JPH0583046B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば電気絶縁板、化粧板等の積層
板の製造に使用される紙、布等の繊維質材からな
るシート状の基材にワニスを含浸させるための方
法及び装置に関するものである。

〔従来の技術〕

一般に、繊維質材からなるシート状の基材にワ
ニスを含浸させる場合、ワニスが基材の繊維内部
にまで含浸され、各部のワニス量分布がむらなく
均一であることが重要であり、且つ基材中に残存
する気泡を可及的に少なくすることが望ましい。

従来の含浸方法では、一般に、基材をこれに予
備含浸用の通常ワニスを予備含浸させた上で、タ
イミングロールを経てワニス槽に導いて、通常ワ
ニスを含浸させるようにしているのが普通であ
る。

ところが、このような含浸方法では、基材の内
部にまでワニスを均一且つ充分に含浸させること
が困難であり、ワニスを含浸させるに長時間を要
するといつた問題があつた。しかも、基材中に残
存する気泡を充分に少なくすることが困難であ
る。かかる問題は、特に高粘度のワニスを使用し
た場合に顕著となる。

そこで、近時、上記した予備含浸用の通常ワニ
スに代えて溶剤若しくは溶剤を多量に含む稀薄な
ワニス（以下「予備含浸液」という）を貯溜した
予備含浸槽と通常ワニスを貯溜した本含浸槽とを
並置して、基材をガイドロールにより予備含浸
槽、本含浸槽を順次通過せしめるようにすること
が行われている。

かかる含浸方法によれば、基材が予備含浸液中
を通過せしめられる間に、基材中の空気が予備含
浸液と置換されて排除されるから、基材を、これ
に含浸された予備含浸液を蒸発させつつワニス中
にもたらすと、ワニスを効率良く含浸させ得ると
共に、気泡の減少を図ることができる。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、予備含浸液中からワニス中への
移行段階において、基材が空気に触れると共に両
槽間のガイドロールによる圧縮作用を受けること
から、基材中の空気の排除が充分に行われず、ワ
ニス含浸性、ボイドレス効果を余り期待できな
い。

すなわち、基材が上記ガイドロールに至ると、
基材を構成する繊維束に接触面圧力が作用して、
繊維束が開繊することになり、繊維束内の毛管力
により保持されている予備含浸液の液相が破壊さ
れる。そして、このガイドロールを通過した時点
で繊維束の圧縮は解除されるが、この解圧作用に
よつて開繊された繊維束は再形成される。このよ
うに、繊維束における含浸液相の破壊と開繊され
た繊維束の再形成とが空気中で行なわれることか
ら、予備含浸液中からワニス中への移行段階にお
いて基材には空気が再侵入する虞れがある。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、
基材におけるワニス含浸性、ボイドレス効果を大
幅に向上させ得るワニス含浸方法とこれを好適に
実施しうるワニス含浸装置とを提供することを目
的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

この課題を解決した本発明のワニス含浸方法
は、溶剤等の低粘性液を貯溜せる低粘性液貯溜領
域とワニスを貯溜せるワニス貯溜領域との間に、
両貯溜領域にその液面で液封された状態で連通す
る密閉状の熱サイホン領域を設けて、繊維質材か
らなるシート状の基材を低粘性液貯溜領域、熱サ
イホン領域、ワニス貯溜領域を順次通過させるよ
うにすると共に、熱サイホン領域において、基材
を加熱してこれに含浸された低粘性液を蒸発さ
せ、且つ該領域で発生した低粘性液蒸気を凝縮液
化させて、その凝縮液化された低粘性液を低粘性
液貯溜領域側に回収するようにし、更に熱サイホ
ン領域と低粘性液貯溜領域との連通部において低
粘性液を加熱蒸発させ、その蒸発量を該連通部に
おける液封面の変動に応じて制御させるようにし
たものである。

