JPH0582017A - Original plate for shadow mask - Google Patents

Original plate for shadow mask

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Publication number
JPH0582017A
JPH0582017A JP24130591A JP24130591A JPH0582017A JP H0582017 A JPH0582017 A JP H0582017A JP 24130591 A JP24130591 A JP 24130591A JP 24130591 A JP24130591 A JP 24130591A JP H0582017 A JPH0582017 A JP H0582017A
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JP
Japan
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original plate
shadow mask
plate
length
less
Prior art date
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Pending
Application number
JP24130591A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumio Mori
二美男 盛
Hirozo Sugai
普三 菅井
Toshihiro Maki
利広 牧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP24130591A priority Critical patent/JPH0582017A/en
Publication of JPH0582017A publication Critical patent/JPH0582017A/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 アンバー合金のような金属合金からなるシャ
ドウマスク用原板において、エッチングにより穿設され
る孔の径や形状のばらつきをなくし、開孔マトリックス
の透過光にむらが生じないようにする。 【構成】 原板の任意の測定長さLの間に存在するn個
の凹部の距離xの合計Xと、測定長さLとの関係(X/
L)× 100を 0.8以下に調整する。また、所定長さ(500
mm以上)の原板の一端を垂直平面上に固定し、他端と垂
直平面との離間距離を所定長さの10%以下に調整する。
さらに、平板上に載置された所定長さ(500mm以上)の原
板と平板の隣り合う面との距離を 5mm以下に調整する。
(57) [Summary] [Objective] In a shadow mask master plate made of a metal alloy such as amber alloy, variations in the diameter and shape of the holes formed by etching are eliminated, and unevenness occurs in the light transmitted through the aperture matrix. Try not to. [Structure] The relationship (X / X) between the total X of the distances x of the n concave portions existing in the arbitrary measurement length L of the original plate and the measurement length L.
Adjust L) x 100 to 0.8 or less. In addition, the specified length (500
(mm or more) one end of the original plate is fixed on the vertical plane, and the distance between the other end and the vertical plane is adjusted to 10% or less of the predetermined length.
Furthermore, the distance between the original plate of a specified length (500 mm or more) placed on the flat plate and the adjacent surface of the flat plate is adjusted to 5 mm or less.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、カラー受像管のシャド
ウマスクを製造する際に用いる金属原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal original plate used in manufacturing a shadow mask for a color picture tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、カラー受像管の蛍光面の直前に
は、所定の設計基準に基づいてマトリックス状に穿設さ
れた、多数の開孔を有するシャドウマスクが配設されて
いる。そして、カラー受像管に対する高精細度化の要求
に伴い、このようなシャドウマスクにおいても高精密化
が要求され、その要求は年々厳しさを増している通常、
後方の電子銃から射出された電子ビームは、シャドウマ
スクの開孔を透過して蛍光面における所定位置の蛍光ド
ットを照射し、そこにカラー画像を現出させるが、この
とき射出された電子ビームの全てが開孔を通過するわけ
ではなく、開孔を通過する電子ビームは全体の約 1/3以
下であり、残りの電子ビームはシャドウマスクを直撃し
てこれを加熱する。その結果、シャドウマスクは熱膨脹
して開孔の位置が設計基準からずれて変位するため、蛍
光面における色ずれ現象を招くことがある。そのため最
近では、低熱膨脹特性を備えた Ni-Fe系合金、例えば36
wt%Ni-Fe合金(アンバー合金)でシャドウマスク自体を
構成し、色ずれ現象を防止することが試みられている。
2. Description of the Related Art In general, a shadow mask having a large number of apertures, which is formed in a matrix in accordance with a predetermined design standard, is arranged immediately in front of a fluorescent screen of a color picture tube. And with the demand for higher definition for color picture tubes, such shadow masks are also required to have higher precision, and the demands are becoming stricter year by year.
The electron beam emitted from the rear electron gun passes through the aperture of the shadow mask and irradiates the fluorescent dot at a predetermined position on the fluorescent screen to expose a color image, but the electron beam emitted at this time Not all of the electron beams pass through the aperture, and the electron beam that passes through the aperture is about 1/3 or less of the whole, and the rest of the electron beam directly hits the shadow mask to heat it. As a result, the shadow mask is thermally expanded and the positions of the openings are displaced from the design standard, which may cause a color shift phenomenon on the phosphor screen. Therefore, recently, Ni-Fe alloys with low thermal expansion properties, such as 36
Attempts have been made to prevent the color shift phenomenon by configuring the shadow mask itself with wt% Ni-Fe alloy (amber alloy).

