ヒドロ
キシル基、カルボキシル基、スルフアモイル
基、カルバモイル基、カルボアルコキシカルバ
モイル基、アロイルカルバモイル基、カルボア
ルコキシスルフアモイル基、アリール基、カル
バモイルオキシ基などの一種以上の置換基で置
換されていてもよい。 上述したR22の置換基において、ヒドロキシ
ル基、アミノ基およびカルボキシル基などは通
常用いられている保護基で保護されていてもよ
い。 (イ) 三位変換反応 一般式〔〕の化合物またはその塩類に、酸
または酸の錯化合物の存在下、一般式〔a〕
の6−オキソ−1,6−ジヒドロピリミジン類
または一般式〔b〕の2−オキソ−1,2−
ジヒドロピリミジン類もしくはそれらの塩類を
反応させ、所望によりついで保護基の脱離また
はカルボキシル基を保護または塩とすることに
より一般式〔〕の7−置換または非置換アミ
ノ−3−置換メチルセフエムカルボン酸類また
はその塩類を工業的に容易な操作で、好収率か
つ高純度に製造することができる。 さらに、所望により、7位アミノ基の置換基
を常法により除去し、7−非置換アミノ体とす
ることができる。この方法によれば、Δ3−セ
フエム化合物のみならずΔ2−セフエム化合物
も用いることができ、Δ2−セフエム化合物も
用いた場合、反応後得られたΔ2−セフエム化
合物をΔ3−セフエム化合物に変換することが
できる。 またZがSである可合物のみならず、
ZがS→Oである化合物も出発原料として用
いることができ、その場合、反応中または後処
理の段階でS→OをSとすることができ
る。 また、この反応における反応試薬として用い
られる一般式〔a〕の6−オキソー1,6−
ジヒドロピリミジン類または一般式〔b〕の
2−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン類に
おいて、それらの置換基に塩基性基または酸性
基を有する場合は、必要に応じ、それぞれの塩
の形で反応に供してもよく、その場合の塩基性
基における塩または酸性基における塩として
は、一般式〔〕の化合物の塩類について説明
したと同様の塩基性基または酸性基における塩
が挙げられる。 また、一般式〔〕および〔〕の化合物の
塩類としては、塩基性基または酸性基における
塩が挙げられ、それらの塩類は一般式〔〕の
化合物の塩類について説明したと同様の塩基性
基または酸性基における塩が挙げられる。な
お、一般式〔〕の化合物の塩類は予め単離し
て用いてもよく、あるいは系内で調製してもよ
い。 この反応において使用される酸または酸の錯
化合物としては、たとえば、プロトン酸、ルイ
ス酸またはルイス酸の錯化合物が挙げられる。
プロトン酸としては、たとえば、硫酸類、スル
ホン酸類または超強酸類(超強酸とは100%硫
酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類およびス
ルホン酸類の一部も含まれる)が挙げられ、さ
らに具体的には、硫酸、クロロ硫酸、フルオロ
硫酸などの硫酸類;メタンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸などのアルキル(モノ
−またはジ−)スルホン酸、またはp−トルエ
ンスルホン酸などのアリール(モノ−、ジ−ま
たはトリ−)スルホン酸などのスルホン酸類;
過塩素酸、マジツク酸(FSO3H−SbF5)、
FSO3H−AsF5、CF3SO3H−SbF5、HF−
BF3、H2SO4−SO3などの超強酸類が挙げられ
る。 また、ルイス酸としては、たとえば、三弗化
硼酸などが挙げられる。また、ルイス酸の錯化
合物としては、たとえば、三弗化硼酸と、ジエ
チルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジ
−n−プチルエーテルなどとのジアルキルエー
テル錯塩;エチルアミン、n−プロピルアミ
ン、n−プチルアミン、トルエタノールアミン
などとのアミン錯塩;ギ酸エチル、酢酸エチル
などとのカルボン酸エステル;酢酸、プロピオ
ン酸などとの脂肪酸錯塩;アセトニトリル、プ
ロピオニトリルなどとのニトリル錯塩などが挙
げられる。 また、この反応においては有機溶媒を用いた
場合が好ましく、用いられる有機溶媒として
は、反応に不活性な全ての有機溶媒、たとえ
ば、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パンなどのニトロアルカン類;ギ酸、酢酸、ト
リフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸
などの有機カルボン酸類;アセトン,メチルエ
チルケトン、メチルイソプチルケトンなどのケ
トン類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、アニソー
ル、ジメチルセロソルプなどのエーテル類;ギ
酸エチル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、クロロ酢酸エチル、酢酸プチルなどのエ
ステル類;アセトニトリル、プチロニトリルな
どのニトリル類;塩化メチレン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素類;スルホランなどのスルホラン類な
どが挙げられ、これらの溶媒を二種以上混合し
て用いてもよい。また、これらの有機溶媒とル
イス酸とで形成される錯化合物を溶媒として使
用することもできる。 酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式
〔〕の化合物またはその塩類に対し当モル以
上であればよく、個々の場合に応じ適宜増減さ
せることができる。特に、2〜10倍モル量の使
用が好ましい。酸の錯化合物を用いる場合に
は、それ自体を溶媒として用いることができ、
二種以上の錯化化合物を混合して用いてもよ
い。 また、この反応の反応試薬として用いられる
一般式〔a〕の6−オキソ−1,6−ジヒド
ロピリミジン類または一般式〔b〕の2−オ
キソ−1,2−ジヒドロピリミジン類もしくは
それらの塩類の使用量は、一般式〔〕の化合
物またはその塩類に対し、当モル以上であれば
よいが、特に1.0〜5.0倍モル量の使用が好まし
い。 この反応は、通常0〜80℃で行われ、数分〜
数十時間で完了する。 この反応の系内に水分があると原料または生
成物のラクトン化およびβ−ラクタム環の開裂
など好ましくない副反応を惹起することがある
ので、反応系内を無水の状態に保つことが望ま
しい。この条件を満たすために、反応系内に適
当な脱水剤、たとえば五酸化リン、ボリリン
酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リン
などのリン化合物;N,O−ビス(トリメチル
シリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド、トリメチルクロロシラン、ジメチル
ジクロロシランなどの有機シリル化剤;アセチ
ルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド
などの有機酸クロリド;無水酢酸、無水トリフ
ルオロ酢酸などの酸無水物;無水硫酸マグネシ
ウム、無水塩化カルシウム、モレキユラーシー
プ、カルシウムカーバイドなどの無機乾燥剤な
どを添加してもよい。 R1がカルボキシル保護基を示す一般式〔〕
の化合物を原料として使用した場合、反応後の
処理によりR1が水素原子である対応する一般
式〔〕の化合物が得られることもあるが、所
望により保護基を常法で脱離させ、R1が水素
原子である一般式〔〕の化合物を得ることも
できる。 この反応における反応試薬として用いられる
一般式〔a〕の6−オキソ−1,6−ジヒド
ロピリミジン類または一般式〔b〕の2−オ
キソ−1,2−ジヒドロピリミジン類もしくは
それらの塩類において、それらの置換基がヒド
ロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などで
置換されている場合この反応を実施するにあた
り、これらの基を各々対応する通常よく用いら
れる保護基で保護し、反応終了後、従来の脱離
反応に付すことにより、所望の化合物を得るこ
とができる。 また、一般式〔〕の化合物は、所望によ
り、常法に従つてカルボキシル基を保護または
塩とすることができ、目的の化合物を得ること
もできる。また、R21がアミノ基である一般式
〔〕の化合物は、常法により、後述のような
アミノ基における反応性誘導体とすることがで
きる。 (ロ) アシル化反応 叙上の方法で得られた一般式〔〕の化合物
またはそのアミノ基における反応性誘導体もし
くはそれらの塩類に、一般式〔〕,〔〕,
〔〕,〔〕または〔〕の化合物またはそ
のカルボキシル基における反応性誘導体もしく
はそれらの塩類を反応させれば、一般式〔〕,
〔〕,〔〕,〔〕または〔〕の化合物
もしくはそれらの塩類が得られる。 また、一般式〔〕,〔〕,〔〕,〔〕,
〔〕,〔〕,〔〕,〔〕または〔〕
の化合物の塩類としては、塩基性基または酸性
基における塩が挙げられ、それらの塩類は一般
式〔〕の化合物の塩類について説明したと同
様の塩基性基または酸性基における塩が挙げら
れる。 一般式〔〕の化合物のアミノ基における反
応性誘導体としては、たとえば、イソシアネー
ト、一般式〔〕の化合物またはその塩類と
N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチ
ルシリルクロライドなどのシリル化合物、三塩
化燐、
A group represented by the formula is also included in the present invention. and
Organic residues that do not participate in the reaction in R 23 , R 24 , R 25 , R 26 and R 27 include organic residues known in the art, such as aliphatic residues with or without substituents. , alicyclic residues, aromatic residues, araliphatic residues, heterocyclic residues, acyl groups, etc., and specific examples include the following groups. (1) Aliphatic residues: for example, alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, and bentyl; alkenyl groups such as vinyl, propenyl, and putenyl. (2) Alicyclic residues: For example, cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl; cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl and cyclohexenyl. (3) Aromatic residues: for example, aryl groups such as phenyl and naphthyl. (4) Aroaliphatic residues: for example, aralkyl groups such as benzyl and phenethyl. (5) Heterocyclic residues: For example, heteroatoms (oxygen , nitrogen or sulfur atoms). (6) Acyl group: An acyl group derived from an organic carboxylic acid. Examples of such organic carboxylic acids include aliphatic carboxylic acids; alicyclic carboxylic acids; alicyclic aliphatic carboxylic acids; Aromatic substituted aliphatic carboxylic acids, aromatic oxyaliphatic carboxylic acids, aromatic thioaliphatic carboxylic acids, heteroaromatics in which an aromatic residue or a heterocyclic group is bonded to a carboxylic acid with or without an oxygen or sulfur atom Ring-substituted aliphatic carboxylic acid, heterocyclic oxyaliphatic carboxylic acid, heterocyclic thioaliphatic carboxylic acid; aromatic residue, aliphatic residue or alicyclic residue via an oxygen, nitrogen or sulfur atom to the carbonyl group Organic carboxylic acids such as organic carboxylic acids bound to; aromatic carboxylic acids; and heterocyclic carboxylic acids can be mentioned. Here, the aliphatic carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, isobutanoic acid,
