JPH0583122B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、例えばＸ線用の斜め入射ミラーや多
層膜ミラーなどの評価を行うためのＸ線光学素子
評価装置に関する。

（従来の技術） 近時、シンクロトロン放射光（SOR；
Synchrotron Orbital Radiation）やプラズマＸ
線などのＸ線源が発達し例えばＸ線リングラフイ
の分野に適用されている。これにともなつて、Ｘ
線を集光、結像する光学素子が開発されている。
このような光学素子としては、斜め入射ミラー、
多層膜ミラー、ゾーンプレート等がある。

ところで、従来において、このようなＸ線光学
素子の評価は、評価すべき光学素子にＸ線を入射
させ、このとき光学素子にて反射したＸ線を検出
することにより行つている。このときのＸ線源と
しては、電子線励起型のＸ線源、SORプラズマ
Ｘ線源が使われている。

しかしながら、電子線励起型のＸ線は、軟Ｘ線
（波長0.5〜10nm）領域でのＸ線輝度が小さく、
検出が困難である難点をもつている。一方、
SORは、電子線励起型に比べ輝度が２桁程度高
いすぐれた長所をもつている反面、装置がすこぶ
る大型であるため、一部で実用化されているにせ
ぎない。最後に、プラズマＸ線源は、十分な輝度
を有し、かつ、装置の小型化も容易であることか
ら、他の二つよりもＸ線光学素子の評価に適して
いる。しかしながら、プラズマＸ線の輝度は、
SORに比べると、いまだ十分でなく、なおかつ、
Ｘ線源から放射され検出器に至るＸ線は、途中で
分散逸出するため、最初のＸ線の数％にすぎな
い。このために、Ｘ線源から検出器までには、Ｘ
線の散逸ができるだけ少なく、かつ、コンパクト
な光学系を配置する必要がある。しかしながら、
現在、これらの要求を十分に満足するＸ線光学素
子評価装置は存在しない。さらに、従来のＸ線光
学素子評価装置は、入射Ｘ線の入射角に差がでる
結果、モノクロ化の分解能が低い欠点をもつてい
る。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は、上記事情を勘案してなされたもの
で、Ｘ線発生装置からのＸ線の利用効率が高く、
かつ、小型化が可能で、しかも、モノクロ化の分
解能が高まるＸ線光学素子を提供することを目的
とする。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段と作用） Ｘ線を発生するＸ線投射手段と、このＸ線投射
手段からのＸ線を平行Ｘ線に変換するか又は１点
に集光させる第１の反射手段と、この第１の反射
手段からのＸ線を任意の波長のＸ線に変換する第
２の反射手段と、上記Ｘ線光学素子を上記単色Ｘ
線の入射角変更自在に保持する試料保持手段とを
有し、Ｘ線光学素子からの反射Ｘ線に基づいて複
数種の評価を能率的かつ高精度で行うことができ
るようにしたものである。

