JPH0594767A - Original plate for shed mask and shed mask - Google Patents
Original plate for shed mask and shed maskInfo
- Publication number
- JPH0594767A JPH0594767A JP25641191A JP25641191A JPH0594767A JP H0594767 A JPH0594767 A JP H0594767A JP 25641191 A JP25641191 A JP 25641191A JP 25641191 A JP25641191 A JP 25641191A JP H0594767 A JPH0594767 A JP H0594767A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- original plate
- plate
- variation
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アンバー合金のような低熱膨脹特性を有する
金属合金からなるシャドウマスク用原板において、エッ
チングにより穿設される孔の径や形状のばらつきをなく
し、開孔マトリックスの透過光にすじむらが生じないよ
うにする。
【構成】 シャドウマスクを製造する際に用いられる金
属原板1であり、電子ビーム透過孔を形成することによ
ってシャドウマスクが得られる。電子ビーム透過孔を形
成する領域の幅方向および長手方向における長さ50mmの
間の板厚変動△tを、それぞれ 1.5μm 以下とする。
(57) [Abstract] [Purpose] In a master plate for a shadow mask made of a metal alloy having a low thermal expansion property such as amber alloy, it is possible to eliminate the variation in the diameter and shape of the holes formed by etching and to transmit the permeation matrix Avoid streaks in the light. A metal original plate 1 used when manufacturing a shadow mask, and a shadow mask is obtained by forming electron beam transmitting holes. The plate thickness variation Δt between the width of the region where the electron beam transmitting hole is formed and the length thereof in the longitudinal direction of 50 mm is 1.5 μm or less.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、カラー受像管のシャド
ウマスクを製造する際に用いる金属原板およびそれを用
いたシャドウマスクに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal original plate used for producing a shadow mask for a color picture tube and a shadow mask using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、カラー受像管の蛍光面の直前に
は、所定の設計基準に基づいてマトリックス状に穿設さ
れた、多数の開孔を有するシャドウマスクが配設されて
いる。そして、後方の電子銃から射出された電子ビーム
は、シャドウマスクの開孔を透過して蛍光面における所
定位置の蛍光ドットに照射され、そこにカラー画像を現
出させる。しかし、このとき射出された電子ビームの全
てが開孔を通過するわけではなく、開孔を通過する電子
ビームは全体の約 1/3以下であり、残りの電子ビームは
シャドウマスクを直撃してこれを加熱する。その結果、
シャドウマスクは熱膨脹して開孔の位置が設計基準から
ずれて変位するため、蛍光面における色ずれ現象を招く
ことがある。そのため最近では、低熱膨脹特性を備えた
Fe-Ni系合金、例えば36wt%Ni-Fe合金(アンバー合金)
でシャドウマスク自体を構成し、色ずれ現象を防止する
ことが試みられている。2. Description of the Related Art In general, a shadow mask having a large number of apertures, which is formed in a matrix in accordance with a predetermined design standard, is arranged immediately in front of a fluorescent screen of a color picture tube. Then, the electron beam emitted from the rear electron gun passes through the aperture of the shadow mask and is applied to the fluorescent dot at a predetermined position on the fluorescent screen, so that a color image appears. However, not all of the electron beams emitted at this time pass through the aperture, and the electron beam that passes through the aperture is about 1/3 or less of the whole, and the rest of the electron beams hit the shadow mask directly. This is heated. as a result,
Since the shadow mask is thermally expanded and the positions of the openings are displaced from the design standard, the shadow mask may cause a color shift phenomenon on the fluorescent screen. Therefore, recently, it has a low thermal expansion property.
Fe-Ni alloy, for example 36wt% Ni-Fe alloy (Amber alloy)
It has been attempted to prevent the color shift phenomenon by configuring the shadow mask itself.