pentanoic acid, methoxyacetic acid, methylthioacetic acid,
Examples of alicyclic carboxylic acids include acrylic acid and crotonic acid; examples of alicyclic carboxylic acids include cyclohexanoic acid; and examples of alicyclic aliphatic carboxylic acids include cyclopentane acetic acid, cyclohexane acetic acid, cyclohexane propionic acid, and cyclohexadiene acetic acid. Examples include. Further, aromatic residues in the above-mentioned organic carboxylic acids include phenyl, naphthyl, etc., and further examples of the above-mentioned heterocyclic groups include furan, thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, thiazole, isothiazole, oxazole, isoxazole,
Examples include residues of heterocyclic compounds containing one or more heteroatoms in the ring, such as thiadiazole, oxadiazole, thiatriazole, oxatriazole, tetrazole, benzoxazole, and benzofuran. The groups constituting these organic carboxylic acids include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, a nitro group, an amino group, a protected amino group, and a carboxyl group. basis,
It may be further substituted with a substituent such as a protected carboxyl group. Furthermore, examples of the acyloxy and carbamoyloxy groups for R22 include acetoxy,
Alkanoyloxy groups such as propionyloxy or butyryloxy; alkenoyloxy groups such as acryloyloxy; aroyloxy groups such as benzoyloxy or naphthoyloxy; and carbamoyloxy groups, which are halogen atoms, nitro groups, amino groups, alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, acyloxy groups, acylamino groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, sulfamoyl groups, carbamoyl groups, carbalkoxycarbamoyl groups, aroylcarbamoyl groups, carbalkoxysulfamoyl groups, aryl groups, carbamoyloxy groups, etc. It may be substituted with one or more substituents. Among the substituents for R 22 described above, the hydroxyl group, amino group, carboxyl group, etc. may be protected with a commonly used protecting group. (a) Three-position conversion reaction A compound of general formula [] or its salt is reacted with general formula [a] in the presence of an acid or an acid complex compound.
6-oxo-1,6-dihydropyrimidines of formula [b] or 2-oxo-1,2- of general formula [b]
7-substituted or unsubstituted amino-3-substituted methyl cefemcarboxylic compound of the general formula [] is obtained by reacting dihydropyrimidines or their salts, and optionally removing the protecting group or protecting or converting the carboxyl group into a salt. Acids or salts thereof can be produced with good yield and high purity through industrially easy operations. Furthermore, if desired, the substituent on the 7-position amino group can be removed by a conventional method to obtain a 7-unsubstituted amino compound. According to this method, not only the Δ 3 -cephem compound but also the Δ 2 -cepheme compound can be used, and when the Δ 2 -cepheme compound is also used, the Δ 2 -cepheme compound obtained after the reaction can be used as the Δ 3 -cepheme compound. can be converted into compounds. In addition, not only compounds where Z is S,
Compounds in which Z is S→O can also be used as starting materials, in which case S→O can be converted to S during the reaction or in the work-up step. In addition, 6-oxo 1,6- of general formula [a] used as a reaction reagent in this reaction
When dihydropyrimidines or 2-oxo-1,2-dihydropyrimidines of general formula [b] have a basic group or an acidic group as a substituent, they can be reacted in the form of their respective salts, if necessary. In this case, examples of the salt with a basic group or the salt with an acidic group include the same salts with a basic group or an acidic group as explained for the salts of the compound of general formula []. In addition, salts of the compounds of general formulas [] and [] include salts with basic groups or acidic groups, and these salts include salts with basic groups or acidic groups similar to those explained for the salts of compounds of general formulas []. Mention may be made of salts at acidic groups. Note that the salts of the compound of general formula [] may be used after being isolated in advance, or may be prepared in-system. The acid or acid complex used in this reaction includes, for example, a protonic acid, a Lewis acid, or a Lewis acid complex.
Protonic acids include, for example, sulfuric acids, sulfonic acids, or super strong acids (super strong acids mean acids stronger than 100% sulfuric acid, and also include some of the aforementioned sulfuric acids and sulfonic acids); Specifically, sulfuric acids such as sulfuric acid, chlorosulfuric acid, and fluorosulfuric acid; alkyl (mono- or di-)sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid; or aryl (mono-)sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid; , di- or tri-)sulfonic acids;
perchloric acid, magicic acid ( FSO3H - SbF5 ),
FSO3H - AsF5 , CF3SO3H - SbF5 , HF-