（実施例） 以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述
する。

第１図は、第１の実施例のＸ線光学素子評価装
置を示している。この装置は、評価用のＸ線１を
発生するＸ線発生部２と、このＸ線発生部２にて
発生したＸ線１を平行光に変換する第１反射部３
と、この第１反射部３にて平行光に変換されたＸ
線４を単色化する第２反射部５と、Ｘ線評価され
る試料Ｗを保持して矢印６方向に回動し且つ第２
反射部５にて単色化されたＸ線７を入射させる試
料保持部８と、試料Ｗにて反射したＸ線９を入射
して入射量に比例する大きさの電気信号に変換す
るＸ線検出部１０とから構成されている。しかし
て、Ｘ線発生部２は、例えばガラスレーザ光など
のレーザ光１１を発振するレーザ光源１２と、こ
のレーザ光源１２からのレーザ光１１を集光させ
るレンズ系１３と、このレンズ系１３により集光
されたレーザ光１１を入射して前記Ｘ線１を発生
させる円筒状のターゲツト１４とからなつてい
る。そして、ターゲツト１４は、Ｘ線１の波長に
応じて、例えばアルミニウムAl、銅Cuなどが用
いられている。一方、第１反射部３は、Ｘ線１の
光路上に設けられ余分のＸ線を遮断する第１スリ
ツト１８と、この第１スリツト１８の出光側に設
けられ且つＸ線１の発生点１９を焦点とする回転
放物面を有する第１ミラー２０と、Ｘ線４の光路
上に設けられこの第１ミラー２０にて反射された
Ｘ線４のうち余分なものを遮断する第２スリツト
２１とからなつている。しかして、ターゲツト１
４にて放射されたＸ線１は、第１ミラー２０に入
射すると平行なＸ線４に変換される。ここで、Ｘ
線１の第１ミラー２０への斜め入射角θは、１〜
２度と極めて小さく設定する。その結果、Ｘ線４
は、短波長側を除きＸ線１と同一の波長で、か
つ、その反射強度は極めて高くなる。つぎに、第
２反射部５は、第２スリツト２１の出光側に設け
られＸ線４を単色化されたＸ線７に変換する第２
ミラー２２と、この第２ミラー２２にて反射され
たＸ線７の光路上に設けられＸ線７のうち必要な
もののみ通過させる第３スリツト２３と、第２ミ
ラー２２及び第３スリツト２３を互に位置関係を
変えることなく矢印２４方向に回動自在に保持す
る第１ゴニオメータ２５とからなつている。そう
して、第２ミラー２２は、超研磨された基板２６
と、この基板２６上に被着され境界面で互に拡散
せずしかも光学定数の大きく異なる例えばＷと
Ｃ，ＶとＣ，AuとＣ、ReとＣ等の２種類の物質
を１層の厚さが10〜数10Åとなるように交互に蒸
着積層した多層膜２７とからなつている。このよ
うな多層膜２７は、いわゆる超格子構造を有して
おり、その斜め入射角βを変えることにより、Ｘ
線７を所望のモノクロＸ線に変更できる。そし
て、第２ミラー２２は、第１ゴニオメータ２４の
回動中心に位置している。つぎに、試料保持部８
は、試料Ｗを着脱自在に把持するチヤツク（図示
せず。）と、このチヤツクを矢印６方向に回動自
在に支持する第２ゴニオメータ２８とからなつて
いる。そして、チヤツクに保持された試料Ｗは、
Ｘ線４の光路に対し時計回りに角度2βだけ回動
したＸ線７の光路上に設けられ、かつ、第２ゴニ
オメータ２８の回動中心に位置するように設定さ
れている。さらに、Ｘ線検出部１０は、第２ゴニ
オメータ２８に一体的に取付けられたデイテクタ
２９と、このデイテクタ２９に入射するＸ線９の
うち余分のものを遮断する第４スリツト３０と、
デイテクタ２９からの電気信号を入力して種々の
演算を行う評価判定部３１とからなつている。そ
して、デイテクタ２９及び第４スリツト３０は、
Ｘ線７の試料Ｗへの斜め入射角をγとすると、Ｘ
線７の光路から2γだけ時計回りに回動したＸ線
９の光路上に設けられている。