【0003】ところで、このような Ni-Fe系合金からシ
ャドウマスクを製造する場合には、まず所定の合金組成
に調整され溶解鋳造された素材塊に、常法により鍛造、
圧延の各処理を施して所定の厚さにし、かつ必要な幅寸
法にスリットして原板とする。次いで、この原板の開孔
位置をエッチングして、所定形状の電子ビーム透過孔を
マトリックス状に穿設する。エッチング方法としては、
まず原板にフォトレジストを塗布、乾燥し、レジスト膜
を形成した後、ガラス板上にシャドウマスクのパターン
を焼き付けたワーキングネガ(ネガ)を、レジスト膜を
設けた板上に配置し、真空引きにより密着させる。次い
で、水銀ランプ等により光(UV光)を照射してレジス
ト膜を感光させた後、現像、乾燥、焼き付けを順に行っ
てから、エッチング液で腐食して穿孔する方法が採られ
ている。
By the way, when manufacturing a shadow mask from such a Ni-Fe alloy, first, a material block prepared by melting and casting with a predetermined alloy composition is forged by a conventional method,
Each process of rolling is performed to a predetermined thickness, and a slit is made into a required width dimension to obtain a master plate. Next, the opening positions of this original plate are etched to form electron beam transmission holes of a predetermined shape in a matrix. As an etching method,
First, apply photoresist to the original plate, dry it to form a resist film, and then place a working negative (negative) with a shadow mask pattern printed on a glass plate on the plate provided with the resist film and evacuate it. Make them adhere closely. Then, after irradiating light (UV light) from a mercury lamp or the like to expose the resist film to light, development, drying and baking are performed in this order, and then a hole is formed by corroding with an etching solution.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
Ni-Fe系合金等からなるシャドウマスク用原板では、エ
ッチングにより形成される開孔(電子ビーム透過孔)の
径や形状に大きなばらつきが生じ、開孔部に光を透過さ
せるむらが生じるという難点があった。そのため、近年
のカラー受像管における高精細度化の要求に充分に応え
ることができないという問題があった。
However, the conventional
In the shadow mask original plate made of Ni-Fe alloy, etc., there is a large variation in the diameter and shape of the holes (electron beam transmission holes) formed by etching, which causes unevenness in light transmission through the holes. was there. Therefore, there has been a problem that it has not been possible to sufficiently meet the recent demand for higher definition in color picture tubes.

【0005】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、エッチング加工により開孔マトリッ
クスを形成した際に、孔径や孔形状のばらつきがほとん
ど発生せず、透過光むらの発生を防止することを可能に
した、高品位のシャドウマスク用原板を提供することを
目的としている。
The present invention has been made in order to solve such a problem, and when an opening matrix is formed by etching, variations in hole diameter and hole shape hardly occur, and uneven transmission light occurs. It is an object of the present invention to provide a high-quality original plate for a shadow mask, which is capable of preventing the above.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段と作用】本発明者らは、上
記シャドウマスクにおけるエッチングむらの原因につい
て検討を重ねた結果、レジスト膜を形成した原板にネガ
を密着させるために行っている真空引きが不充分な場合
に、ネガと原板との間に空隙が生じ、これが孔径や孔形
状にばらつきを発生させ、開孔精度を低下させる原因に
なっているという知見を得た。そして、端面に生じたほ
ぼ波状の凹凸、原板全体の反り、あるいは平坦度の不足
が原因となって、前記真空引きを充分に行うことができ
ないことを見出だし、本発明を成すに至った。
Means and Actions for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies on the cause of the uneven etching in the shadow mask, and as a result, vacuum evacuation which is carried out to bring the negative film into close contact with the original plate on which the resist film is formed It was found that a gap is generated between the negative and the original plate when the ratio is insufficient, which causes variations in the hole diameter and the hole shape, which causes a decrease in the opening accuracy. The inventors have found that the vacuuming cannot be sufficiently performed due to the substantially wavy irregularities formed on the end face, the warpage of the entire original plate, or the lack of flatness, and the present invention has been completed.