Examples include super strong acids such as BF 3 and H 2 SO 4 −SO 3 . Furthermore, examples of the Lewis acid include boric trifluoride. In addition, examples of complex compounds of Lewis acids include dialkyl ether complexes of trifluoroboric acid and diethyl ether, di-n-propyl ether, di-n-butyl ether, etc.; ethylamine, n-propylamine, n- Examples include amine complex salts with butylamine, toluethanolamine, etc.; carboxylic acid esters with ethyl formate, ethyl acetate, etc.; fatty acid complex salts with acetic acid, propionic acid, etc.; nitrile complex salts with acetonitrile, propionitrile, etc. In addition, it is preferable to use an organic solvent in this reaction, and examples of organic solvents that can be used include all organic solvents that are inert to the reaction, such as nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane; formic acid, acetic acid, Organic carboxylic acids such as trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, and propionic acid; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, anisole, dimethyl cellosolp, etc. Ethers; esters such as ethyl formate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl chloroacetate, and butyl acetate; nitrites such as acetonitrile and butyronitrile; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane Examples include sulfolanes such as sulfolane, and two or more of these solvents may be used as a mixture. Moreover, a complex compound formed by these organic solvents and a Lewis acid can also be used as a solvent. The amount of the acid or acid complex compound to be used may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula [] or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. In particular, it is preferable to use 2 to 10 times the molar amount. When using an acid complex compound, it can itself be used as a solvent,
A mixture of two or more types of complexing compounds may be used. Furthermore, 6-oxo-1,6-dihydropyrimidines of general formula [a] or 2-oxo-1,2-dihydropyrimidines of general formula [b] or salts thereof used as a reaction reagent in this reaction may be used. The amount used may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula [] or its salt, but it is particularly preferred to use 1.0 to 5.0 times the molar amount. This reaction is usually carried out at 0 to 80°C for several minutes to
It can be completed in a few dozen hours. If moisture is present in the reaction system, undesirable side reactions such as lactonization of the raw material or product and cleavage of the β-lactam ring may occur, so it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. In order to satisfy this condition, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as a phosphorus compound such as phosphorus pentoxide, boriphosphoric acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, or phosphorus oxychloride; N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide, Organic silylating agents such as trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane; organic acid chlorides such as acetyl chloride and p-toluenesulfonyl chloride; acid anhydrides such as acetic anhydride and trifluoroacetic anhydride; anhydrous magnesium sulfate, anhydrous calcium chloride , molecular sheep, calcium carbide, and other inorganic desiccants may be added. General formula in which R 1 represents a carboxyl protecting group []
When a compound of the formula [] is used as a raw material, the corresponding compound of the general formula [] in which R 1 is a hydrogen atom may be obtained by post-reaction treatment, but if desired, the protecting group can be removed by a conventional method, and R It is also possible to obtain compounds of the general formula [ ] where 1 is a hydrogen atom. In the 6-oxo-1,6-dihydropyrimidines of the general formula [a] or the 2-oxo-1,2-dihydropyrimidines of the general formula [b] or their salts used as a reaction reagent in this reaction, those When the substituent group is substituted with a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, etc. In carrying out this reaction, these groups are each protected with a corresponding commonly used protecting group, and after the reaction is completed, conventional removal is carried out. A desired compound can be obtained by subjecting it to a dissociation reaction. Further, in the compound of general formula [], the carboxyl group can be protected or converted into a salt according to a conventional method, if desired, and the desired compound can also be obtained. Further, the compound of the general formula [] in which R 21 is an amino group can be converted into a reactive derivative at the amino group as described below by a conventional method. (b) Acylation reaction The compound of the general formula [] obtained by the above method, or its reactive derivative at the amino group, or a salt thereof, is added to the compound of the general formula [], [],
If a compound of [], [] or [] or a reactive derivative thereof at the carboxyl group or a salt thereof is reacted, the general formula [],
Compounds of [ ], [ ], [ ] or [ ] or salts thereof are obtained. Also, the general formula [], [], [], [],
〔〕,〔〕,〔〕,〔〕or〔〕
Examples of the salts of the compound represented by formula (2) include salts with a basic group or an acidic group, and salts thereof include salts with a basic group or an acidic group similar to those described for the salts of the compound represented by the general formula []. Examples of reactive derivatives at the amino group of the compound of general formula [] include isocyanates, compounds of general formula [] or salts thereof, and silyl compounds such as N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, and trimethylsilyl chloride; phosphorus trichloride,