一方、かかる方法を実施するための本発明のワ
ニス含浸装置は、溶剤等の低粘性液を貯溜した低
粘性液貯溜槽と、ワニスを貯溜したワニス貯溜槽
と、各貯溜槽内の液面下において開口する筒状の
基材入口部入口部及び基材出口部を垂設した密閉
状の熱サイホン室と、繊維質材からなるシート状
の基材を低粘性液貯溜槽から基材入口部を経て熱
サイホン室に導き更に基材出口部からワニス貯溜
槽に導く基材走行ガイド機構と、熱サイホン室内
において基材を加熱して、これに含浸された低粘
性液を蒸発させる基材加熱機構と、熱サイホン室
内の低粘性液蒸気を凝縮液化する冷却機構と、該
冷却機構により凝縮液化された低粘性液を低粘性
液貯溜槽側に回収する凝縮液回収機構と、基材入
口部内の低粘性液溜に上下方向に延びる低粘性液
加熱面を配設して、低粘性液溜の液面変動に伴つ
て低粘性液の加熱蒸発量が変化するように構成さ
れた低粘性液加熱機構と、を具備するものであ
る。

〔作用〕

基材が低粘性液貯溜槽内を通過する間におい
て、基材中の空気が低粘性液と置換されて排除さ
れる。

そして、低粘性液を含浸された基材は、引き続
き、基材入口部から熱サイホン室内にもたらされ
て基材加熱機構により加熱される。かかる基材の
加熱により、これに含浸された低粘性液は蒸発分
離される。

このとき、熱サイホン室内の蒸気圧力は、基材
加熱機構及び低粘性液加熱機構による低粘性液の
蒸発量と冷却機構による凝縮量とが平衡状態にあ
る限り、一定範囲に保持されるが、基材走行速度
等のワニス含浸条件が変更、変動されると、上記
蒸発量と凝縮量とのバランスが崩れことから、熱
サイホン室内の蒸気圧力が変動して上記作用が良
好に行なわれなくなる虞れがある。

しかし、熱サイホン室内の蒸気圧力が変動する
と、これに伴つて低粘性液溜の液面（及びワニス
溜の液面）も変動し、その変動量に応じて低粘性
液加熱機構による蒸発量が自動的に制御されるこ
とになる。すなわち、蒸気圧力が低下して、低粘
性液溜の液面が上昇すると、低粘性液溜における
低粘性液加熱面の浸漬量つまり低粘性液と低粘性
液加熱面との接触面積が増加し、その結果、低粘
性液加熱機構による蒸発量が蒸気圧力の低下量に
相当する量だけ増加し、熱サイホン室内の蒸気圧
力変動を阻止する。逆に、蒸気圧力が上昇した場
合には、低粘性液溜の液面が下降して、低粘性液
と低粘性液加熱面との接触面積が減少し、したが
つて低粘性液加熱機構による蒸発量が減少して、
蒸気圧力の上昇を阻止する。

このように、熱サイホン室内の蒸気圧力は、圧
力制御装置等を設けておかずとも自己制御され
て、常に一定範囲に保持されることになる。しか
も、運転停止により基材走行が停止された場合や
基材走行速度の変更、変動があつた場合等にあつ
て、冷却機構による凝縮量が基材加熱による蒸発
量を大幅に上回るような状態では、熱サイホン室
内が真空若しくは負圧になり、低粘性液及びワニ
スが基材入口部及び基材出口部から熱サイホン室
に吸い上げられるといつた不都合を生じる虞れが
あるが、このような場合にもかかる不都合は全く
生じない。

また、冷却機構で凝縮された低粘性液は低粘性
液貯溜槽側に回収されることから、低粘性液の損
失及びワニス貯溜槽への侵入は可及的に防止され
ることになる。

したがつて、熱サイホン領域においては、基材
が熱サイホンのウイツクとして良好に機能するこ
とになり、基材は低粘性液の飽和蒸気のみを含有
する状態で、熱サイホン領域からワニス貯溜領域
にもたらされることになる。すなわち、低粘性液
貯溜領域からワニス貯溜領域への移行段階におい
て基材に空気が侵入することがなく、ワニス領域
には空気を含有しない基材がもたらされることに
なる。