【0007】すなわち、本発明における第1のシャドウ
マスク用原板は、電子ビーム透過孔が形成され、シャド
ウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、
端面に生じた略波状の凹凸曲線の隣接する頂部を結んだ
線に対して、その頂部間で前記頂部線から最も離れた凹
部までの距離をx、任意の測定長さをL、前記測定長さ
の間に存在する凹部の個数をnとしたとき、前記n個の
凹部のxの合計Xと前記Lとの関係が、(X/L)× 1
00≦ 0.8なる関係を有することを特徴とするものであ
る。
That is, the first shadow mask base plate in the present invention is a metal base plate used for manufacturing a shadow mask, in which electron beam transmitting holes are formed.
With respect to a line connecting adjacent apexes of the substantially wavy uneven curve generated on the end face, x is a distance from the apex to the recess farthest from the apex, an arbitrary measurement length is L, and the measurement length is Assuming that the number of recesses existing in the space is n, the relation between the total X of the above n recesses x and the above L is (X / L) × 1
It is characterized by having a relationship of 00 ≦ 0.8.

【0008】また、本発明における第2のシャドウマス
ク用原板は、前述と同様に電子ビーム透過孔が形成さ
れ、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板
において、前記金属原板の一端を垂直平面上に固定した
際、所定長さに設定された他端の前記垂直平面との離間
距離が、前記所定の長さの10%以下であることを特徴と
するものである。
A second shadow mask original plate according to the present invention has an electron beam transmitting hole formed in the same manner as described above, and one end of the metal original plate is a vertical plane when used for manufacturing a shadow mask. When fixed on the top, the distance between the other end set to a predetermined length and the vertical plane is 10% or less of the predetermined length.

【0009】さらに、本発明における第3のシャドウマ
スク用原板は、電子ビーム透過孔が形成され、シャドウ
マスクを製造する際に用いられる金属原板において、所
定の長さの前記金属原板を平板上に載置した際、該金属
原板と前記平板の隣り合う面の距離が 5mm以下であるこ
とを特徴とするものである。
Furthermore, the third shadow mask base plate in the present invention is a metal base plate used for manufacturing a shadow mask, in which electron beam transmitting holes are formed, and the metal base plate having a predetermined length is placed on a flat plate. When placed, the distance between the adjacent surfaces of the original metal plate and the flat plate is 5 mm or less.

【0010】本発明のシャドウマスク用原板を構成する
素材は、特に限定されるものではなく、各種合金を適用
することが可能であり、例えば Ni-Fe系合金、Ni-Cr-Fe
系合金、Ni-Co-Fe系合金、 Ni-Co-Cr-Fe系合金等が例示
される。
The material constituting the original plate for the shadow mask of the present invention is not particularly limited, and various alloys can be applied, for example, Ni-Fe type alloy, Ni-Cr-Fe.
Examples include series alloys, Ni-Co-Fe series alloys, Ni-Co-Cr-Fe series alloys, and the like.

【0011】上記した第1の発明において、任意の測定
長さLの間に存在するn個の凹部の凹み距離xの合計X
と、測定長さLとの関係を、前記範囲に限定したのは、
以下に示す理由による。すなわち、(X/L)× 100の
値が 0.8より大きい場合には、端面の凹凸のために、真
空引きによっても原板とネガとを充分に密着させること
ができず、開孔精度が低下してむらを生じる。そして、
近年のカラー受像管における高精細化の要求を満足させ
ることができない。前記した値は、小さいほど端面に凹
凸が存在しないことを意味し、原板とネガとを充分に密
着させることができるため好ましい。なおここで、測定
長さLが小さいと測定誤差が大きくなってしまうため、
Lの値は2000mm以上とすることが好ましい。さらに、
(X/L)× 100の値が 0.8以下であっても、 1個の凹
部の凹み距離xだけが極端に大きい場合には、やはりネ
ガの真空引き密着が不充分となりエッチングむらが生じ
るため、xの値は全て 3mm以下であることが好ましい。
In the above-mentioned first invention, the sum X of the dent distances x of the n concave portions existing in the arbitrary measurement length L is X.
And the measurement length L is limited to the above range,
The reason is as follows. That is, when the value of (X / L) × 100 is larger than 0.8, the original plate and the negative cannot be sufficiently brought into close contact with each other even by vacuuming due to the unevenness of the end face, and the accuracy of opening is deteriorated. It causes unevenness. And
It is not possible to satisfy the recent demand for higher definition in color picture tubes. The smaller the value is, the smaller the unevenness is on the end face, which is preferable because the original plate and the negative can be sufficiently brought into close contact with each other. Note that here, if the measurement length L is small, the measurement error increases,
The value of L is preferably 2000 mm or more. further,
Even if the value of (X / L) × 100 is 0.8 or less, if only the recess distance x of one concave portion is extremely large, the vacuum suction adhesion of the negative becomes insufficient and etching unevenness occurs. All x values are preferably 3 mm or less.