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】、(CH3CH2O)2PCl,(CH3 CH22PClなどのリン化合物または(C4H93
SnClなどのスズ化合物との反応により生成す
るシリル誘導体、リン誘導体またはスズ誘導体
など、アシル化反応において繁用されるものは
すべて包含むされる。 一般式〔〕,〔〕,〔〕,〔〕,または
〔〕の化合物のカルボキシル基における反
応性誘導体としては、具体的には、酸ハロゲン
化合物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミ
ド、活性エステルならびに一般式〔〕,〔〕,
〔〕,〔〕,または〔〕の化合物とビルス
マイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられ
る。混合酸無水物としては、たとえば、炭酸モ
ノエチルエステル、炭酸モノイソプチルエステ
ルなどの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸
無水物、ピバリン酸やトリクロロ酢酸などのハ
ロゲンで置換されていてもよい低級アルカン酸
との混合酸無水物などが用いられる。活性酸ア
ミドとしては、たとえば、N−アシルサツカリ
ン、N−アシルイミダゾール、N−アシルベン
ゾイルアミド、N,N′−ジシクロヘキシル−
N−アシル尿素、N−アシルスルホンアミドな
どが用いられる。つぎに、活性エステルとして
は、たとえば、シアノメチルエステル、置換フ
エニルエステル、置換ベンジルエステル、置換
チエニルエステルなどが用いられる。 また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体
としては、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミドなどの酸アミド
に、ホスゲン、塩化チオニル、三塩化リン、三
臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリ
クロロメチル=クロロホルメート、塩化オキサ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られる
ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙
げられる。 一般式〔〕,〔〕,〔〕,〔〕,または
〔〕の各々の化合物を遊離酸または塩の状
態で使用する場合は、適当な縮合剤を用いる。
このような縮合剤としては、たとえば、N,
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミドのよう
なN,N′−ジ置換カルボジイミド;N,N′−
チオニルジイミダゾールのようなアゾライド化
合物;N−エトキシカルボニル−2−エトキシ
−1,2−ジヒドロキシキノリン、オキシ塩化
燐、アルコキシアセチレンなどの脱水剤;2−
クロロピリジニウムメチルヨージド、2−フル
オロピリジニウムメチルヨージドなどの2−ハ
ロゲノピリジニウム塩などが用いられる。 このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中、
塩基の存在または不存在下で実施される。溶媒
として、たとえば、クロロホルム、塩化メチレ
ンなどのハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類;N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、アセトン、水またはこれらの混合
物などが使用できる。また、塩基としては、水
酸化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカ
リまたは酢酸アルカリなどの無機塩基;トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ピリジン、N−メチルピベリジン、N−
メチルモルホリン、ルチジン、コリジンなどの
第3級アミンあるいはジシクロヘキシルアミ
ン、ジエチルアミンなどの第2級アミンなどの
有機塩基が挙げられる。 なお、本発明の一般式〔a〕または〔
b〕の化合物もしくはそれらの塩類に誘導する
ことができる一般式〔〕の化合物またはその
塩類は、次のようにして製造することもでき
る。 一般式〔〕の化合物またはその塩類を使つ
て一般式〔〕の化合物またはその塩類を得る
には、ジケテンと塩素、もしくは臭素などのハ
ロゲンとの反応〔ジヤーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサエテイ,97,1987(1910)〕により得
られる4−ハロゲノ−3−オキソ−ブチリルハ
ライドと、一般式〔〕の化合物またはその塩
類とを常法に従つて反応させればよい。この反
応条件及び操作は、当該分野で知られた条件お
よび操作が適用できる。また、一般式〔〕の
化合物の塩類は、常法に従つて容易に得ること
ができ、その塩類としては、前述の一般式
〔〕の化合物の塩類のところで説明したと同
様の塩基性基または酸性基における塩が挙げら
れる。得られる一般式〔〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によつて単離精製してもよい
が、単離することなく、次の反応に用いること
もできる。 なお、一般式〔〕,〔〕,〔〕,〔〕また
は〔〕の化合物またはそのカルボキシル基
における反応性誘導体もしくはそれらの塩類の
使用量は一般式〔〕の化合物またはそのアミ
ノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩
類1モルに対し、それぞれ通常約1〜数モル程
度が好ましい。 これらの反応は、通常−50〜40℃で行われ、
10分〜48時間で完了する。 また、このアシル化反応において、保護基の
導入および脱離ならびに塩類への変換は常法に
従つて行い、対応する目的化合物に変換するこ
とができる。以上のようにして得られた一般式
〔〕,〔〕,〔〕,〔〕または〔〕の
化合物もしくはそれらの塩類は、公知の手段に
より単離精製できるが、さらに一般式〔〕,
〔〕,〔〕または〔〕の化合物もしく
はそれらの塩類は単離することなく次の反応の
原料として用いることもできる。 (ハ) ニトロン化反応 つぎに一般式〔〕の化合物またはその塩類
から一般式〔〕の化合物のまたはその塩類を
得るには、一般式〔〕の化合物またはその塩
類に、ニトロン化剤を反応させる。 この反応は、通常溶媒中で行われ、溶媒とし
ては、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、その他の反応に
不活性な溶媒が使用できる。ニトロン化剤の好
ましい例としては、硝酸およびその誘導体、た
とえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルなど
のハロゲン化ニトロシル;亜硝酸ナトリウム、
亜硝酸カリウムなどの亜硝酸アルカリ金属塩;
亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸ベンチルエステ
ルなどの亜硝酸アルキルエステルなどが挙げら
れる。ニトロソ化剤として亜硝酸の塩を使用す
るときには、塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無
機もしくは有機の酸の存在下に反応を行うのが
好ましい。亜硝酸アルキルエステルをニトロソ
化剤として使用する場合には、アルカリ金属ア
ルコキシドのような強塩基の存在下に行うのが
好ましい。 反応は一般的に−15〜30℃で行われ、10分か
ら10時間で完了する。また、一般式〔〕の化
合物の塩類は常法に従つて容易に得ることがで
き、その塩類としては、一般式〔〕の化合物
の塩類のところで説明したと同様の塩基性基ま
たは酸性基における塩が挙げられる。さらに、
保護基の導入および脱離は常法に従つて行い、
対応する目的化合物に変換することができる。 このようにして得られる一般式〔〕の化合
物またはその塩類は、常法によつて単離精製し
てもよいが、単離することなく次の反応に用い
ることもできる。 (ニ) エーテル化反応およびホスホリル化反応 つぎに、一般式〔〕の化合物またはその塩
類から一般式〔〕の化合物またはその塩類
を得るには、一般式〔〕の化合物またはその
塩類をエーテル化反応またはホスホリル化反応
に付す。このエーテル化反応およびホスホリル
化反応は特開昭53−137988号、特開昭55−
105689号、特開昭55−149295号などに記載して
あるエーテル化反応およびホスホリル化反応な
どの通常の方法で行うことができる。たとえ
ば、アルキル化反応は常法に従つて行うことが
できる。反応は一般に−20〜60℃で行われ、5
分から10時間で完了する。溶媒としては本反応
を阻害しない限りいかなるものでもよく、たと
えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタ
ノール、エタノール、クロロホルム、塩化メチ
レン、酢酸エチル、酢酸プチル、N,N−ヒメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、水など、またはこれらの混合物などが用
いられる。 アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メ
チル、臭化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル
などのハロゲン化低級アルキル、硫酸ジメチ
ル、硫酸ジエチル、ジアゾメタン、ジアゾエタ
ンまたはp−トルエンスルホン酸メチルなどが
用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン以外
のアルキル化剤を用いるときは、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸
塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属の水酸化物、トリエチルアミン、
ビリジン、N,N−ジメチルアニリンなどの塩
基の存在下に一般に行う。 また、一般式〔〕の化合物の塩類は常法
に従つて容易に得ることができ、その塩類とし
ては、一般式〔〕の化合物の塩類のところで
説明したと同様の塩基性基または酸性基におけ
る塩が挙げられる。さらに保護基の導入および
脱離は常法に従つて行い、対応する目的化合物
に変換することができる。 このようにして得られる一般式〔〕の化
合物またはその塩類は、常法によつて単離精製
してもよいが、単離することなく次の反応に用
いることもできる。 (ホ) 閉環反応 つぎに一般式〔〕,〔〕または〔〕の
各化合物もしくはそれらの塩類に、一般式〔
〕のチオホルムアミドまたはチオ尿素類を反
応させれば、本発明の一般式〔a〕または
〔b〕の化合物もしくはそれらの塩類が得ら
れる。 この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒と
しては、本反応を阻害しない限りいかなるもの
でもよいが、たとえば、水、メタノール、エタ
ノール、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルビリド
ンなど、またはこれら二種以上の混合溶媒が用
いられる。脱離剤の添加は、特に必要としない
が、セフアロスポリン骨格に変化を与えない範
囲の量の脱酸剤を添加すると円滑に反応が進行
することもある。この反応に用いられる脱酸剤
としては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素ア
ルカリ金属塩、トリエチルアミン、ピリジン、
N,N−ジメチルアニリンなどの無機または有
機塩基が挙げられる。 反応は一般に0〜100℃の範囲で行われる。
通常、一般式〔〕,〔〕または〔〕の化
合物もしくはそれらの塩類1当量に対し、それ
ぞれ1〜数当量のチオホルムアミドまたはチオ
尿素類が用いられる。反応時間は、通常、1〜
48時間、好ましくは1〜10時間である。 また、この閉環反応において、保護基の導入
および脱離ならびに塩類への変換は常法に従つ
て行い、対応する目的化合物に変換することが
できる。以上のようにして得られた本発明の一
般式〔a〕または〔b〕の目的化合物もし
くはそれらの塩類は、常法によつて単離するこ
とができる。 (ヘ) オキシム化反応 一般式〔〕の化合物またはその塩類に一
般式〔〕の化合物またはその塩類を反応さ
せることによつて、一般式〔b〕の化合物ま
たはその塩類が得られる。 一般式〔〕の化合物の塩類としては、た
とえば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが
挙げられる。そして、この反応は、通常、水、
アルコール、N,N−ジメチルアセトアミドな
どの溶媒のほかに、反応に不活性な溶媒、また
はこれらの混合溶媒中で行われ、反応は通常、
0〜100℃、好ましくは10〜50℃の範囲で行わ
れ、10分〜48時間で完了する。 一般式〔〕の化合物またはその塩類1当
量に対して、1〜数当量の一般式〔〕の化
合物またはその塩類が用いられる。 尚、一般式〔〕の化合物の塩類はそのま
ま本反応に用いることができるが、たとえば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸
化アルカリ金属、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウムなどの水酸化アルカリ土類金属、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカ
リ金属、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムな
どの炭酸アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムなどの炭酸水素アルカリ
金属、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウム
などのリン酸アルカリ土類金属、リン酸水素2
ナトリウム、リン酸水素2カリウムなどのリン
酸水素アルカリ金属などの無機塩基、または酢
酸ナトリウム、酢酸カリウムなどの酢酸アルカ
リ金属、トリメチルアミン、トリエチルアミン
などのトリアルキルアミド、ピコリン、N−メ
チルピロリジン、N−メチルモルホリン、1,
5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕−5−ノネ
ン、1,4−ジアザビシクロ〔2,2,2〕オ
クタン、1,5−ジアザビシクロ〔5,4,
0〕−7−ウンデセンなどの有機塩基などの塩
基の存在下に反応させることもできる。 また、このオキシム化反応において、保護基
の導入および脱離ならびに塩類への変換は常法
に従つて行い、対応する目的化合物に変換する
ことができる。以上のようにして得られた本発
明の一般式〔〕の化合物またはその塩類は常
法によつて単離することができる。 以上のようにして得られた一般式〔〕の化合
物またはその塩類は、遊離酸の形、非毒性塩また
は生理的に許容されるエステルの形で細菌感染症
の治療および予防のために人および動物に投与す
ることができ、遊離酸の形もしくは非毒性塩の形
で非経口的投与方法、または生理的に許容される
エステルの形で経口的投与方法を適用することが
好ましい。その場合、通常セフアロスポリン系薬
剤に適用されている剤形、たとえば、錠剤、カプ
セル剤、散剤、顆粒剤、細粒剤、シロツプ剤、注
射剤(点滴剤含む)、坐剤などの形に調製すれば
よい。上の薬剤を調製する際、必要に応じ、たと
えば、デンプン、乳糖、砂糖、リン酸カルシウ
ム、炭酸カルシウムなどの賦形剤;アラビアゴ
ム、デンプン、結晶セルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースな
どの結合剤;タルク、ステアリン酸マグネシウム
などの滑沢剤;およびカルボキシメチルカルシウ
ム、タルクなどの崩壊剤などの希釈剤および/ま
たは添加剤を用いてもよい。 また、一般式〔〕の化合物またはその塩類を
投与する場合、症状によつて投与量、投与回数お
よび投与方法は適宜選択できるが、一般に成人1
人当り、1回量約50〜5000mgを1日1〜4回程度
経口または非経口投与すればよい。 つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて
説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 参考例 1 三弗化硼素2.71gを含む酢酸エチル溶液に、7
−アミノセフアロスポラン酸(以下、7−ACA
と略記する。)2.72gおよび2,4−ジメチル−6
−オキソ−1,6−ジヒドロピリミジン1.36gを
加えて溶解させた後、室温で16時間反応させる。 反応終了後、反応液を冷却下メタノール50ml中
へ導入し、ついで、ピリジン3.16gを滴下する。
析出晶を取し、メタノールで十分洗浄した後、
乾燥すれば、融点200℃以上を示す7−アミノ−
3−{〔1−(2,4−ジメチル−6−オキソ−1,
6−ジヒドロピリミジニル)〕メチル}−Δ3−セ
フエム−4−カルボン酸1.88g(収率55.9%)を得
る。 IR(KBr)cm-1;νc=o 1800,1675,1610 NMR(CF3COOD)δ値; 2.60(3H,s,
[Formula], (CH 3 CH 2 O) 2 PCl, (CH 3 CH 2 ) 2 PCl or other phosphorus compounds or (C 4 H 9 ) 3
It includes all those commonly used in acylation reactions, such as silyl derivatives, phosphorus derivatives, or tin derivatives produced by reaction with tin compounds such as SnCl. Specifically, the reactive derivatives at the carboxyl group of the compound of the general formula [], [], [], [], or [] include acid halogen compounds, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, and activated acid amides. , active ester and general formula [], [],
Examples include reactive derivatives of the compound [ ], [ ], or [ ] and the Vilsmeier reagent. Examples of mixed acid anhydrides include mixed acid anhydrides with carbonic acid monoalkyl esters such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoisobutyl ester, and lower alkanoic acids which may be substituted with halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid. Mixed acid anhydrides with and the like are used. Examples of active acid amides include N-acyl saccharin, N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N,N'-dicyclohexyl-
N-acylurea, N-acylsulfonamide, etc. are used. Next, as the active ester, for example, cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, substituted thienyl ester, etc. are used. In addition, examples of derivatives reactive with the Vilsmeier reagent include N,N-dimethylformamide,
Acid amides such as N,N-dimethylacetamide are treated with halogenating agents such as phosgene, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichloromethyl chloroformate, and oxalyl chloride. Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by When using each compound of the general formula [], [], [], [], or [] in the form of a free acid or salt, a suitable condensing agent is used.
Such condensing agents include, for example, N,
N,N'-disubstituted carbodiimides such as N'-dicyclohexylcarbodiimide;N,N'-
Azolide compounds such as thionyldiimidazole; dehydrating agents such as N-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-1,2-dihydroxyquinoline, phosphorus oxychloride, alkoxyacetylene; 2-
2-halogenopyridinium salts such as chloropyridinium methyl iodide and 2-fluoropyridinium methyl iodide are used. This acylation reaction is generally carried out in a suitable solvent.
Performed in the presence or absence of a base. Examples of solvents include halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; N,N
-Dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, acetone, water, or mixtures thereof can be used. In addition, as a base, inorganic bases such as alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate or alkali acetate; trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylpiveridine, N-
Examples include organic bases such as tertiary amines such as methylmorpholine, lutidine, and collidine, and secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine. In addition, general formula [a] or [
The compound of the general formula [] or its salts which can be derived from the compound of b] or its salts can also be produced as follows. To obtain the compound of the general formula [] or its salts using the compound of the general formula [] or its salts, the reaction of diketene with chlorine or a halogen such as bromine [Journal of the Chemical Society, 97] , 1987 (1910)] and a compound of the general formula [] or a salt thereof may be reacted according to a conventional method. Conditions and operations known in the art can be applied to this reaction condition and operation. In addition, salts of the compound of general formula [] can be easily obtained according to conventional methods. Mention may be made of salts at acidic groups. The resulting compound of general formula [] or its salts may be isolated and purified by conventional methods, but may also be used in the next reaction without isolation. In addition, the amount of the compound of the general formula [], [], [], [], or [] or its reactive derivative at the carboxyl group or their salts is the same as the amount of the compound of the general formula [] or its reactive derivative at the amino group. Or each is preferably about 1 to several mol each per 1 mol of the salt. These reactions are usually carried out at -50 to 40°C,
Completes in 10 minutes to 48 hours. In addition, in this acylation reaction, introduction and removal of a protecting group and conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert the compound into the corresponding target compound. The compounds of the general formula [], [], [], [] or [] or their salts obtained as described above can be isolated and purified by known means, but the compounds of the general formula [],
The compounds [ ], [ ] or [ ] or their salts can also be used as raw materials for the next reaction without being isolated. (c) Nitronization reaction Next, to obtain the compound of general formula [] or its salts from the compound of general formula [] or its salts, the compound of general formula [] or its salts is reacted with a nitronation agent. . This reaction is usually carried out in a solvent, and examples of the solvent that can be used include water, acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, and other solvents that are inert to the reaction. Preferred examples of nitroning agents include nitric acid and its derivatives, such as nitrosyl halides such as nitrosyl chloride and nitrosyl bromide; sodium nitrite;
Alkali metal salts of nitrite, such as potassium nitrite;
Examples include alkyl nitrites such as butyl nitrite and bentyl nitrite. When using a salt of nitrous acid as a nitrosating agent, the reaction is preferably carried out in the presence of an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, or acetic acid. When a nitrite alkyl ester is used as a nitrosating agent, it is preferably carried out in the presence of a strong base such as an alkali metal alkoxide. The reaction is generally carried out at -15 to 30°C and is completed in 10 minutes to 10 hours. In addition, the salts of the compound of general formula [] can be easily obtained according to the conventional method, and the salts can be prepared using the same basic or acidic groups as explained for the salts of the compound of general formula []. Salt is an example. moreover,
Introduction and removal of protecting groups are carried out according to conventional methods.
It can be converted into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] or its salts thus obtained may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without being isolated. (d) Etherification reaction and phosphorylation reaction Next, in order to obtain the compound of general formula [] or its salts from the compound of general formula [] or its salts, the compound of general formula [] or its salts is subjected to an etherification reaction. Or subjected to phosphorylation reaction. This etherification reaction and phosphorylation reaction are described in JP-A-53-137988 and JP-A-55-