【0003】ところで、このような Fe-Ni系合金からシ
ャドウマスク用原板を製造する方法としては、まず所定
の合金組成に調整され溶解鋳造された素材塊に、常法に
より鍛造、圧延等の各処理を施して所定の厚さとし、か
つ必要な幅寸法に切断する方法が採られている。そして
従来から、こうして得られる原板の板厚は、例えば圧延
方向全長、幅方向完成幅の範囲で測られた変動値として
規定しており、例えば幅方向(圧延直角方向)で 3μm
以下、長手方向(圧延方向)で 7μm 以下とされてい
る。また、このような原板の開孔位置をエッチングして
シャドウマスクを製造するには、まず原板にフォトレジ
ストを塗布してレジスト膜を形成した後、ガラス板上に
シャドウマスクのパターンを焼き付けたワーキングネガ
(ネガ)を、レジスト膜を設けた板上に配置し、真空引
きにより密着させる。次いで、水銀ランプ等により光
(UV光)を照射してレジスト膜を感光させた後、現
像、乾燥、焼き付けを順に行ってから、エッチング液で
腐食することにより開孔を形成している。By the way, as a method for producing a shadow mask original plate from such an Fe--Ni alloy, first, forging, rolling, etc. are carried out by a conventional method on a melt-cast material mass adjusted to a predetermined alloy composition. A method of applying a treatment to a predetermined thickness and cutting into a required width dimension is adopted. And conventionally, the plate thickness of the original plate thus obtained is defined as a variation value measured in the range of the total length in the rolling direction and the completed width in the width direction, for example, 3 μm in the width direction (direction orthogonal to the rolling direction).
Hereinafter, it is set to 7 μm or less in the longitudinal direction (rolling direction). Further, in order to manufacture a shadow mask by etching the opening positions of such an original plate, first, a photoresist is applied to the original plate to form a resist film, and then a shadow mask pattern is printed on a glass plate. The negative (negative) is placed on the plate provided with the resist film and brought into close contact by vacuuming. Next, after irradiating light (UV light) from a mercury lamp or the like to expose the resist film, the resist film is developed, dried and baked in order, and then corroded by an etching solution to form an opening.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
シャドウマスク用原板においては、上記した板厚規格を
充分に満足するものであっても、エッチングにより形成
される開孔(電子ビーム透過孔)の径や形状が不均一と
なる場合があり、開孔部に光を照射して透過光を観察す
ると、幅方向および長手方向にすじ状のむらが見られる
ものがあった。このようなことから、近年のカラー受像
管における高精細度化の要求に、充分に応えているとは
いい難いのが現状である。However, in the conventional shadow mask original plate, even if the above-mentioned plate thickness standard is sufficiently satisfied, the opening hole (electron beam transmitting hole) formed by etching is formed. In some cases, the diameters and shapes were non-uniform, and when irradiating the apertures with light and observing the transmitted light, streak-like unevenness was observed in some of the width and length directions. Under these circumstances, it is difficult to say that the recent demand for high definition in color picture tubes has been sufficiently satisfied.
【0005】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、本発明の第1の目的は、開孔を形成
する際に、孔径や孔形状のばらつきを抑制することがで
きる高品位のシャドウマスク用原板を提供することにあ
り、また第2の目的は、開孔部に光を透過させた際にす
じむらが生じることを防止したシャドウマスクを提供す
ることにある。The present invention has been made to address such a problem, and a first object of the present invention is to suppress variations in hole diameter and hole shape when forming openings. A second object of the present invention is to provide a high-quality original plate for a shadow mask, and a second object of the present invention is to provide a shadow mask in which streaks are prevented from occurring when light is transmitted through the openings.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段と作用】本発明のシャドウ
マスク用原板は、電子ビーム透過孔が形成された、シャ
ドウマスクを製造する際に用いられる金属原板におい
て、前記電子ビーム透過孔を形成する領域の幅方向およ
び長手方向における長さ50mmの間の板厚変動を、それぞ
れ 1.5μm 以下としたことを特徴としている。The shadow mask original plate of the present invention is a metal original plate having electron beam transmitting holes formed therein and used for manufacturing a shadow mask, wherein the electron beam transmitting holes are formed. The feature is that the plate thickness variation between the widthwise and longitudinal directions of the region of 50 mm is 1.5 μm or less.
【0007】また、本発明のシャドウマスクは、上記し
たシャドウマスク用原板を用いたことを特徴とするもの
である。The shadow mask of the present invention is characterized by using the above-mentioned shadow mask original plate.