【0012】上記したような原板の端面に生じる波状の
凹凸の大きさ、密度等を上記した範囲内に調整する方法
としては、例えば以下に示す方法が例示される。すなわ
ち、端面に波状の凹凸が生じる原因は、合金素材を所定
の板厚まで圧延する際に、端部が中央部に比べて過度に
圧延されるためであり、圧延後に張力を加えながら焼鈍
を行うが、あるいは張力を加えながら交互に組み合わせ
たロール間に原板を挿入する(テンションレベラ)等の
方法を採ることによって、端面の波状の凹凸を除去また
は防止することができる。
As a method for adjusting the size, density, etc. of the wavy irregularities generated on the end face of the original plate within the above range, the following method is exemplified. That is, the cause of the wavy unevenness on the end surface is that when the alloy material is rolled to a predetermined plate thickness, the end portions are excessively rolled compared to the central portion, and annealing is performed while applying tension after rolling. Alternatively, by adopting a method such as inserting the original plate between rolls which are alternately combined while applying tension (tension leveler), it is possible to remove or prevent the wavy unevenness on the end face.

【0013】また、上記した第2の発明は、垂下式で測
定した原板全体の反りの程度を、一定の範囲に限定した
ものである。そして、垂直平面上に固定された一端から
垂下された他端の垂直平面との離間距離を、原板の長さ
の10%以下に限定したのは、これが10%を超える場合に
は、真空引きによっても反りを吸収することができず、
原板とネガとの密着性が不充分となるばかりでなく、真
空引きの際に、反った原板のレジスト膜上をネガの端部
がこすり、レジスト膜を傷付けるおそれがあるためであ
る。なおここで、原板の反りを垂下式で測定するのは、
原板の自重により反りが減少することがない状態で、反
りの程度を調べるためである。また、反りを測定する所
定の長さがあまり短いと、実際のシャドウマスクの寸法
と著しく異なって実状にそぐわなくなるため、その長さ
は 500mm以上とすることが好ましい。
The second aspect of the present invention limits the degree of warpage of the entire original plate measured by the hanging method to a certain range. And, the distance between the one end fixed on the vertical plane and the other end hung from the vertical plane was limited to 10% or less of the length of the original plate. Can not absorb the warp,
This is because not only the adhesiveness between the original plate and the negative becomes insufficient, but also the edge of the negative may rub against the resist film of the warped original plate during vacuuming, and the resist film may be damaged. In addition, here, to measure the warp of the original plate with the hanging type,
This is to check the degree of warpage without the warp being reduced by the weight of the original plate. If the predetermined length for measuring the warp is too short, the length of the shadow mask will be significantly different from the actual size of the shadow mask and will not fit in the actual state. Therefore, the length is preferably 500 mm or more.

【0014】さらに、第3の発明は、原板全体のねじれ
の程度すなわち平坦度を、一定の範囲に限定したもので
ある。そして、平板上に載置された所定長さの板材の端
部と平板の上面との距離を 5mm以下に限定したのは、こ
れが 5mmを超える場合には、真空引きによってもねじれ
を吸収することができず、原板とネガとの密着性が不充
分となり好ましくないためである。なおここで、原板を
平板上に載置したのは、板材の自重により変化する平坦
度を、自重がかかった状態で測定するためである。ま
た、こうして平坦度を測定する所定の長さがあまり短い
と、実際のシャドウマスクの寸法と著しく異なって実状
にそぐわなくなるため、その長さは500mm以上とするこ
とが好ましい。さらに、載置された板材と平板との接す
る面積は大きいほどよいが、実用上は測定される板材の
50%以上存在すれば充分である。
Furthermore, the third aspect of the invention limits the degree of twist, that is, the flatness of the entire original plate to a certain range. The distance between the end of a plate of a specified length placed on a flat plate and the upper surface of the flat plate is limited to 5 mm or less.If this exceeds 5 mm, the twist should be absorbed even by vacuuming. This is because the adhesiveness between the original plate and the negative is insufficient, which is not preferable. Here, the original plate is placed on the flat plate in order to measure the flatness that changes due to the own weight of the plate material while the own weight is applied. Further, if the predetermined length for measuring the flatness is too short in this way, it will be significantly different from the actual size of the shadow mask and will not fit in the actual state. Therefore, the length is preferably 500 mm or more. Furthermore, the larger the area of contact between the placed plate and the flat plate, the better.
It is sufficient if 50% or more is present.