It can be carried out by conventional methods such as etherification reaction and phosphorylation reaction described in No. 105689 and JP-A-55-149295. For example, the alkylation reaction can be carried out according to conventional methods. The reaction is generally carried out at -20 to 60°C, and
Complete in minutes to 10 hours. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, N,N-himethylformamide, N,N-dimethylacetamide, Water or a mixture thereof may be used. As the alkylating agent, for example, lower alkyl halides such as methyl iodide, methyl bromide, ethyl iodide, and ethyl bromide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, diazomethane, diazoethane, or methyl p-toluenesulfonate are used. . When using alkylating agents other than diazomethane and diazoethane, alkylating agents such as alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, triethylamine,
It is generally carried out in the presence of a base such as pyridine, N,N-dimethylaniline. In addition, the salts of the compound of general formula [] can be easily obtained according to the conventional method, and the salts can be prepared using the same basic or acidic groups as explained for the salts of the compound of general formula []. Salt is an example. Furthermore, the introduction and removal of a protecting group can be carried out according to a conventional method to convert the compound into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] or its salts thus obtained may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without being isolated. (e) Ring-closing reaction Next, each compound of the general formula [], [] or [] or a salt thereof is combined with the general formula [
], the compound of general formula [a] or [b] of the present invention or salts thereof can be obtained. This reaction is usually carried out in a solvent. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, but examples include water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, N,
N-dimethylacetamide, N-methylpyridone, or a mixed solvent of two or more of these solvents is used. Although the addition of a deoxidizing agent is not particularly necessary, the reaction may proceed smoothly if the deoxidizing agent is added in an amount within a range that does not change the cephalosporin skeleton. The deoxidizers used in this reaction include alkali metal hydroxide, alkali metal hydrogencarbonate, triethylamine, pyridine,
Mention may be made of inorganic or organic bases such as N,N-dimethylaniline. The reaction is generally carried out at a temperature in the range of 0 to 100°C.
Generally, one to several equivalents of thioformamide or thioureas are used per equivalent of the compound of general formula [], [] or [] or a salt thereof. The reaction time is usually 1~
48 hours, preferably 1 to 10 hours. In addition, in this ring-closing reaction, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound. The target compound of the general formula [a] or [b] of the present invention obtained as described above or a salt thereof can be isolated by a conventional method. (f) Oxime formation reaction A compound of general formula [b] or a salt thereof can be obtained by reacting a compound of general formula [] or a salt thereof with a compound of general formula [] or a salt thereof. Examples of the salts of the compound of general formula [] include hydrochloride, hydrobromide, and sulfate. This reaction usually involves water,
In addition to solvents such as alcohol and N,N-dimethylacetamide, the reaction is usually carried out in an inert solvent or a mixed solvent thereof.
It is carried out at a temperature of 0 to 100°C, preferably 10 to 50°C, and is completed in 10 minutes to 48 hours. One to several equivalents of the compound of general formula [] or a salt thereof is used per equivalent of the compound of general formula [] or a salt thereof. Incidentally, the salts of the compound of general formula [] can be used as they are in this reaction, but for example,
Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali carbonates such as magnesium carbonate and calcium carbonate. Earth metals, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, alkaline earth metal phosphates such as magnesium phosphate and calcium phosphate, hydrogen phosphate 2
Inorganic bases such as alkali metal hydrogen phosphates such as sodium and dipotassium hydrogen phosphate, or alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate, trialkylamides such as trimethylamine and triethylamine, picoline, N-methylpyrrolidine, N-methyl Morpholine, 1,
5-diazabicyclo[4,3,0]-5-nonene, 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, 1,5-diazabicyclo[5,4,
The reaction can also be carried out in the presence of a base such as an organic base such as 0]-7-undecene. In addition, in this oximation reaction, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] of the present invention or its salts obtained as described above can be isolated by a conventional method. The compound of the general formula [] or its salts obtained as above can be used in the treatment and prevention of bacterial infections in the form of free acid, non-toxic salt or physiologically acceptable ester. Preference is given to applying parenteral administration methods, in the form of free acids or non-toxic salts, or oral administration methods, which can be administered to animals, in the form of physiologically acceptable esters. In that case, it should be prepared in the dosage forms normally applied to cephalosporin drugs, such as tablets, capsules, powders, granules, fine granules, syrups, injections (including infusions), and suppositories. Bye. When preparing the above drug, if necessary, excipients such as starch, lactose, sugar, calcium phosphate, calcium carbonate; binders such as gum arabic, starch, microcrystalline cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose; talc Diluents and/or additives such as lubricants such as , magnesium stearate; and disintegrants such as carboxymethylcalcium, talc, etc. may also be used. In addition, when administering the compound of general formula [] or its salts, the dosage, frequency of administration, and administration method can be selected as appropriate depending on the symptoms, but in general, adults
A single dose of about 50 to 5000 mg per person may be administered orally or parenterally about 1 to 4 times a day. Next, the present invention will be explained with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto. Reference example 1 Add 7 to an ethyl acetate solution containing 2.71 g of boron trifluoride.
-Aminocephalosporanic acid (hereinafter referred to as 7-ACA)
It is abbreviated as ) 2.72g and 2,4-dimethyl-6
After adding and dissolving 1.36 g of -oxo-1,6-dihydropyrimidine, the mixture was allowed to react at room temperature for 16 hours. After the reaction is completed, the reaction solution is introduced into 50 ml of methanol under cooling, and then 3.16 g of pyridine is added dropwise.
After removing the precipitated crystals and thoroughly washing them with methanol,
7-amino- exhibiting a melting point of 200°C or higher when dried
3-{[1-(2,4-dimethyl-6-oxo-1,
1.88 g (yield 55.9%) of 6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid is obtained. IR (KBr) cm -1 ; νc=o 1800, 1675, 1610 NMR (CF 3 COOD) δ value; 2.60 (3H, s,