その結果、基材がワニス貯溜領域にもたらされ
ると、基材へのワニス含浸が良好に行なわれ、基
材にはワニスが均一且つ充分に含浸せしめられる
ことになる。

〔実施例〕

以下、本発明の構成を第１図に示す実施例に基
づいて具体的に説明する。

第１図に示すワニス含浸装置において、１は基
材、２は低粘性液貯溜槽、３はワニス貯溜槽、４
は熱サイホン室、５は基材加熱機構、６は冷却機
構、７は低粘性液蒸発機構、８は凝縮液回収機
構、９は基材走行ガイド機構である。

基材１は繊維質材からなるシート状のもので、
合成、天然の有機、無機繊維からなる織布、不織
布、例えば紙、ガラス繊維布、ガラス繊維不織
布、カーボン繊維布、カーボン繊維不織布、アラ
ミド繊維布、アラミド繊維不織布等が使用され
る。

低粘性液貯溜槽２は溶剤等の低粘性液１２を所
定量貯溜した上面開放状のものであり、ワニス貯
溜槽３はワニス１３を所定量貯溜した上面開放状
のものである。各貯溜槽２，３の側壁には溢流堰
２ａ，３ｂ及び溢流溜２ｂ，３ｂが設けられてい
て、各貯溜槽２，３における液面高さを一定に保
持するように工夫してある。なお、溢流堰２ａ，
３ｂの液は、図示しない返戻手段により貯溜槽
２，３に返戻されるようになつている。また、低
粘性液１２及びワニス１３は、夫々、図示しない
温度制御装置により所定温度に保持されている。

ところで、低粘性液１２としては、基材１に対
して充分な濡れ性を有するものが使用される。具
体的には、ワニス１３より低粘度であり且つ
100cP以下の粘度の溶剤等を使用するが、含浸さ
せようとするワニスに配合された溶剤と同質のも
のを使用しておくことが好ましい。また、ワニス
１３としては、一般に熱硬化性樹脂ワニスが使用
されるが、その他、熱可塑性樹脂、天然樹脂等の
ワニスや無溶剤の液状合成樹脂、液状天然樹脂等
も使用される。

熱サイホン室４は両貯溜槽２，３間の上方部位
に配設されており、底壁部に筒状の基材入口部４
ａ及び基材出口部４ｂを垂設してなる逆Ｕ字状の
サイホン管形状に構成されている。基材入口部４
ａ及び基材出口部４ｂは、夫々、低粘性液貯溜領
域２′及びワニス貯溜領域３′の液面１２′，１
３′下において開口されていて、熱サイホン室４
内を液封により密閉された熱サイホン領域４′に
形成している。また熱サイホン室４には、不活性
ガスの供給管１４、排気管１５、抽気管１６が接
続されている。抽気管１６は低粘性液貯溜槽２に
導かれており、抽気弁１６ａが介設されている。
なお、基材入口部４ａ及び基材出口部４ｂを含む
熱サイホン室４の周壁は断熱壁に構成されてい
て、低粘性液蒸気が外界空気により冷却されて熱
サイホン室４の内壁面に凝縮付着するのを防止す
るように工夫してある。

基材加熱機構５は、熱サイホン室４内に加熱ロ
ール５ａを基材１の回行に追従すべく回転自在に
設けてなる。この加熱ロール５ａは、熱サイホン
領域４′において基材１を低粘性液１２の沸点以
上若しくはその近傍温度に加熱して、これに含浸
せる低粘性液１２を蒸発させるものである。とこ
ろで、加熱ロール５ａによる基材加熱温度は図示
しない温度制御装置により制御されようになつて
いるが、その蒸発能力は、基材１に含浸されて熱
サイホン室４内に持込まれる最大量の低粘性液を
蒸発させ得るに充分なものとされている。なお、
加熱ロール５ａは基材１の通過方向に回転駆動さ
せるようにしておいてもよい。この場合、ロール
周速を基材１の走行速度に一致させておくことは
いうまでもない。