【0015】上記した第2および第3の発明において、
原板の反りあるいは平坦度を前記した範囲内に調整する
ためには、例えば所定厚に圧延された原板を、交互に組
み合わされたロール(レベラ)間に挿入するか、あるい
は原板に張力を加えながらレベラを通す(テンションレ
ベラ)等の方法を採ることによって実施できる。
In the above second and third inventions,
In order to adjust the warp or flatness of the original plate within the above range, for example, an original plate rolled to a predetermined thickness is inserted between rolls (levelers) that are alternately combined, or while applying tension to the original plate. It can be carried out by taking a method such as passing a leveler (tension leveler).

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.

【0017】実施例 まず、所定の成分からなる36wt%Ni-Fe合金いわゆるアン
バー合金に、溶解、鋳造、圧延を順に行い、厚さ0.25mm
のシャドウマスク用原板を作製した。この原板には、そ
の端面に略波状の凹凸が発生していたため、テンション
レベラを通して両端の波状の凹凸をほぼ完全に除去し
た。その後、両端をスリットして幅 600mmの原板を得
た。
Example First, a 36 wt% Ni-Fe alloy of a predetermined composition, a so-called amber alloy, is melted, cast, and rolled in order to obtain a thickness of 0.25 mm.
A master plate for shadow mask of was produced. Since substantially wavy unevenness was generated on the end surface of this original plate, the wavy unevenness at both ends was almost completely removed through the tension leveler. After that, both ends were slit to obtain an original plate having a width of 600 mm.

【0018】得られた原板の反りと平坦度を、それぞれ
前述の垂下式および平板載置式で測定したところ、いず
れも本発明の範囲内であった。
The warpage and flatness of the obtained original plate were measured by the above-mentioned hanging type and flat plate placing type, respectively, and both were within the scope of the present invention.

【0019】また、比較のために、圧延したままで端面
に多数の略波状の凹凸を有する原板を用意し、その両端
をスリットした後、反りと平坦度をそれぞれ実施例と同
様にして測定した。比較例の原板の反りと平坦度は、い
ずれも本発明の範囲外であった。
For comparison, an original plate having a large number of substantially wavy irregularities on the end face as it was rolled was prepared, both ends thereof were slit, and the warpage and flatness were measured in the same manner as in the examples. .. The warpage and flatness of the original plate of Comparative Example were both outside the scope of the present invention.

【0020】次に、上記実施例および比較例によって得
られた各原板に対して、以下に示すようにエッチングを
行い、電子ビーム透過孔をマトリックス状に開孔して、
シャドウマスクを製造した。すなわち、まず原板表面の
脱脂を行った後、両面に感光液を塗布してレジスト膜を
形成した。次いで、両面のレジスト膜上に大小の孔パタ
ーンを有するネガを配置し、真空引きにより密着させた
後、ネガの後方から超高圧水銀ランプで露光することに
より、レジストを感光させた。その後、現像、乾燥、焼
き付け硬化を経て、塩化第二鉄溶液を使用してエッチン
グを行い、電子ビーム透過孔を形成した。
Next, the respective original plates obtained in the above-mentioned Examples and Comparative Examples were etched as follows to open electron beam transmitting holes in a matrix form,
A shadow mask was manufactured. That is, first, the surface of the original plate was degreased, and then a photosensitive solution was applied to both surfaces to form a resist film. Next, a negative having large and small hole patterns was placed on the resist films on both surfaces, and the negative film was brought into close contact with the resist film by vacuuming. Then, the resist was exposed to light by an ultra-high pressure mercury lamp from behind the negative film. Then, after development, drying, and baking and curing, etching was performed using a ferric chloride solution to form electron beam transmission holes.

