JPH0582896U - 液体の連続供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レジスト液等を連続して供給する際に変質し
ないようにする。 【構成】 装置本体１の上部には冷却室Ｓを設けてい
る。この冷却室Ｓは前後左右及び上部を閉塞され、下方
を昇降機構１０によって昇降せしめられるテーブル３が
出入りできるように開放し、内部には冷却用の配管５を
設けている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案はレジスト液、シリカ系被膜形成液等を連続して供給する装置に関する 。

【０００２】

【従来の技術】

ＬＳＩや薄膜トランジスタの製造には、半導体ウェハやガラス基板等の表面に ノズル先端からレジスト液を滴下し、これをスピンナで拡散してマスク等になる 膜を形成する工程がある。そして、ノズルにレジスト液を連続して供給するため 従来は、レジスト液を貯溜する容器内にガスを供給するとともに液面よりも下方 まで液体取り出しパイプを差し込み、ガス圧によってレジスト液をノズル先端ま で供給するようにしている。

【０００３】 上述した方式では、容器内のレジスト液を使い切ってしまうと、液体を満たし た新たな容器内にガスを供給するとともに液体取り出しパイプを再び差し込む作 業を行なわなければならず、また、容器交換を人手で行なうと容器を揺らし気泡 を発生しやすく、一旦発生した気泡は液体の粘度が高いと極めて抜きにくい。

【０００４】 そこで、本出願人は先に実願平２−９９０６８号として、パンタグラフ式昇降 機構を２つ備えた液体の連続供給装置を提案した。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

上述した装置によれば１つの容器が空になっても直ちに別の容器から新たな液 体を連続して供給することができる。しかしながら、１つの容器が空になるまで に長時間経過すると、容器内の液体が変質することがある。特に高温の雰囲気下 に長時間晒すとレジスト液やシリカ系被膜形成液は変質しやすい。

【０００６】

【課題を解決するための手段】 上記課題を解決すべく本考案は、レジスト液等を連続的に供給する装置を、容 器を載置する一対のテーブルと、これら各テーブルを昇降せしめるパンタグラフ 式昇降機構と、このパンタグラフ式昇降機構によって上昇せしめられた液体貯溜 容器を一定の温度以下に保持する冷却室と、上限位置にある液体貯溜容器の上端 口部内に入り込むとともに加圧ガスの供給口、加圧ガスの排出口及び液体取り出 しパイプの挿入口を形成したキャップとによって構成した。

【０００７】

【作用】

一方の容器が空になると、バルブの切換え等によって他方の容器の液体をノズ ル等へ供給する。また空になった容器はパンタグラフ式昇降機構により交換位置 まで下げ新たな容器と交換するか液体を容器内に供給する。

【０００８】

【実施例】

以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。ここで、図１は本考案 に係る液体の連続供給装置の正面図、図２は図１のＡ−Ａ線断面図、図３は図１ のＢ−Ｂ線断面図であり、液体の連続供給装置は装置本体１の支持板１ａに上下 方向のレール２を左右に離間して設け、これら各レール２にテーブル３，３のス ライダ４を係合し、テーブル３がレール２に沿って上下動可能となっている。そ して、テーブル３の上面にはレジスト液等を貯溜する容器６のセット位置を定め る位置決め用突部７を形成している。

【０００９】 また各テーブル３と装置本体１の底板１ｂとの間にはパンタグラフ式昇降機構 １０を配置している。このパンタグラフ式昇降機構１０は図１及び図４に示すよ うに、底板１ｂに設けた軸１１の両端にリンクバー１２，１３の下端部を枢着し 、これらリンクバー１２，１３の上端部に中間部が軸１４にて回動自在に連結さ れたリンクバー１５，１６の下端部を枢着し、これらリンクバー１５，１６の上 端部をテーブル３の下面に設けた軸１７に上端部を枢着したリンクバー１８，１ ９の下端部に連結し、そして左右のリンクバー１５，１５及びリンクバー１６， １６の下端間に図１に示すようにプレート２０，２０（リンクバー１６，１６間 のプレートについては省略）を架設し、このプレート２０，２０間にロッドガイ ド２１，２２を固着し、ロッドガイド２１，２２にエアシリンダ２３のピストン ロッド２４を摺動自在に貫通せしめ、ロッドガイド２１から突出した端部にナッ ト２５を螺合している。またロッドガイド２１，２２の下方の底板１ｂ上にはス プリング２６を設け、パンタグラフ式昇降機構が最も縮んだ際に緩衝作用を発揮 するようにしている。