つぎに、上記構成のＸ線光学素子評価装置の作
動について述べる。

まず、チヤツクに評価用のＸ線光学素子である
試料Ｗを把持させる。つぎに、第１ゴニオメータ
２５により、第２ミラー２２へのＸ線４の斜め入
射角βを所定角度に設定する。ついで、レーザ光
源１２からレーザ光１１をレンズ系１３を経由し
てターゲツト１４の発生点１９に集光させる。す
ると、この発生点１９にてのプラズマがレーザ光
１１により励起されることにより、Ｘ線１が、第
１スリツト１８を経由して第１ミラー２０に斜め
入射角θ（例えば１〜２度）で入射する。その結
果、散乱的に入射したＸ線１は、平行Ｘ線４とな
つて、第２スリツト２１を経由して、第２ミラー
２２に斜め入射角βで入射する。すると、このＸ
線４は、この第２ミラー２２によつて、斜め入射
角βによつて決定される波長を有するモノクロＸ
線７に変換される。ついで、このＸ線７は、第３
スリツト２３を経由して斜め入射角γで試料Ｗに
入射したのち反射し、Ｘ線９となつて第４スリツ
ト３０を経由しデイテクタ２９に入射する。しか
して、Ｘ線９を入射したデイテクタ２９からは、
入射したＸ線９の強度に比例した電圧を有する電
気信号が評価判定部３１に出力され、このときの
Ｘ線９の強度が記憶される。つぎに、Ｘ線７の試
料Ｗへの斜め入射角γを第２ゴニオメータ２７を
操作することにより、逐次変化させ、変化させた
各入射角γについて、上述した測定プロセスを繰
返し、Ｘ線９の強度を評価判定部３１に記憶させ
る。しかるのち、試料ＷのＸ線反射率の斜め入射
角依存性をプリンタ又はCRT上にプロツトさせ
る。さて、以上の記述は、斜め入射角βを固定
し、斜め入射角γを変化させたものであるか、逆
に、斜め入射角γを固定し、斜め入射角βを第１
ゴニオメータ２５により変化させれば、試料Ｗの
Ｘ線反射率のＸ線波長依存性を測定することがで
きる。

以上のように、この第１の実施例は、第１ミラ
ー２０が回転放物面ミラーとなつているので、そ
れ以後のＸ線４，７，９を平行化でき、第１ミラ
ー２０の反射率が90％以上となり、Ｘ線の有効利
用が可能となる。とくに、第１ミラー２０により
Ｘ線を平行化することにより、ローランド円を考
慮する必要がなくなり、第１ミラー２０と第２ミ
ラー２２との距離Ｌ１、第２ミラー２２と試料Ｗ
との距離Ｌ２並びに試料Ｗとデイテクタ２９との
距離Ｌ３を任意に設定することができるので、装
置を小型化することができる。また、第２ミラー
２２に入射するＸ線４の斜め入射角βがそろつて
いるので、モノクロ化の分解能が向上し、質の良
いモノクロＸ線が得られる。さらに、第１ミラー
２０におけるＸ線反射率が高いので、デイテクタ
２９の感度が低くても十分な評価を行うことがで
きる。要するに、第１の実施例のＸ線光学素子評
価装置は、コンパクトな装置で、複数種のＸ線評
価を高精度かつ高能率で行うことができる。