冷却機構６は、熱サイホン領域４′における低
粘性液蒸気を冷却、凝縮させるためのものであつ
て、基材入口部４ａにおける低粘性液溜１２ａの
上位に配設した第１冷却コイル６ａと、基材出口
部４ｂにおけるワニス溜１３ａの上位に配設した
第２冷却コイル６ｂとからなる。ところで、第１
冷却コイル６ａによる冷却能力つまり凝縮能力
は、加熱ロール５ａにより蒸発された低粘性液を
全て凝縮し得るに充分なものとされている。すな
わち、加熱ロール５ａの蒸発能力以上のものとさ
れている。また、第２冷却コイル６ｂの凝縮能力
は、第１冷却コイル６ａの凝縮能力より低く、そ
の10〜20％程度としてある。なお、各冷却コイル
６ａ，６ｂと熱サイホン室４の周壁との間は断熱
してあつて、この周壁に冷却コイル６ａ，６ｂに
よる冷却作用が及ぶことによる不都合（低粘性液
蒸気の周壁内面への凝縮付着）を防止すべく図つ
ている。

低粘性液加熱機構７は、低粘性液溜１２ａの低
粘性液を加熱、蒸発させるもので、例えば内部に
加熱媒体を流動させる伝熱コイルで形成された上
下方向に延びる低粘性液加熱面７ａを低粘性液溜
１２ａに配置してなる。ところで、この低粘性液
加熱機構７による加熱能力つまり低粘性液蒸発能
力は、少なくとも、両冷却コイル６ａ，６ｂによ
る凝縮量（総和量）に相当する蒸発量を確保し得
るに充分なものとしてある。なお、低粘性液加熱
面７ａと熱サイホン室４の周壁との間は断熱され
ていて、低粘性液溜１２ａにおける熱がその周囲
の低粘性液１２に伝わるのを極力防止すべく図つ
ている。

凝縮液回収機構８は、第２冷却コイル６ｂの直
下位において基材出口部４ｂの内周部に凝縮液溜
８ａを連設して、この凝縮溜８ａから低粘性液貯
溜槽２（より具体的には、基材入口部４ａの低粘
性液溜２ｂ）に回収管８ｂを導くことによつて、
第２冷却コイル６ｂにより凝縮された低粘性液を
低粘性液溜２ｂに回収するように構成されてい
る。また、第１冷却コイル６ａにより凝縮された
低粘性液については、基材入口部４ａをそのまま
利用して低粘性液溜２ｂに回収するようになされ
ている。なお、前記凝縮溜８ａの構成壁８ｃを、
基材１と第２冷却コイル６ｂとの間を断熱する断
熱壁に構成して、基材１が冷却コイル６ｂにより
放射冷却されることにより低粘性液蒸気が基材１
に凝縮付着するのを防止すべく図つている。

基材走行ガイド機構９は、少なくとも各貯溜槽
２，３内に配設したガイドロール９ａ……，９ｂ
……からなり、基材１が基材供給源（図示せず）
から低粘性液貯溜槽２内に至り、基材入口部４ａ
から低粘性液加熱面７ａ及び第１冷却コイル６ａ
を通過して熱サイホン室４内に至り、加熱ロール
５ａ及び第２冷却コイル６ｂを通過して基材出口
部４ｂからワニス貯溜槽３内に至り、ワニス貯溜
槽３上のワニス含浸量調整機構１７を通過せしめ
られるようにガイドするものである。なお、各貯
溜領域２′，３′に配設されているガイドロール９
ａ……，９ｂ……の一部は、基材１にその幅方向
への伸展力を付与しうるエキスパンダ式のものに
構成されていて、基材１の進行方向に対して直角
方向の、低粘性液貯溜領域２′における空気と低
粘性液との置換及びワニス貯溜領域３′における
ワニス含浸を、夫々促進させるように図つてい
る。また、ワニス含浸量調整機構１７はスクイズ
ロール又はスクイズバーからなるもので、ワニス
貯溜槽３を経過した基材１をスクイズして、その
ワニス含浸量を調整する。

次に、以上のように構成されたワニス含浸装置
を用いて、本発明の方法を具体的に説明する。

装置を起動させるに当たつては、次のようにし
て、熱サイホン室４内を低粘性液の飽和蒸気で充
満させると共に、その蒸気圧力を一定範囲に保持
させておく。

すなわち、供給管１４から熱サイホン室４に不
活性ガスを供給し、熱サイホン室４内の空気を排
気管１５から排除する。このとき、熱サイホン室
４内は大気圧に保持される。したがつて、低粘性
液溜１２ａ及びワニス溜１３ａの液面１２′ａ，
１３′ａは貯溜槽２，３の液面１２′，１３′と同
一高さに位置されている（第１図実線参照）。