【００１０】 また、装置本体１の上部には冷却室Ｓを設けている。この冷却室Ｓは前後左右 及び上部を閉塞され、下方をテーブル３が出入りできるように開放し、内部には 冷却用の配管５を設けている。尚、冷却室Ｓの下方については開放してもよいが 、扉を設け、テーブルが上がった状態では扉を開けてテーブル自体で冷却室Ｓの 下方を閉じて冷気の逃げを少なくするようにしてもよい。

【００１１】 一方、装置本体１の天板１ｃには開口３０を形成し、この開口３０にキャップ ３１を摺動自在に嵌め込み、また開口３０の周囲にボルト３２を立設し、このボ ルト３２にキャップ３１の上端に固着したフランジ部３３を挿通し、このフラン ジ部３３と天板１ｃとの間にスプリング３４を縮装し、このスプリング３４で上 方からの衝撃例えば液取り出しパイプ３５をキャップ３１に形成したパイプ挿入 口３６に差し込む場合等に生じる衝撃を緩和するようにしている。

【００１２】 またキャップ３１には加圧ガスの供給口３７及び加圧ガスの排出口３８を形成 するとともにキャップ下面の中央に上昇してきた液体貯溜容器６の口部６ａを受 けて容器の位置決めを行なうテーパ部３９を設けている。

【００１３】 以上において、液体貯溜容器６内の液体をパイプ３５を介してノズル等に供給 するには、図１の右側部に示すようにエアシリンダユニット２３を伸張せしめ、 パンタグラフ式昇降機構１０を折り畳み、テーブル３を最も下方に位置させ、こ の位置でテーブル３上に液体貯溜容器６をセットする。次いでエアシリンダユニ ット２３を圧縮し、パンタグラフ式昇降機構１０を伸ばし、液体貯溜容器６を上 昇させ冷却室Ｓ内に液体貯溜容器６を臨ませる。一方、パイプ３５は挿入口３６ を介して液体貯溜容器６内に入り込みその下端を液体貯溜容器６内の液体表面よ りも下方にする。

【００１４】 そして、本考案にあっては容器６の口部６ａがキャップ３１のテーパ部３９に 当接するまで上昇するが、口部６ａがテーパ部３９に当たった際の衝撃は昇降機 構がパンタグラフ式であるため昇降機構自身によって吸収する。またパイプ３５ をキャップ３１に挿入する際に引っ掛かった様な場合にはスプリング３４に抗し てキャップ３１が下がることで吸収する。

【００１５】 この後、パイプ３５とノズルとの間のバルブ及び大気と繋がるバルブを閉じ、 加圧ガスの供給口３７から容器６内にガスを所定圧になるまで供給し、所定圧に なったならばパイプ３５とノズルとの間のバルブを開にして液体を供給する。 そして、一方の容器６が空になったならば予め用意しておいた隣の容器６にバ ルブを切換え、空になった容器６は下方に下げて新たな容器と交換するか液体を 補充する。

【００１６】 尚、図示例にあってはキャップの上端フランジと装置本体の天板との間にスプ リングを設けてキャップを上方に付勢したが、キャップの上下動をガイドするボ ルト頭とキャップの上端フランジとの間にスプリングを介在せしめてキャップを 下方に付勢してもよい。このようにすることで下方からの容器の突き当たりに対 しての緩衝効果がより高くなる。

【００１７】

【考案の効果】

以上に説明したように本考案によれば、人手によって新たな容器を液供給位置 にセットする必要がなく極めて効率良く液体の供給を連続的に行なうことができ るとともに、供給状態にある容器を一定の温度以下に保つようにしたので、容器 内の液体を使い切るまで品質を一定に維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る液体の連続供給装置の正面図

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図

【図３】図１のＢ−Ｂ線断面図

【図４】パンタグラフ式昇降機構の拡大図

【図５】キャップの平面図

【図６】キャップの側断面図

【符号の説明】

１…装置本体、３…テーブル、５…冷却管、６…容器、
１０…昇降機構、２３…シリンダユニット、３１…キャ
ップ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 佐合 宏仁 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)考案者 山本 正治 岡山県井原市木之子町6186番地 タツモ株 式会社内

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 液体貯溜容器を載置する一対のテーブル
   と、これら各テーブルを昇降せしめるパンタグラフ式昇
   降機構と、このパンタグラフ式昇降機構によって上昇せ
   しめられた液体貯溜容器を一定の温度以下に保持する冷
   却室と、上限位置にある液体貯溜容器の上端口部内に入
   り込むとともに加圧ガスの供給口、加圧ガスの排出口及
   び液体取り出しパイプの挿入口を形成したキャップとか
   らなる液体の連続供給装置。