【0008】本発明のシャドウマスク用金属合金原板に
おいては、図1に示すように、原板1の全体として板厚
変動△t0 の規定に加えて、長さ50mmという短範囲にお
ける板厚変動△tを 1.5μm 以下と規定している。この
ように、幅方向および長手方向共に、長さ50mmという短
範囲における極部板厚変動△tを 1.5μm 以下とするこ
とによって、エッチングにより形成する孔の径や形状を
均一にすることができる。In the metal alloy original plate for a shadow mask of the present invention, as shown in FIG. 1, in addition to the regulation of the plate thickness variation Δt 0 as a whole of the original plate 1, the plate thickness variation Δ in a short range of 50 mm in length Δ t is specified to be 1.5 μm or less. In this way, by making the plate thickness variation Δt in the short range of 50 mm in both the width direction and the longitudinal direction to be 1.5 μm or less, the diameter and shape of the holes formed by etching can be made uniform. ..
【0009】すなわち、局部的に板厚変動の大きい部分
(1.5μm 以上/50mm)が存在すると、電子ビーム透過孔を
形成する際にエッチングによって所定の開孔径を開ける
ための所要時間に変化が生じることによって、近接する
部分の開孔径が極端に異なるためである。これに対し
て、50mmというような短範囲の長さに対する板厚変動が
緩やかな場合には、近接する部分の孔の径や形状をほぼ
均一にすることができるため、透過光にすじむらが生じ
ることを防止することができる。上記短範囲板厚変動△
tのより好ましい値は、1μm 以下/50mm である。ま
た、この短範囲板厚変動△tは、電子ビーム透過孔を形
成する領域全体に対して評価するものであり、また全体
としての板厚変動△t0 は、従来の規定に準ずるものと
する。That is, the part where the plate thickness variation is locally large
If (1.5 μm or more / 50 mm) is present, the time required to open the specified aperture diameter by etching changes when forming the electron beam transmission aperture, and the aperture diameter of the adjacent portion is extremely different. Is. On the other hand, when the plate thickness variation with respect to the length of a short range such as 50 mm is gentle, the diameter and shape of the holes in the adjacent portions can be made substantially uniform, so that the transmitted light has uneven streaks. It can be prevented from occurring. Above short range thickness variation △
A more preferable value of t is 1 μm or less / 50 mm. Further, this short range plate thickness variation Δt is evaluated for the entire region in which the electron beam transmission hole is formed, and the plate thickness variation Δt 0 as a whole conforms to the conventional regulation. ..
【0010】本発明のシャドウマスク用原板を構成する
素材は、特に限定されるものではなく、各種合金を適用
することが可能であり、例えば Ni-Fe系合金、Ni-Cr-Fe
系合金、Ni-Co-Fe系合金、 Ni-Co-Cr-Fe系合金等が例示
される。The material constituting the original plate for the shadow mask of the present invention is not particularly limited, and various alloys can be applied, for example, Ni-Fe type alloy, Ni-Cr-Fe.
Examples include series alloys, Ni-Co-Fe series alloys, Ni-Co-Cr-Fe series alloys, and the like.
【0011】本発明においては、従来の幅方向板厚変動
を 3μm 以下、長手方向板厚変動を7μm 以下と制御し
たとしても、しばしばずじむらが発生していたことに着
目し、この原因に関して慎重に検討した結果、全体とし
ての板厚変動△t0 と短範囲での板厚変動△tとを区別
するに至った。In the present invention, attention is paid to the fact that even if the conventional width direction plate thickness variation is controlled to 3 μm or less and the longitudinal direction plate thickness variation is controlled to 7 μm or less, there is often a streak unevenness. As a result of careful examination, it became possible to distinguish between the plate thickness fluctuation Δt 0 as a whole and the plate thickness fluctuation Δt in a short range.