次に、各加熱機構５，７を作動させ、主とし
て、低粘性液加熱機構７により熱サイホン室４内
に低粘性液蒸気を発生させる。同時に、低冷却能
力の第２冷却コイル６ｂのみを作動させて、低粘
性液蒸気を凝縮させる。したがつて、高冷却能力
の第１冷却コイル６ａが作動されていないことか
ら、両加熱機構５，７による蒸発量が第２冷却コ
イル６ｂによる凝縮量を上回り、熱サイホン室４
内の蒸気圧力は上昇していく。

このとき、抽気弁１６ａを強制的に開くと、熱
サイホン室４内の余剰蒸気が抽気管１６から低粘
性液貯溜槽２に排除されて、熱サイホン室４内は
大気圧に保持される。一方、各封液面１２′ａ，
１３′ａは変動せず、そのまま第１図の実線位置
に維持される。また、第２冷却コイル６ｂにより
凝縮された低粘性液は、凝縮液溜８ａに捕集さ
れ、回収管８ｂから低粘性液溜１２ａに回収され
る。これによつて、低粘性液蒸気がワニス貯溜領
域３′側に凝縮するのが防止される。

このような作用が繰返されることによつて熱サ
イホン室４内の不活性ガスが追い出され、該室４
内は低粘性液蒸気で充満されることになる。

熱サイホン室４内が低粘性液蒸気で充満される
と、抽気弁１６ａを強制的に閉じて、熱サイホン
室４内の圧力を上昇させる。このとき、熱サイホ
ン室４内の圧力上昇に伴つて、各封液面１２′ａ，
１３′ａは下降していく（第１図鎖線参照）。そし
て、低粘性液溜１２ａの液面１２′ａの下降に伴
つて、低粘性液溜１２ａにおける低粘性液加熱面
７ａの浸漬深さしたがつて該加熱面７ａと低粘性
液との接触面積が減少して、低粘性液加熱機構７
による蒸発量が減少していき、第２冷却コイル６
ｂの凝縮量と平衡することになる。

引き続き、第１冷却コイル６ａを作動させる
と、低粘性液蒸気の凝縮量が増大して、熱サイホ
ン室４内の圧力が低下し、各封液面１２′ａ，１
３′が上昇する。低粘性液溜１２ａの液面１２′ａ
の上昇に伴つて、低粘性液加熱面７ａと低粘性液
との接触面積が増大して、低粘性液加熱機構７に
よる蒸発量が増加していき、冷却コイル６ａ，６
ｂの凝縮量と平衡することになり、熱サイホン室
４内の蒸気圧力は一定範囲に保持される。

このような状態にした上で、基材１の走行させ
ると、次のようにして基材１へのワニス含浸が行
なわれる。

すなわち、基材１は基材供給源から低粘性液貯
溜槽２内にもたらされて、低粘性液１２中に浸漬
され、基材１中の空気が低粘性液１２と置換され
る。このとき、基材１が低粘性液１２の液面１
２′に至ると、低粘性液１２が毛細管現象により
基材１を構成する繊維束に浸漬し、同時に、その
浸透力によつて繊維束中の空気は押出される。か
かる浸透作用は、繊維束における浸透抵抗のため
或る段階で停止する。つまり、浸透作用の停止
は、基材１の走行速度つまり繊維束の低粘性液１
２への侵入速度が浸透速度より大きい場合は液面
上で生じ、逆の場合は液面下で生じる。したがつ
て、基材１が低粘性液貯溜領域２′を通過する間
に、繊維束中の空気はすべて低粘性液１２と置換
されて排除されることになる。

そして、低粘性液１２を含浸された基材１は、
基材入口部４ａから熱サイホン室４内にもたらさ
れ、加熱ロール５ａにより加熱されて、基材１に
含浸されている低粘性液１２が蒸発除去される。