なお、上記実施例において、Ｘ線発生部２は、
一般のＸ線管でもよい。さらに、第１ミラーを多
層膜ミラーとし、第２ミラーを回転放物面を有す
るミラーとしてもよい。

つぎに、本発明の第２の実施例のＸ線光学素子
評価装置について述べる。

第２図は、この実施例のＸ線光学素子評価装置
を示すもので、この装置は、評価用のＸ線４１を
発生するＸ線発生部４２と、このＸ線発生部４２
にて発生したＸ線４１を平行なＸ線に変換する第
１反射部４３と、この第１反射部４３にて反射し
た平行なＸ線４４を入射して単色Ｘ線に変換する
第２反射部４５と、この第２反射部４５にて単色
化されたＸ線４６を入射して焦点４７に集光する
第３反射部４８と、この第３反射部４８にて焦点
４７に集光されたＸ線４９を入射する位置に試料
Ｗを保持して矢印５０方向に回動する試料保持部
５１と、試料Ｗにて反射したＸ線５２を入射して
入射量に比例する大きさの電気信号に変換するＸ
線検出部５３とから構成されている。しかして、
Ｘ線発生部４２は、例えばガラスレーザ光などの
レーザ光５４を発振するレーザ光源５５と、この
レーザ光源５５からのレーザ光５４を集光させる
レンズ系５６と、このレンズ系５６により集光さ
れたレーザ光５４を入射して前記Ｘ線４１を発生
させる円筒状のターゲツト５７とからなつてい
る。そして、ターゲツト５７は、Ｘ線４１の波長
に応じて、例えばアルミニウムAl、銅Cuなどが
用いられている。一方、第１反射部４３は、Ｘ線
４１の光路上に設けられ余分のＸ線を遮断する第
１スリツト６１と、この第１スイツチ６１の出光
側に設けられ且つＸ線４１の発生点６２を焦点と
する回転放物面を有する第１ミラー６３と、Ｘ線
４４の光路上に設けられこの第１ミラー６３にて
反射されたＸ線４４のうち余分なものを遮断する
第２スリツト６４とからなつている。しかして、
ターゲツト５７にて放射されたＸ線４１は、第１
ミラー６３に入射すると平行なＸ線４４に変換さ
れる。ここで、Ｘ線４１の第１ミラー６３への斜
め入射角θは、１〜２度と極めて小さく設定す
る。その結果、Ｘ線４４は、短波長側を除いてＸ
線４１と同一の波長で、かつ、その反射強度は極
めて高くなる。つぎに、第２反射部４５は、第２
スリツト６４の出光側に設けられた平面回折格子
６５と、この平面回折格子６５にて反射されたＸ
線４６の光路上に設けられＸ線４６のうち不要な
ものを遮断する第３スリツト６６と、これら第３
スリツト６６及び平面回折格子６５をそれらの位
置関係を変えることなく矢印６７方向に回動自在
に保持する第１ゴニオメータ６８とからなつてい
る。しかして、平面回折格子６５は、平面の鋸歯
状反射格子であつて、波長の異なるＸ線に対して
は各波長ごとに、回折を生じる入射角が変化する
ため、Ｘ線の単色化が可能となる。また、平面回
折格子６５は、第１ゴニオメータ６８の回動中心
に位置決めされている。つまり、平面回折格子６
５を第１ゴニオメータ６８により回動させること
により、任意の波長のＸ線を選択することができ
る。さらに、第３反射部４８は、第３スリツト６
６を経由したＸ線４６の光路上に設けられ前記焦
点４７を有する回転放物面が設けられた第２ミラ
ー６９と、焦点４７位置に設けられこの第２ミラ
ー６９にて反射されたＸ線４９のうち余分なもの
を遮断する第４スリツト７０とからなつている。
つぎに、試料保持部５１は、試料Ｗを着脱自在に
把持するチヤツク（図示せず。）と、このチヤツ
クを矢印５０方向に回動自在に支持する第２ゴニ
オメータ７２とからなつている。そして、チヤツ
クに保持された試料Ｗは、第２ゴニオメータ７２
の回動中心に位置するように設定されている。さ
らに、Ｘ線検出部５３は、第２ゴニオメータ７２
に一体的に取付けられたデイテクタ７３と、同じ
く第２ゴニオメータ７２に取付けられ試料Ｗにて
反射したＸ線５２のうち余分なものを除去する第
５図スリツト７４と、デイテクタ７３からの電気
信号を入力して種々の演算を行う評価判定部７５
とからなつている。

つぎに、第２の実施例のＸ線光学素子評価装置
の作動について述べる。

まず、チヤツクに評価用のＸ線光学素子である
試料Ｗを把持させる。つぎに、第１ゴニオメータ
６８により、平面回折格子６５へのＸ線４４の斜
め入射角βを例えば３〜４度に設定する。つい
で、レーザ光源５５からレーザ光５４をレンズ系
５６を経由してターゲツト５７の発生点６２に集
光させる。すると、この発生点６２から、Ｘ線４
１が発生し、第１スリツト６１を経由して第１ミ
ラー６３に斜め入射角θ（例えば１〜２度）で入
射する。その結果、散乱的に入射したＸ線４１
は、平行Ｘ線４４となり、第２スリツト６４を経
由して、平面回折格子６５に斜め入射角βで入射
する。すると、Ｘ線４４は、斜め入射角βによつ
て決定される波長を有するモノクロＸ線４６に変
換される。ついで、このＸ線４６は、第３スリツ
ト６６を経由して、斜め入射角λで第２ミラー６
９に入射する。すると、この入射したＸ線４６
は、反射されてＸ線４９となつて焦点４７に集光
され、かつ、第４スリツト７０を経由して、斜め
入射角γで試料Ｗに入射する。しかして、この入
射したＸ線４９は、試料Ｗにて反射してＸ線５２
となり、第５図スリツト７４を経由してデイテク
タ７３に入射する。しかして、デイテクタ７３に
入射したＸ線５２は、入射したＸ線５２の強度に
比例した電圧を有する電気信号が評価判定部７５
に出力され、このときのＸ線５２の強度が記憶さ
れる。つぎに、第２ゴニオメータ７２を操作し
て、Ｘ線４９の試料Ｗへの斜め入射角γを逐次変
化させ、変化させた各入射角γについて、上述し
た測定プロセスを繰返し、Ｘ線５２強度を評価判
定部７５に記憶させる。しかるのち、試料ＷのＸ
線反射率の斜め入射角依存性をプリンタ又は
CRT上にプロツトさせる。さて、以上の記述は、
斜め入射角βを固定し、斜め入射角γを変化させ
たものであるが、逆に、斜め入射角γを固定し、
第１ゴニオメータ６８により斜め入射角βを変化
させれば、試料ＷのＸ線反射率のＸ線波長依存性
を測定することができる。さらに、試料Ｗが超格
子多層膜ミラーの場合には、多層膜の格子定数の
推定及び表面粗さの推定を行うことができる。