【0012】このすじむらは、エッチングにより形成さ
れる電子ビーム透過光の孔径が周囲に対して急激に大き
い領域(透過光の明るい領域)または孔径が周囲に対し
て急激に小さい領域(透過光の暗い領域)がすじ状に発
生して起こる。しかも、この明暗は対称的なものであ
り、周囲に対する差が急激であればすじむらとして区別
される。この差が緩やかであれば実用上問題とはされな
い。The streak is a region where the hole diameter of the electron beam transmitted light formed by etching is abruptly larger than the surrounding area (a bright area of the transmitted light) or an area where the hole diameter is abruptly smaller than the surrounding area (of the transmitted light). Dark areas) occur in stripes. Moreover, this contrast is symmetrical, and if the difference with respect to the surroundings is abrupt, it is distinguished as streaks. If this difference is gradual, it is not a problem in practice.
【0013】ここで、エッチングにより形成される電子
ビーム透過光の孔径は、板厚によって大きく影響し、例
えば板厚 1μm の変動は孔径 2μm 〜 3μm の変動とな
ってしまう。このため、本発明においては短範囲におけ
る板厚変動△tが 1.5μm 以下であれば、実用上問題と
なるすじむらを防止することが可能であることを初めて
見出だし、本発明の範囲内に規定したのである。Here, the hole diameter of the electron beam transmitted light formed by etching is greatly influenced by the plate thickness, and for example, a fluctuation of the plate thickness of 1 μm results in a fluctuation of the hole diameter of 2 μm to 3 μm. For this reason, in the present invention, it has been found for the first time that if the thickness variation Δt in the short range is 1.5 μm or less, it is possible to prevent streaking, which is a problem in practical use, and it is within the scope of the present invention. It was defined.
【0014】本発明のシャドウマスク用原板は、例えば
以下のようにして製造される。The shadow mask original plate of the present invention is manufactured, for example, as follows.
【0015】すなわちまず、目的とした合金組成に調整
した溶湯を鋳造して素材塊を作製する。次に、例えば10
50℃〜1250℃で熱間圧延を行い、脱スケール後、冷間圧
延、焼鈍を繰り返して所望の寸法に仕上げる。この際、
表面品質改善のために中間で研磨工程を行うが、この研
磨工程に使用される研磨ロール、ホイールグラインダ等
の表面研磨材の偏心、不均一等による局所的な寸法変動
が発生しないように、表面研磨材の管理、研磨条件のコ
ントロールを行う。また、冷間圧延時にロールストップ
や、張力と圧下率とのバランス不調によるチャッタリン
グ等は、短範囲の急激な寸法変動の原因となるため、張
力と圧下のバランスをコントロールする必要がある。That is, first, a molten mass adjusted to have a desired alloy composition is cast to produce a mass of material. Then, for example, 10
Hot rolling is performed at 50 ° C to 1250 ° C, and after descaling, cold rolling and annealing are repeated to obtain desired dimensions. On this occasion,
A polishing process is performed in the middle to improve the surface quality.The surface of the polishing roll used in this polishing process, wheel grinder, etc. Management of abrasives and control of polishing conditions. Further, during cold rolling, roll stop, chattering due to imbalance between tension and reduction ratio cause abrupt dimensional variation in a short range, and therefore it is necessary to control the balance between tension and reduction.
【0016】このような製法を採用することによって、
短範囲(50mm)板厚変動を 1.5μm 以下とすることができ
る。By adopting such a manufacturing method,
Short range (50 mm) thickness variation can be 1.5 μm or less.
【0017】[0017]
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.
