JPH0465244A - ボンド供給装置 - Google Patents

ボンド供給装置

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JPH0465244A
JPH0465244A JP2180046A JP18004690A JPH0465244A JP H0465244 A JPH0465244 A JP H0465244A JP 2180046 A JP2180046 A JP 2180046A JP 18004690 A JP18004690 A JP 18004690A JP H0465244 A JPH0465244 A JP H0465244A
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JP
Japan
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bond
reservoir
tray
reservoirs
transfer
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Application number
JP2180046A
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English (en)
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JP2751586B2 (ja
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Keizo Akiyoshi
秋吉 敬三
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/01Manufacture or treatment
    • H10W72/011Apparatus therefor
    • H10W72/0113Apparatus for manufacturing die-attach connectors

Landscapes

  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はボンド供給装置に関し、複数個のボンド貯溜体
を設け、チップやボンドの品種に対応して、これらのボ
ンド貯溜体を使い分けることにより、ボンドの転写量を
調整するようにしたものである。
(従来の技術) ICやLSIなどのチップは、リードフレームなどの基
板にボンドを塗布して接着される。
このようなボンド塗布は、一般に、ボンド供給装置に備
えられたボンド貯溜体にボンドを貯溜し、転写子にこの
ボンドを付着させて、基板に転写するようになっている
(発明が解決しようとする課B) 上記のように、ボンドを基板に転写する場合、チップの
品種、殊にその大小やボンドの品種に応して、転写量を
加減することが望ましい。ところが従来のボンド供給装
置は、転写量を加減するための手段を有していなかった
ため、チ。
ブやボンドの品種に関係なく、転写量は常に一定であり
、このため、場合によっては、ボンド過多、あるいはボ
ンド過少となりやすい問題があった。
そこで本発明は、チップやボンドの品種に対応して、ボ
ンドの転写量を加減できるボンド供給装置を提供するこ
とを目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は、複数個のボンド貯溜体と、これらのボンド貯
溜体を供給位置と待機位置に選択的に移動させる移動手
段と、これらのボンド貯溜体を水平回転させる回転駆動
手段と、これらのボンド貯溜体に貯溜されたボンドの液
面を平滑するスキージとからボンド供給装置を構成して
いる。
(作用) 上記構成において、複数個のボンド貯溜体のうち、一方
のボンド貯溜体を供給位置に位置せしめ、このボンド貯
溜体のボンドを転写子に付着させて、基板に転写する。
また他方のボンド貯溜体は、待機位置に待機させておき
、待機中にこれを水平回転させながら、スキージにより
ボンドの液面を所定高さに調整しておくことにより、供
給位置で供給中の上記ボンド貯溜体といつでも交換でき
るように準備しておく。そしてチップの品種変更等によ
り、ボンドの転写量やボンドの品種が変る場合には、移
動手段を駆動して、供給位置のボンド貯溜体と待機位置
のボンド貯溜体を交換する。
(実施例) 次に、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第1図はボンド供給装置の正面図、第2図は側面図、第
3図は平面図である。1は本体フレームであり、2個の
ボンド貯溜体2A、2Bが備えられている。Ml、M2
はモータであり、ベルト3、ブーIJ4,5を介して、
ボンド貯溜体2A、2Bを水平回転させる。6は台部で
あり、本体フレーム1はブラケット12を介して、この
台部6に支持されている。この台部6はスライダ7を介
してレール8に載置されている。
9はシリンダ、10はそのロンド、11は合板テアル。
ロンドlOが突没することにより、台部6はレール8上
を摺動し、ボンド貯溜体2A。
2Bを供給位置aと待機位置すに選択的に位置させる。
すなわち、上記各部材7〜1oは、ボンド貯溜体2A、
2Bの移動手段を構成している。
第2図において、13は本体フレーム1をブラケット1
2に装着するための装着用のビス、14は長孔である。
15はねし棒であって、本体フレーム1に螺合されてお
り、操作部16を手動的に回転操作すると、本体フレー
ム1はブラケット12に沿って昇降し、ボンド貯溜体2
A、2Bの高さを調整する。
第2図において、20はボンドのストッカーであり、凹
入部21にボンド23が貯溜されている。ボンド貯溜体
2A、2Bは円板状であって、ボンド23の貯溜部24
と、越流したボンド23を貯溜する溜部25がリング状
に形成されている。ボンド23としては、エポキシ樹脂
や銀ペースト等が一般に使用される。2つのボンド貯溜
体2A、2Bには、同一品種のボンドを貯溜してもよく
、あるいは異種のボンドを貯溜してもよい。上記凹入部
21に貯溜されたボンド23は、その重粘性により、貯
溜部24に少量づつ流下して補給される。
第3図において、26.27はスキージであり、ボンド
23の液面を平滑する。30は転写子である。この転写