以上のように、この第２の実施例は、第１ミラ
ー６３が回転放物面ミラーとなつているので、Ｘ
線４４を平行Ｘ線にすることができ、Ｘ線の散逸
を防止できる結果、Ｘ線の有効利用が可能とな
る。よつて、ローランド円を考慮する必要がなく
なり、第１ミラー６３と平面回折格子６５との間
の距離L′、および、平面回折格子６５と第２ミラ
ー６９との間の距離Ｌ″を任意に設定できるの
で、装置の小型化が可能となる。また、複数種の
Ｘ線評価を高精度かつ高能率で行うことができ
る。

なお、上記第２の実施例において、Ｘ線発生部
４２は、一般のＸ線管でもよい。

つぎに、本発明の第３の実施例のＸ線光学素子
評価装置について述べる。

第３図は、この実施例のＸ線光学素子評価装置
を示すもので、この装置は、評価用のＸ線８０を
発生するＸ線発生部８１と、このＸ線発生部８１
にて発生したＸ線８０を焦点８２に集光させる第
１反射部８３と、この第１反射部８３にて反射し
たＸ線８４を入射して単色化する第２反射部８５
と、試料Ｗを保持して矢印１０４方向に回動し且
つ第２反射部８５にて単色化されたＸ線８７を試
料Ｗに入射させる試料保持部８８と、試料Ｗにて
反射したＸ線８９を入射して入射量に比例する大
きさの電気信号に変換するＸ線検出部９０とから
構成されている。しかして、Ｘ線発生部８１は、
例えばガラスレーザ光などのレーザ光９１を発振
するレーザ光源９２と、このレーザ光源９２から
のレーザ光９１を集光させるレンズ系９３と、こ
のレンズ系９３により集光されたレーザ光９１を
入射して前記Ｘ線８０を発生させる円筒状をな
し、例えばAl，Cuなどの材質からなるターゲツ
ト９４とからなつている。一方、第１反射部８３
は、二つの焦点８２，９８を有する回転楕円ミラ
ーであつて、一方の焦点９８は、ターゲツト９４
のレーザ光９１集光位置となるように設定されて
いる。また、他方の焦点８２は、第２反射部８５
の背後に位置している。さらに、第２反射部８５
は、第１反射部８３からのＸ線８４を入射して単
色化する多層膜ミラー９９と、矢印１００方向に
回動自在に設けられこの多層膜ミラー９９を回動
中心に保持する第１ゴニオメータ１０１とからな
つている。しかして、多層膜ミラー９９は、超研
磨された基板１０２と、この基板１０２上に被着
され境界面で互に拡散せずしかも光学定数の大き
く異なる例えばＷとＣ，ＶとＣ，AuとＣ，Reと
Ｃ等の２種類の物質を１層の厚さが10〜数10Åと
なるように交互に蒸着積層した多層膜１０３とか
らなつている。このような多層膜１０３は、いわ
ゆる超格子構造を有しており、その斜め入射角β
を上記第１ゴニオメータ１０１を介して変えるこ
とにより、Ｘ線８４を所望のモノクロＸ線８７に
変換するように設けられている。他方、試料保持
部８８は、試料Ｗを着脱自在に把持するチヤツク
（図示せず。）と、矢印１０４方向に回動自在に設
けられ上記チヤツクを回動中心に保持する第２ゴ
ニオメータ１０５とからなつている。そうして、
第２ゴニオメータ１０５の回動調整によりＸ線８
７の試料Ｗへの斜め入射角γを変えることができ
るようになつている。さらに、Ｘ線検出部９０
は、第２ゴニオメータ１０５に一体的に取付けら
れ試料Ｗから反射されたＸ線８９を入射するデイ
テクタ１０６と、同じく第２ゴニオメータ１０５
に取付けられ余分のＸ線を除去するスリツト１０
７と、デイテクタ１０６からの電気信号を入力し
て種々の演算を行う評価判定部１０８とからなつ
ている。