このとき、基材１はその進行速度で低粘性液１
２を基材加熱部５ａへ供給し続けることから、基
材１は熱サイホンとしてのウイツクのの役割を果
たすことになる。

一方、熱サイホン室４内の蒸気圧力は、次のよ
うな自己制御により一定範囲に保持される。

すなわち、熱サイホン室４内の蒸気圧力が変動
すると、これに伴つて低粘性液溜１２ａの液面１
２′ａ（及びワニス溜１３ａの液面１３′ａ）も変
動し、その変動量に応じて低粘性液加熱機構７に
よる蒸発量が自動的に制御されることになる。例
えば、蒸気圧力が低下して液封面１２′ａが上昇
すると、低粘性液溜１２ａにおける低粘性液と低
粘性液加熱面７ａとの接触面積が増加し（例え
ば、実線状態）、低粘性液加熱機構７による蒸発
量が蒸気圧力の低下量に相当する量だけ増加し、
熱サイホン室４内の蒸気圧力低下を阻止する。逆
に、蒸気圧力が上昇した場合には、封液面１２′
ａが下降して、低粘性液と低粘性液加熱面７ａと
の接触面積が減少し（例えば、鎖線状態）、低粘
性液加熱機構７による蒸発量が減少して、蒸気圧
力の上昇を阻止する。

また、基材加熱機構５による発生蒸気の殆どは
第１冷却コイル６ａにより凝縮されて、基材入口
部４ａから低粘性液溜１２ａに回収される。一
方、基材出口部４ｂにおいては、第２冷却コイル
６ｂにより低粘性液蒸気が凝縮され、その凝縮液
は回収管８ｂから低粘性液溜１２ａに回収され
る。その結果、上記した蒸気圧力の自己制御と相
俟つて、基材１からの低粘性液分離が良好に行な
われると共に、低粘性液１２の損失及びワニス貯
溜槽３への侵入は可及的に防止されることにな
る。

したがつて、熱サイホン室４で加熱された基材
１は低粘性液１２の飽和蒸気を含有するのみとな
り、空気を含まない状態で基材出口部４ｂからワ
ニス貯溜槽３内にもたらされ、ワニス１３中に浸
漬される。

そして、基材１に含まれた低粘性液飽和蒸気は
ワニス貯溜領域３′に侵入する際、微量の低粘性
液飽和液となつてワニス１３中に拡散する。

したがつて、基材１がワニス貯溜領域３′を通
過する間において、基材１にはワニス１３が均一
且つ充分に含浸せしめられることになる。

このとき、上記した如く、熱サイホン室４で発
生する低粘性液蒸気の殆どが低粘性液貯溜槽２側
に回収されること、及び基材１によつて直接ワニ
ス貯溜槽３内に持ち込まれる低粘性液飽和蒸気が
微量であることから、ワニス貯溜槽３内のワニス
粘度が低下するようなことはない。また、基材１
にはエキスパンダ式ガイドロール９ａ，９ｂを通
過する際に幅方向への伸展力が加わり、この伸展
力がロール通過後に解消されるため、低粘性液１
２及びワニス１３中で幅方向の繊維束も拡繊・再
収束が行なわれて、幅方向における空気・低粘性
液の置換及びワニスの含浸性も向上することにな
る。その結果、基材１の繊維束内部にまで充分に
ワニス１３が含浸されることになる。

〔発明の効果〕

以上の説明から容易に理解されるように、本発
明の方法によれば、基材にワニスを均一且つ充分
に短時間で含浸させることができ、しかも基材中
の起泡を皆無とすることができる。かかる効果
は、高粘度のワニスを含浸させる場合に著しい。

しかも、本発明の方法によれば、熱サイホン領
域における蒸気圧力の変動を低粘性液貯溜領域と
の連通部における液封面の変動として捉え、この
液封面の変動に応じて低粘性液蒸気の発生量を制
御するようにしたから、基材速度等のワニス含浸
条件の変更、変動に拘らず、常に、熱サイホン領
域の蒸気圧力を一定範囲に保持し得て、良好なワ
ニス含浸を行なうことができる。