【0021】こうして得られた各シャドウマスクを暗室
内で透過光により観察し、むら品位を評価した。その結
果、実施例の原板から作製されたシャドウマスクは、径
および形状の一定した電子ビーム透過孔が均一に設けら
れており、むらは全く生じなかった。これに対して、比
較例の原板から作製されたシャドウマスクは、孔径およ
び孔形状の不均一な部分が生じており、はっきりとむら
が発生していた。
The shadow masks thus obtained were observed in the dark room with transmitted light to evaluate the unevenness quality. As a result, the shadow mask produced from the original plate of the example had the uniform electron beam transmission holes having the same diameter and shape, and had no unevenness. On the other hand, in the shadow mask manufactured from the original plate of the comparative example, the hole diameter and the hole shape were nonuniform, and the unevenness was clearly generated.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のシャドウ
マスク用原板は、端面に生じた波状の凹凸、あるいは反
りや平坦度が、適当な範囲内に抑えられているため、真
空引きによりネガを充分に密着させることができ、エッ
チングによる孔の径や形状のばらつきが小さく、むらの
ない高品位のシャドウマスクを得ることができる。した
がって、設計基準に適合し性能の優れたシャドウマスク
が得られ、近年のカラー受像管の高精細度化の要求を充
分に満足させることができので、工業的な価値は極めて
大きい。
As described above, in the shadow mask original plate of the present invention, the wavy unevenness, warpage or flatness generated on the end face is suppressed within an appropriate range. It is possible to obtain a high-quality shadow mask which is capable of sufficiently closely adhering to each other, has a small variation in hole diameter and shape due to etching, and has no unevenness. Therefore, a shadow mask which meets the design criteria and is excellent in performance can be obtained, and the recent demand for high definition of the color picture tube can be sufficiently satisfied, so that the industrial value is extremely great.

【0023】[0023]

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子ビーム透過孔が形成された、シャド
ウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、 端面に生じた略波状の凹凸曲線の隣接する頂部を結んだ
線に対して、その頂部間で前記頂部線から最も離れた凹
部までの距離をx、任意の測定長さをL、前記測定長さ
の間に存在する凹部の個数をnとしたとき、前記n個の
凹部のxの合計Xと前記Lとの関係が、(X/L)× 1
00≦ 0.8なる関係を有することを特徴とするシャドウマ
スク用原板。
1. A metal original plate used for manufacturing a shadow mask having electron beam transmitting holes formed therein, wherein a top part of a substantially wavy concavo-convex curve formed on an end face is connected to a line connecting the adjacent top parts. Where x is the distance from the top line to the furthest concave portion, L is an arbitrary measurement length, and n is the number of concave portions existing between the measurement lengths, x of the n concave portions The relationship between the total X and the L is (X / L) × 1
A master plate for a shadow mask, which has a relationship of 00 ≦ 0.8.
【請求項2】 電子ビーム透過孔が形成された、シャド
ウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、 前記金属原板の一端を垂直平面上に固定した際、所定長
さに設定された他端の前記垂直平面との離間距離が、前
記所定の長さの10%以下であることを特徴とするシャド
ウマスク用原板。
2. A metal original plate having electron beam transmitting holes formed therein, which is used in manufacturing a shadow mask, wherein one end of the metal original plate is fixed on a vertical plane and the other end is set to a predetermined length. An original plate for a shadow mask, characterized in that the separation distance from the vertical plane is 10% or less of the predetermined length.
【請求項3】 電子ビーム透過孔が形成された、シャド
ウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、 所定の長さの前記金属原板を平板上に載置した際、該金
属原板と前記平板の隣り合う面の距離が 5mm以下である
ことを特徴とするシャドウマスク用原板。
3. A metal original plate having electron beam transmitting holes formed therein, which is used when manufacturing a shadow mask, wherein when the metal original plate having a predetermined length is placed on a flat plate, the metal original plate and the flat plate are placed. An original plate for a shadow mask, characterized in that the distance between adjacent surfaces of is less than 5 mm.
JP24130591A 1991-09-20 1991-09-20 Original plate for shadow mask Pending JPH0582017A (en)

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JP24130591A JPH0582017A (en) 1991-09-20 1991-09-20 Original plate for shadow mask

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