つぎに、第３の実施例のＸ線光学素子評価装置
の作動について述べる。

まず、チヤツクに評価用のＸ線光学素子である
試料Ｗを把持させる。つぎに、第１ゴニオメータ
１０１により、多層膜ミラー９９へのＸ線８４の
斜め入射角βを所定角度に設定する。ついで、レ
ーザ光源９２からレーザ光９１をレンズ系９３を
経由してターゲツト９４に集光させる。すると、
ターゲツト９４からは、Ｘ線８０が第１反射部８
３に入射する。すると、この第１反射部８３にて
反射したＸ線８４は焦点８２に集光する方向に反
射されるが、中途に配設されている多層膜ミラー
９９に斜め入射角βで入射する。すると、この斜
め入射角βで決定される波長を有するモノクロＸ
線８７が、試料Ｗに斜め入射角γで入射する。さ
らに、この試料Ｗから反射したＸ線８９は、スリ
ツト１０７を経由してデイテクタ１０６に入射
し、入射量に対応した大きさの電圧を有する電気
信号が評価判定部１０８に出力され、このときの
Ｘ線８９の強度が記憶される。なお、第３図で第
２反射部８５と焦点８２の距離をLa、第２反射
部８５と試料Ｗの距離をLb、さらに試料Ｗとデ
イテクタ１０６の距離をLcとするとき、La＝Lb
＋Lcの関係にある。つぎに、第２ゴニオメータ
１０５を操作して、Ｘ線８７の試料Ｗへの斜め入
射角γを逐次変化させ、変化させた各入射角γに
ついて、上述した測定プロセスを繰返し、Ｘ線８
９の強度を評価判定部１０８に記憶させる。しか
るのち、試料ＷのＸ線反射率の斜め入射角依存性
をプリンタ又はCRT上にプロツトさせる。

さて、以上の記述は、斜め入射角βを固定し、
斜め入射角γを変化させたものであるが、逆に、
斜め入射角γを固定し、第１ゴニオメータ１０１
により斜め入射角βを変化させれば、試料ＷのＸ
線反射率のＸ線波長依存性を測定することができ
る。さらに、試料Ｗが超格子多層膜ミラーの場合
には、多層膜の格別定数の推定及び表面粗さの推
定を行うことができる。

以上のように、この第３の実施例は、回転楕円
ミラーである第１反射部８３によりＸ線８０をそ
の焦点に集光させるようにしているので、Ｘ線の
散逸がほとんどなくなり、Ｘ線の有効利用が可能
となり、複数種のＸ線評価を高精度かつ高能率で
行うことができる。また、ローランド円を考慮す
ることなく光学系を組立てることができるので、
装置の小型化が可能となる。