さらに、低粘性液中からワニス中への移行段階
において基材を加熱し、低粘性液を殆ど蒸発分離
するので、低粘性液の損失及びワニスの稀釈化を
効果的に防止しうると共に含浸作用の異なる促進
を図りうる。しかも、基材における低粘性液使用
量が極く僅かとなり、ワニス含浸後の乾燥工程に
おける乾燥炉排気量を大幅に減ずることができ
る。

また、本発明の装置によれば、上記方法を好適
に実施することができ、特に、熱サイホン室内の
蒸気圧力を低粘性液溜における低粘性液と低粘性
液加熱面との接触面積の変動により自己制御させ
るようにしたから、高精度の圧力制御装置等を全
く必要とせず、装置構造を徒に複雑化、大型化す
ることがない。しかも、熱サイホン室の蒸気圧力
制御を、圧力制御装置等による場合に比して、よ
り確実且つ正確に行なうことができる。さらに、
運転停止時等において熱サイホン室内が真空若し
くは負圧状態になるような場合にあつても、この
ような事態の発生を未然に防止して、低粘性液や
ワニスが熱サイホン室に吸い上げられるといつた
不都合を全く生じさせない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るワニス含浸装置の一実施
例を示す断面図である。 １……基材、２……低粘性液貯溜槽、２′……
低粘性液貯溜領域、３……ワニス貯溜槽、３′…
…ワニス貯溜領域、４……熱サイホン室、４′…
…熱サイホン領域、４ａ……熱サイホン領域と低
粘性液貯溜領域との連通部である基材入口部、４
ｂ……熱サイホン領域とワニス貯溜領域との連通
部である基材出口部、５……基材加熱機構、５ａ
……加熱ロール、６……冷却機構、６ａ……第１
冷却コイル、６ｂ……第２冷却コイル、７……低
粘性液加熱機構、７ａ……低粘性液加熱面、８…
…凝縮液回収機構、９……基材走行ガイド機構、
１２……低粘性液、１２ａ……低粘性液溜、１
２′ａ……液封面たる低粘性液溜の液面、１３…
…ワニス、１３ａ……ワニス溜、１３′ａ……液
封面たるワニス溜の液面。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 溶剤等の低粘性液を貯溜せる低粘性液貯溜領
   域とワニスを貯溜せるワニス貯溜領域との間に、
   両貯溜領域にその液面で液封された状態で連通す
   る密閉状の熱サイホン領域を設けて、繊維質材か
   らなるシート状の基材を低粘性液貯溜領域、熱サ
   イホン領域、ワニス貯溜領域を順次通過させるよ
   うにすると共に、熱サイホン領域において、基材
   を加熱してこれに含浸された低粘性液を蒸発さ
   せ、且つ該領域で発生した低粘性液蒸気を凝縮液
   化させて、その凝縮液化された低粘性液を低粘性
   液貯溜領域側に回収するようにし、更に熱サイホ
   ン領域と低粘性液貯溜領域との連通部において低
   粘性液を加熱蒸発させ、その蒸発量を該連通部に
   おける液封面の変動に応じて制御させるようにし
   たことを特徴とするワニス含浸方法。 ２ 溶剤等の低粘性液を貯溜した低粘性液貯溜槽
   と、ワニスを貯溜したワニス貯溜槽と、各貯溜槽
   内の液面下において開口する筒状の基材入口部及
   び基材出口部を垂設した密閉状の熱サイホン室
   と、繊維質材からなるシート状の基材を低粘性液
   貯溜槽から基材入口部を経て熱サイホン室に導き
   更に基材出口部からワニス貯溜槽に導く基材走行
   ガイド機構と、熱サイホン室内において基材を加
   熱して、これに含浸された低粘性液を蒸発させる
   基材加熱機構と、熱サイホン室内の低粘性液蒸気
   を凝縮液化する冷却機構と、該冷却機構により凝
   縮液化された低粘性液を低粘性液貯溜槽側に回収
   する凝縮液回収機構と、基材入口部内の低粘性液
   溜に上下方向に延びる低粘性液加熱面を配設し
   て、低粘性液溜の液面変動に伴つて低粘性液の加
   熱蒸発量が変化するように構成された低粘性液加
   熱機構と、を具備することを特徴とするワニス含
   浸装置。