【式】), 3.13(3H,s,【formula】), 3.13(3H,s,

【式】), 3.72(2H,bs,C2−H), 5.50(2H,bs,C6−H,C7−H), 5.73(2H,bs,[Formula]), 3.72 (2H, bs, C 2 -H), 5.50 (2H, bs, C 6 -H, C 7 -H), 5.73 (2H, bs,

【式】), 6.80(1H,s,【formula】), 6.80 (1H, s,

【式】), 参考例 2 (1) 三弗化硼素27.1gを含むスルホラン溶液100ml
に、7−ACA27.2gおよび2,4−ジメチル−
6−オキソ−1,6−ジヒドロピリミジン
12.4gを加え、室温で4時間反応させる。反応
終了後、反応液を氷冷下メタノール500ml中へ
導入し、ついで、ピリジン31.6gを滴下する。
析出晶を取し、メタノールで十分洗浄した
後、乾燥すれば、7−アミノ−3−{〔1−(2,
4−ジメチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロ
ピリミジニル)〕メチル}−Δ3−セフエム−4
−カルボン酸の粗結晶30.5g(収率90.8%)を得
る。 同様にして、次の化合物の粗結晶を得た。 ○ 7−アミノ−3−{〔1−(6−オキソ−1,
6−ジヒドロピリミジニル)〕メチル}−Δ3
セフエム−4−カルボン酸 ○ 7−アミノ−3−{〔1−(4−メチル−6−
オキソ−1,6−ジヒドロピリミジニル)〕メ
チル}−Δ3−セフエム−4−カルボン酸 ○ 7−アミノ−3−{〔1−(2−メチル−6−
オキソ−1,6−ジヒドロピリミジニル)〕メ
チル}−Δ3−セフエム−4−カルボン酸 ○ 7−アミノ−3−{〔1−(2−オキソ−1,
2−ジヒドロピリミジニル)〕メチル}−Δ3
セフエム−4−カルボン酸 (2) (1)で得られた7−アミノ−3−{〔1−(2,
4−ジメチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロ
ピリミジニル)〕メチル}−Δ3−セフエム−4
−カルボン酸の粗結晶25gをメタノール250ml
に懸濁させ、これにp−トルエンスルホン酸・
1水和物12.7gを加える。ついでジフエニルジ
アゾメタン43.3gを徐々に加え、室温で15分間
反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物に酢酸エチル250mlおよび
水250mlを加え、炭酸水素ナトリウムを加えて
PH7.0に調整する。ついで不溶物を別した後、
有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、減圧下で溶媒を留去する。残留物をカ
ラムクロマトグラフイー(和光シリカゲルC−
200;溶離液、ベンゼン:酢酸エチル=1:3)
で精製すれば、融点140〜142℃(分解)を示す
ジフエニルメチル=7−アミノ−3−{〔1−
(2,4−ジメチル−6−オキソ−1,6−ジ
ヒドロピリミジニル)〕メチル}−Δ3−セフエ
ム−4−カルボキシレート14.6g(収率39.1%)
を得る。 IR(KBr)cm-1;νc=o 1770,1720,1675 NMR(d6−DMSO)δ値; 2.15(6H,s,
[Formula]), Reference Example 2 (1) 100ml of sulfolane solution containing 27.1g of boron trifluoride
, 27.2 g of 7-ACA and 2,4-dimethyl-
6-oxo-1,6-dihydropyrimidine
Add 12.4g and react at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was introduced into 500 ml of methanol under ice cooling, and then 31.6 g of pyridine was added dropwise.
The precipitated crystals are collected, thoroughly washed with methanol, and then dried to give 7-amino-3-{[1-(2,
4-dimethyl-6-oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4
- Obtain 30.5 g (yield 90.8%) of crude crystals of carboxylic acid. In the same manner, crude crystals of the following compound were obtained. ○ 7-Amino-3-{[1-(6-oxo-1,
6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3
Cefem-4-carboxylic acid○ 7-amino-3-{[1-(4-methyl-6-
oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid○ 7-amino-3-{[1-(2-methyl-6-
7-Amino- 3 -{[1-(2-oxo-1,
2-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3
Cefem-4-carboxylic acid (2) 7-amino-3-{[1-(2,
4-dimethyl-6-oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4
-25g of crude crystals of carboxylic acid in 250ml of methanol
and suspended in p-toluenesulfonic acid.
Add 12.7g of monohydrate. Then, 43.3 g of diphenyldiazomethane was gradually added, and the mixture was allowed to react at room temperature for 15 minutes. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 250 ml of ethyl acetate and 250 ml of water were added to the resulting residue, and sodium hydrogen carbonate was added.
Adjust to PH7.0. Then, after separating the insoluble matter,
The organic layer is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C-
200; eluent, benzene:ethyl acetate = 1:3)
Diphenylmethyl 7-amino-3-{[1-
(2,4-dimethyl-6-oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylate 14.6 g (yield 39.1%)
get. IR (KBr) cm -1 ; νc=o 1770, 1720, 1675 NMR (d 6 -DMSO) δ value; 2.15 (6H, s,

【式】,【formula】,

【式】), 3.31(2H,bs,C2−H), 4.80,5.34(2H,ABq,J=15Hz、
[Formula]), 3.31 (2H, bs, C 2 −H), 4.80, 5.34 (2H, ABq, J=15Hz,

【式】), 4.92(1H,d,J=5Hz,C6−H), 5.90(1H,d,J=5Hz,C7−H), 6.22(1H,s,[Formula]), 4.92 (1H, d, J=5Hz, C 6 -H), 5.90 (1H, d, J=5Hz, C 7 -H), 6.22 (1H, s,

【式】), 7.02(1H,s,−CH), 7.12〜7.71(10H,m,
[Formula]), 7.02 (1H, s, -CH), 7.12~7.71 (10H, m,