なお、上記第３の実施例において、Ｘ線発生部
８１は通常のＸ線管でもよい。

さらに、上記第１乃至第３の実施例において、
Ｘ線発生部２，４２，８１にて発生したプラズマ
Ｘ線を他方向にも取り出すように構成すれば、他
の目的にも使用できる。

〔発明の効果〕

本発明のＸ線光学素子評価装置は、ローランド
円を考慮することなくＸ線の散逸を防止すること
ができるとともに、Ｘ線反射率のＸ線波長依存性
や斜め入射角依存性等の複数種のＸ線評価を高能
率かつ高精度で行うことができる。よつて、本発
明を適用することにより、Ｘ線光学素子の開発及
び製造に多大の寄与をすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例の説明図、第２
図は本発明の第２の実施例の説明図、第３図は本
発明の第３の実施例の説明図である。 ２，４２，８１……Ｘ線発生部（Ｘ線投射手
段）、３，４３，８３……第１反射部（第１の反
射手段）、５，４５，８５……第２反射部、８，
５１，８８……試料保持部、１０，５３，９０…
…Ｘ線検出部。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ Ｘ線光学素子にＸ線を投射しこのとき反射し
   た反射Ｘ線に基づいて上記Ｘ線光学素子の評価を
   行うＸ線光学素子評価装置において、上記Ｘ線を
   投射するＸ線投射手段と、このＸ線投射手段から
   投射されたＸ線を入射して平行なＸ線に変換する
   回転放物面を有する第１の反射手段と、上記第１
   の反射手段からの平行なＸ線を入射して特定波長
   のＸ線に変換する多層膜ミラーを有し上記平行な
   Ｘ線の上記多層膜ミラーへの入射角を変化させる
   ことにより上記特定波長のＸ線の波長を選択自在
   に調整する第２の反射手段と、上記Ｘ線光学素子
   を上記第２の反射手段からの特定波長のＸ線の入
   射角を調整自在に保持する試料保持手段と、上記
   試料保持手段に保持されているＸ線光学素子から
   の反射Ｘ線を入射してその入射強度を示す電気信
   号に変換するＸ線検出手段とを具備することを特
   徴とするＸ線光学素子評価装置。 ２ Ｘ線光学素子にＸ線を投射しこのとき反射し
   た反射Ｘ線に基づいて上記Ｘ線光学素子の評価を
   行うＸ線光学素子評価装置において、上記Ｘ線を
   投射するＸ線投射手段と、このＸ線投射手段から
   投射されたＸ線を入射して平行なＸ線に変換する
   回転放物面を有する第１の反射手段と、上記第１
   の反射手段からの平行なＸ線を入射して特定波長
   のＸ線に変換する平面回折格子を有し上記平行な
   Ｘ線の上記平面回折格子への入射角を変化させる
   ことにより上記特定波長のＸ線の波長を選択自在
   に調整する第２の反射手段と、上記Ｘ線光学素子
   を上記第２の反射手段からの特定波長のＸ線の入
   射角を調整自在に保持する試料保持手段と、上記
   試料保持手段に保持されているＸ線光学素子から
   の反射Ｘ線を入射してその入射強度を示す電気信
   号に変換するＸ線検出手段とを具備することを特
   徴とするＸ線光学素子評価装置。 ３ Ｘ線光学素子にＸ線を投射しこのとき反射し
   た反射Ｘ線に基づいて上記Ｘ線光学素子の評価を
   行うＸ線光学素子評価装置において、上記Ｘ線を
   投射するＸ線投射手段と、このＸ線投射手段から
   投射されたＸ線を入射して焦点位置に集光させる
   回転楕円面を有する第１の反射手段と、この第１
   の反射手段からの集光Ｘ線を入射して特定波長の
   Ｘ線に変換する多層膜ミラーを有し上記集光Ｘ線
   の上記多層膜ミラーの入射角を変化させることに
   より上記特定波長のＸ線の波長を選択自在に調整
   する第２の反射手段と、上記Ｘ線光学素子を上記
   第２の反射手段からの特定波長のＸ線の入射角を
   調整自在に保持する試料保持手段と、上記試料保
   持手段に保持されているＸ線光学素子からの反射
   Ｘ線を入射してその入射強度を示す電気信号に変
   換するＸ線検出手段とを具備することを特徴とす
   るＸ線光学素子評価装置。