子30は、貯溜部24のボンド23を下端部に付着し、
基板31に転写する(第4図参照)。第3図において、
P(PI。
P2・・・)は、転写子30が昇降して、その・下面に
ボンド23を付着させる付着位置である。
本装置は上記のような構成より成り、次に動作の説明を
行う。
一方のボンド貯溜体2Aを供給位置aに位置せしめ、他
方のボンド貯溜体2Bは待機位置すに位置させてお(。
この状態で、モータMl。
M2を駆動して、ボンド貯溜体2A、2Bを矢印N方向
に水平回転させる。すると、第4図に示すように、スキ
ージ26はボンド23の液面を平滑して、ボンド23の
深さdを一定に保持する。この平滑された液面に転写子
3oが着地して、ボンド23Aをその下面に付着せしめ
、このボンド23Aを基板31に転写する。転写子30
に付着するボンド23Aの量、すなわち基板31に転写
される転写量は、ボンド23の深さdで決定される。そ
こで、上記操作部16を操作して、ボンド貯溜体2Aを
スキージ26に対して昇降させることにより、上記深さ
dを調整する。
ボンド23は粘性が大きい。このため、転写子30がボ
ンド貯溜体2Aのボンド23を付着して除去すると、そ
の部分のボンド23の液面は、えぐられるようにして部
分的に低下する。
ボンド貯溜体2Aが1回転した後、転写子30がこのえ
くられた部分に着地すると、ボンド23を十分に付着で
きない。そこで第4図に示すように、付着位置PL、P
2・・・が順にずれるように、モータM1の回転速度を
制御する。
なおボンド23を付着するための転写子30の昇降位置
は常に一定である。
このようにして、一方のボンド貯溜体2Aが供給位置a
にあって、転写子30にボンド23を供給している時は
、他方のボンド貯溜体2Bは待機位置すにあるが、待機
中において、このボンド貯溜体BのモータM2も駆動し
ており、スキージ27によりボンド23の深さが所望深
さになるように、ボンド23の液面を平滑しておくこと
により、供給位置aで供給中のボンド貯溜体2Aといつ
でも交換できるように準備している。
さてチップの品種変更により転写量が変るときや、ボン
ド23の品種が変るときは、シリンダ9を作動させて、
ボンド貯溜体2Aとボンド貯溜体2Bを交換する。すな
わちシリンダ9を作動させることにより、ボンド貯溜体
2Aは待機位置すに移動し、ボンド貯溜体2Bが供給位
置aに移動する。そこで上記の場合と同様に、このボン
ド貯溜体2Bのボンド23を、転写子30に付着せしめ
て、基板31に転写する。この場合、ボンド貯溜体2B
の液面は、待機位置すにおいて待機中に平滑されて、所
望の深さに調整されていたので、直ちに転写子30に付
着させて基板31に転写することができる。また待機位
置すにおいて、モータM1を駆動させることにより、ボ
ンド貯溜体2Aを水平回転させ、スキージ26により荒
れた液面を平滑するとともに、ボンド23の深さを調整
しておく。
このように待機中にボンド23の深さを調整しておけば
、いつでも、且つ直ちに、このボンド貯溜体2Aをボン
ド貯溜体2Bと交換して、転写子30にボンド23を供
給できる。このように本手段によれば、ボンド貯溜体2
A、2Bを交換することにより、転写子30に付着する
ボンド23の転写量を手軽に加減できる。
なお上記実施例は、ボンド貯溜体は2個であるが、3個
以上のボンド貯溜体を装備してもよいものである。
(発明の効果) 以上説明したように本発明は、複数個のボンド貯溜体と
、これらのボンド貯溜体を供給位置と待機位置に選択的
に移動させる移動手段と、これらのボンド貯溜体を水平
回転させる回転駆動手段と、これらのボンド貯溜体に貯
溜されたボンドの液面を平滑するスキージとからボンド
供給装置を構成しているので、チップやボンドの品種変
更に対応して、ボンド貯溜体を交換することにより、ボ
ンドの転写量を簡単に調整することができ、また各々の
ボンド貯溜体に品種の異るボンドを貯溜しておくことに
より、簡単にボンドを交換できる。しかも待機位置にお
いて、ボンド貯溜体の液面が所定の深さになるよう平滑
しながら待機できるので、ロスタイムなく、直ちにボン
ド貯溜体を交換して、転写子にボンドを供給できる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の実施例を示すものであって、第1図はボン
ド供給装置の正面図、第2図は側面図、第3図は平面図
、第4図は要部断面図である。 2A、2B・・・ボンド貯溜体 7〜10・・・移動手段 23・・・ボンド 26.27・・・スキージ Ml、M2・・・回転駆動手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数個のボンド貯溜体と、これらのボンド貯溜体を供給
    位置と待機位置に選択的に移動させる移動手段と、これ
    らのボンド貯溜体を水平回転させる回転駆動手段と、こ
    れらのボンド貯溜体に貯溜されたボンドの液面を平滑す
    るスキージとから成ることを特徴とするボンド供給装置
JP2180046A 1990-07-06 1990-07-06 ボンド供給装置 Expired - Lifetime JP2751586B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP2180046A JP2751586B2 (ja) 1990-07-06 1990-07-06 ボンド供給装置

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JPH0465244A true JPH0465244A (ja) 1992-03-02
JP2751586B2 JP2751586B2 (ja) 1998-05-18

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0582896U (ja) * 1992-04-14 1993-11-09 東京応化工業株式会社 液体の連続供給装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0582896U (ja) * 1992-04-14 1993-11-09 東京応化工業株式会社 液体の連続供給装置

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