【式】), 同様にして、表−3の化合物を得る。【formula】), Similarly, the compounds shown in Table 3 are obtained.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 「式中、R1は水素原子またはカルボキシル保
護基を、R2は式【式】または式 【式】(式中,R6,R7,R8,R9, R10およびR11は、同一または異なつて、水素原
子またはアルキル基を示す。)で表わされる基を、
R3は、水素原子を、R4は、水素原子を、R5は、
保護されていてもよいアミノ基を、−A−は、式
−CH2−または式【式】 (式中、R12は、保護されていてもよいカルボ
キシル基で置換されていてもよいアルキル基を示
し、〜は、シンまたはアンチ異性体もしくはそれ
らの混合物でもよいことを示す。)で表わされる
基を示す。」 で表わされるセフアロスポリンおよび塩類。 2 R5が、アミノ基である特許請求の範囲第1
項記載のセフアロスポリンおよびその塩類。 3 −A−が、式【式】(式中、R12お よび〜は、それぞれ、前記した意味を有する。)
で表わされる基である特許請求の範囲第1項また
は第2項記載のセフアロスポリンおよびその塩
類。 4 −A−が、式【式】(式中、シン異 性体である。)で表わされる基である特許請求の
範囲第1〜3項いずれかの項記載のセフアロスポ
リンおよびその塩類。 5 −A−が、式【式】(式 中、シン異性体であり、R1は、前記した意味を
有する。)で表わされる基である特許請求の範囲
第1〜4項いずれかの項記載のセフアロスポリン
およびその塩類。 6 R2が、式【式】(式中、R6, R7およびR8は、それぞれ、前記した意味を有す
る。)で表わされる基である特許請求の範囲第1
〜5項いずれかの項記載のセフアロスポリンおよ
びその塩類。 7 R2が、式【式】(式中、R9, R10およびR11は、それぞれ、前記した意味を有
する。)で表わされる基である特許請求の範囲第
1〜5項いずれかの項記載のセフアロスポリンお
よびその塩類。 8 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
{[1−(6−オキソ−1,6−ジヒドロピリミジ
ニル)]メチル}−Δ3−セフエム−4−カルボン
酸、そのエステルまたはそれらの塩である特許請
求の範囲第6項記載の化合物。 9 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(2−メチル−6−オキソ−1,6
−ジヒドロピリミジニル)]メチル}−Δ3−セフ
エム−4−カルボン酸、そのエステルまたはそれ
らの塩である特許請求の範囲第6項記載の化合
物。 10 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(4−メチル−6−オキソ−1,6
−ジヒドロピリミジニル)]メチル}−Δ3−セフ
エム−4−カルボン酸、そのエステルまたはそれ
らの塩である特許請求の範囲第6項記載の化合
物。 11 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(2,4−ジメチル−6−オキソ−
1,6−ジヒドロピリミジニル)]メチル}−Δ3
−セフエム−4−カルボン酸、そのエステルまた
はそれらの塩である特許請求の範囲第6項記載の
化合物。 12 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド]−3−{[1−(2,4−ジメチル−6
−オキソ−1,6−ジヒドロピリミジニル)]メ
チル}−Δ3−セフエム−4−カルボン酸、そのエ
ステルまたはそれらの塩である特許請求の範囲第
6項記載の化合物。 13 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−{[1−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピ
リミジニル)]メチル}−Δ3−セフエム−4−カ
ルボン酸、そのエステルまたはそれらの塩である
特許請求の範囲第7項記載の化合物。
[Claims] 1. General formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is the formula [formula] or the formula [formula] (wherein, R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are (which are the same or different and represent a hydrogen atom or an alkyl group),
R 3 is a hydrogen atom, R 4 is a hydrogen atom, R 5 is a hydrogen atom,
-A- represents an optionally protected amino group, -CH 2 - or formula [Formula] (wherein R 12 is an alkyl group optionally substituted with an optionally protected carboxyl group) and ~ indicates that it may be a syn or anti isomer or a mixture thereof. ” Cephalosporins and salts. 2. Claim 1 in which R 5 is an amino group
Cephalosporin and its salts as described in Section. 3 -A- is represented by the formula [Formula] (wherein R 12 and ~ each have the above-mentioned meanings.)
The cephalosporin and its salts according to claim 1 or 2, which is a group represented by: 4. The cephalosporin and its salts according to any one of claims 1 to 3, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (in which it is a syn isomer). 5. Any one of claims 1 to 4, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (wherein is a syn isomer and R 1 has the meaning described above) Cephalosporin and its salts as described. 6 Claim 1, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 6 , R 7 and R 8 each have the above-mentioned meanings)
Cephalosporin and its salts according to any one of items 1 to 5. 7. Any one of claims 1 to 5, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 9 , R 10 and R 11 each have the above-mentioned meanings) Cephalosporin and its salts as described in Section. 8 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
7. The compound according to claim 6, which is {[1-(6-oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 9 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(2-methyl-6-oxo-1,6
-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 10 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(4-methyl-6-oxo-1,6
-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 11 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(2,4-dimethyl-6-oxo-
1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3
-Cefem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 12 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-{[1-(2,4-dimethyl-6
7. The compound according to claim 6, which is oxo-1,6-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 13 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-{[1-(2-oxo-1,2-dihydropyrimidinyl)]methyl}-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof or a salt thereof, according to claim 7 Compound.
JP58114313A 1983-06-27 1983-06-27 Novel cephalosporins Granted JPS606694A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58114313A JPS606694A (en) 1983-06-27 1983-06-27 Novel cephalosporins

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58114313A JPS606694A (en) 1983-06-27 1983-06-27 Novel cephalosporins

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS606694A JPS606694A (en) 1985-01-14
JPH058199B2 true JPH058199B2 (en) 1993-02-01

Family

ID=14634728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58114313A Granted JPS606694A (en) 1983-06-27 1983-06-27 Novel cephalosporins

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS606694A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0422037U (en) * 1990-06-18 1992-02-24

Also Published As

Publication number Publication date
JPS606694A (en) 1985-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR860000932B1 (en) Process for the preparation of 7-amino-3-substituted methyl-Δ³-cepem-4-carboxylic acid
US4317907A (en) Process for producing 7-(substituted)amino-3-substituted thiomethyl cephem carboxylic acids
US3917587A (en) Cephalosporin ethers
US3925368A (en) Acylureido substituted cephalosporins
EP0267733A2 (en) Cephalosporin compounds, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
JPS6052755B2 (en) New cephalosporins
JPH058199B2 (en)
US4197298A (en) [3-Heterocyclic-7-(2-methoxyimino-2-aminothiazolyl) acetamido]cephalosporins
KR870000611B1 (en) Method for preparing cephalosporin
JPH0454677B2 (en)
JPH0454676B2 (en)
JPH0357913B2 (en)
JPH0527637B2 (en)
JPH0530836B2 (en)
KR860000487B1 (en) Process for preparing cephalosporins
JP3218363B2 (en) Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound
GB2051066A (en) Cephalosporin derivatives suitable for oral administration
JPH0323552B2 (en)
JPS6052757B2 (en) Novel antibacterial compound
JPH10182655A (en) New cephem compounds
FR2533216A1 (en) New cephalosporins and their salts.
JPH0357912B2 (en)
JPH0240073B2 (en) SHINKISEFUAROSUHORINKAGOBUTSUOYOBISOREOJUKOSEIBUNTOSURUKOKINZAI
JPH05230068A (en) 3-di-substituted carbamoyloxymethylcephalosporin compound, its production and intermediate compound
JPS62149681A (en) Novel derivative of cephalosporin compound, production thereof and pharmaceutical composition containing said derivative