【0018】実施例1〜3 まず、所定の成分からなる36wt%Ni-Fe合金いわゆるアン
バー合金を溶解、鋳造し、熱間圧延、表面研削後、冷間
圧延と焼鈍を繰り返し、最終ダル圧延とスリットの各工
程を順に行ってシャドーマスク用原板を 3種類製造し
た。原板の厚さはいずれも0.25mmとし、製造工程におけ
る表面研削、冷間圧延の条件をそれぞれ変化させた。実
施例1は表面研磨材(ホイールグラインダ)の圧下を均
一化し、かつホイールグラインダ表面のドレッシングを
行って局部的凹凸の発生を防止し、実施例2は冷間圧延
時の圧下圧力と張力のバランスをとり、ロールスリップ
やロールストップを防止し、実施例3は上記実施例1お
よび実施例2を併用した。これらにより、局部的な板厚
変動を種々変化させた。各シャドーマスク用原板の板厚
の幅方向および長手方向の変動(μm/50mm)は、表1に
示す通りであった。また、同時に全体としての板厚変動
も測定した。Examples 1 to 3 First, a 36 wt% Ni-Fe alloy having a predetermined composition, a so-called amber alloy, is melted, cast, hot-rolled, surface-ground, cold-rolled and annealed repeatedly, and finally dull-rolled. Each step of slitting was performed in order to manufacture three kinds of shadow mask original plates. The thickness of each original plate was 0.25 mm, and the conditions of surface grinding and cold rolling in the manufacturing process were changed. In Example 1, the reduction of the surface abrasive (wheel grinder) was made uniform, and the surface of the wheel grinder was dressed to prevent the occurrence of local unevenness, and in Example 2, the balance between the reduction pressure and the tension during cold rolling. Then, roll slip and roll stop were prevented, and Example 3 was a combination of Examples 1 and 2 above. By these, the local thickness variation was variously changed. The variation (μm / 50 mm) in the width direction and the length direction of each shadow mask original plate was as shown in Table 1. At the same time, the variation of the plate thickness as a whole was also measured.
【0019】また、本発明との比較として、製造工程に
おける表面研削、冷間圧延の条件を通常の鋼板圧延条件
とし、板厚の幅方向および長手方向の変動が本発明の範
囲外のシャドーマスク用原板を作製した。それらの幅方
向および長手方向の極部板厚変動は、表1に示す通りで
あった。Further, as a comparison with the present invention, the conditions of surface grinding and cold rolling in the manufacturing process are set as ordinary steel plate rolling conditions, and the variation of the plate thickness in the width direction and the longitudinal direction is outside the range of the present invention. A master plate was prepared. The variation of the plate thickness in the poles in the width direction and the longitudinal direction was as shown in Table 1.
【0020】次に、上記実施例および比較例で得られた
各シャドーマスク用原板の表面の脱脂を行った後、両面
に感光液を塗布してレジスト膜を形成した。次いで、両
面のレジスト膜上に大小の孔パターンを有するネガを配
置し、真空引きにより密着させた後、ネガの後方から超
高圧水銀ランプで露光することにより、レジスト膜を感
光させた。その後、現像、乾燥、焼き付け硬化を経て、
塩化第二鉄溶液を使用してエッチングを行って、それぞ
れ電子ビーム透過孔を形成した。Next, after degreasing the surface of each of the shadow mask original plates obtained in the above Examples and Comparative Examples, a photosensitive solution was applied to both surfaces to form a resist film. Next, a negative having large and small hole patterns was placed on the resist films on both sides, and after being brought into close contact with each other by evacuation, the resist film was exposed to light from behind the negative by an ultrahigh pressure mercury lamp. After that, after development, drying, baking and curing,
Etching was performed using a ferric chloride solution to form electron beam transmission holes.
【0021】このようにして製造されたシャドウマスク
を、暗室内で透過光により観察し、むら品位を評価し
た。その結果を表1に示す。なお、むら品位は、むらが
全くなく特に品位が良好なものをA、むらがほとんどな
く品位が良好なものをB、むらが少しあるが実用上問題
がないものをC、むらがあり実用できないものをDと表
した。The shadow mask manufactured in this manner was observed with transmitted light in a dark room to evaluate the uneven quality. The results are shown in Table 1. As for the unevenness quality, there is no unevenness, and particularly good quality is A. If there is little unevenness, good quality is B. If there is some unevenness but there is no problem in practical use, there is unevenness and it is not practical. The thing was designated as D.
【0022】[0022]
【表1】 [Table 1]
【0023】表1から明らかなように、各実施例による
シャドウマスク原板は、極部的な板厚変動が僅かである
ため、すじむらがなく品位の良好なシャドウマスクが得
られている。これに対して各比較例によるシャドウマス
ク原板は、極部的な板厚変動が大きいために、得られる
シャドウマスクにはすじむらが強く発生し実用に供し得
ない。As is clear from Table 1, the shadow mask original plates according to the respective examples have a slight variation in plate thickness locally, and therefore, a shadow mask of good quality without streaks is obtained. On the other hand, in the shadow mask original plate according to each comparative example, since the plate thickness variation at the extreme part is large, the obtained shadow mask has strong streak unevenness and cannot be put to practical use.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のシャドウ
マスク用原板によれば、極部的な板厚変動を押さえてい
るために、エッチングにより形成される孔の径や形状の
ばらつきが小さく、すじむらのない高品位のシャドウマ
スクを得ることができる。したがって、設計基準に適合
し、性能に優れたシャドウマスクが得られ、近年のカラ
ー受像管の高精細度化の要求を充分に満足させることが
できる。As described above, according to the original plate for a shadow mask of the present invention, since the variation of the plate thickness is suppressed locally, the variation in the diameter and shape of the holes formed by etching is small. Therefore, it is possible to obtain a high-quality shadow mask having no streaks. Therefore, it is possible to obtain a shadow mask that meets the design criteria and is excellent in performance, and it is possible to sufficiently satisfy the recent demand for higher definition of the color picture tube.
【図1】本発明のシャドウマスク用原板を模式的に示す
断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a shadow mask original plate of the present invention.
1…シャドウマスク用原板 1 ... Shadow mask original plate
Claims (2)
ウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、 前記電子ビーム透過孔を形成する領域の幅方向および長
手方向における長さ50mmの間の板厚変動を、それぞれ
1.5μm 以下としたことを特徴とするシャドウマスク用
原板。1. A metal original plate having electron beam transmitting holes formed therein, which is used for manufacturing a shadow mask, wherein a plate having a length of 50 mm in a width direction and a longitudinal direction of a region where the electron beam transmitting holes are formed. Thickness variation
An original plate for a shadow mask, which has a thickness of 1.5 μm or less.
用いたことを特徴とするシャドウマスク。2. A shadow mask using the original plate for a shadow mask according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25641191A JPH0594767A (en) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | Original plate for shed mask and shed mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25641191A JPH0594767A (en) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | Original plate for shed mask and shed mask |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0594767A true JPH0594767A (en) | 1993-04-16 |
Family
ID=17292307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25641191A Pending JPH0594767A (en) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | Original plate for shed mask and shed mask |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0594767A (en) |
-
1991
- 1991-10-03 JP JP25641191A patent/JPH0594767A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4724012A (en) | Material for in-tube components and method of manufacturing it | |
| JPH0549727B2 (en) | ||
| US3639799A (en) | Shadow mask with reinforcing ring for colored television picture tube | |
| US3909311A (en) | Shadow mask for use in color picture tube and method for fabricating same | |
| JPH0594767A (en) | Original plate for shed mask and shed mask | |
| KR20010040205A (en) | Shadow mask | |
| KR0160536B1 (en) | Aperture grill and method of producing the same | |
| JP3155782B2 (en) | Original plate for shadow mask | |
| US6384523B1 (en) | Color selection electrode, method of producing color selection electrode and cathode ray tube | |
| JPH0582046A (en) | Sheath mask for color picture tube and manufacturing method thereof | |
| KR100373840B1 (en) | Method of fabricating shadow mask for color picture tube | |
| US3878427A (en) | Apertured-mask cathode-ray tube having half-tone array of heat-absorbing areas on target surface | |
| JP2000123754A (en) | Shadow mask and base material for shadow mask | |
| KR100516410B1 (en) | Shadow mask for color picture tube | |
| JP2771372B2 (en) | Aperture grill and method of manufacturing the same | |
| JP2672491B2 (en) | Shadow mask | |
| JP2001179305A (en) | Method of manufacturing original plate for shadow mask | |
| JPH0594768A (en) | Original plate for shed mask and shed mask | |
| US5348827A (en) | Plate material for shadow mask | |
| JP2001192776A (en) | Extension type shadow mask | |
| JPH0738297B2 (en) | Amber alloy original plate for shed mask | |
| JPS60187682A (en) | Manufacture of shadow mask | |
| JP3063373B2 (en) | Method for producing thin plate for Fe-Ni-based alloy shadow mask with excellent etching properties | |
| JPH0582017A (en) | Original plate for shadow mask | |
| JPH0676645B2 (en) | Material for pipe parts and manufacturing method thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001107 |