JPH0584475A - 溶存酸素の除去方法及び装置 - Google Patents
溶存酸素の除去方法及び装置Info
- Publication number
- JPH0584475A JPH0584475A JP3274698A JP27469891A JPH0584475A JP H0584475 A JPH0584475 A JP H0584475A JP 3274698 A JP3274698 A JP 3274698A JP 27469891 A JP27469891 A JP 27469891A JP H0584475 A JPH0584475 A JP H0584475A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inert gas
- dissolved oxygen
- liquid
- tower
- vacuum degassing
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液中の溶存酸素を極めて低濃度まで除去しう
る方法及び装置を提供すること。 【構成】 塔内の上部から被処理液を噴霧するととも
に、塔内を減圧することにより酸素分圧の低い気相部を
形成し、液中の溶存酸素をガス化させて系外へ除去する
真空脱気塔１と不活性ガスを液中に吹き込み、溶存酸素
を除去する不活性ガスバブリング装置２とに順次被処理
液を通過させる。不活性ガスバブリング装置２から排出
される不活性ガスの一部又は全部を真空脱気塔１へ導通
することが好ましい。
る方法及び装置を提供すること。 【構成】 塔内の上部から被処理液を噴霧するととも
に、塔内を減圧することにより酸素分圧の低い気相部を
形成し、液中の溶存酸素をガス化させて系外へ除去する
真空脱気塔１と不活性ガスを液中に吹き込み、溶存酸素
を除去する不活性ガスバブリング装置２とに順次被処理
液を通過させる。不活性ガスバブリング装置２から排出
される不活性ガスの一部又は全部を真空脱気塔１へ導通
することが好ましい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液中の溶存酸素の除去
方法及び装置に係り、特に、半導体関係で用いられる純
水、超純水中の溶存酸素の除去方法及び装置に関する。
方法及び装置に係り、特に、半導体関係で用いられる純
水、超純水中の溶存酸素の除去方法及び装置に関する。
【０００２】液中の溶存ガス、特に溶存酸素は、半導体
洗浄用の純水、超純水装置などで用いられているイオン
交換樹脂の酸化防止及び各種金属部材の腐食防止の観点
から除去されてきた。最近、半導体製造に用いるＳi ウ
エハの洗浄時において、洗浄液である超純水中に溶存酸
素が存在すると、ウエハ表面に自然酸化膜が形成され、
高性能デバイスを製作する上での問題点が指摘されてお
り、例えば、溶存酸素濃度５ppb 以下の超純水が要求さ
れつつある。
洗浄用の純水、超純水装置などで用いられているイオン
交換樹脂の酸化防止及び各種金属部材の腐食防止の観点
から除去されてきた。最近、半導体製造に用いるＳi ウ
エハの洗浄時において、洗浄液である超純水中に溶存酸
素が存在すると、ウエハ表面に自然酸化膜が形成され、
高性能デバイスを製作する上での問題点が指摘されてお
り、例えば、溶存酸素濃度５ppb 以下の超純水が要求さ
れつつある。
【０００３】従来、純水及び超純水中の溶存酸素の除去
には、真空脱気法が広く採用されてきた。この方法は、
ラシヒリング等の充填材を充填した塔高１０ｍ程度の真
空塔の上部から被処理液を噴霧し、酸素分圧の少ない気
相に液滴が接触する過程で溶存酸素が除去されるもので
ある。しかしながら、このような装置構成においては、
真空塔内の真空レベルによって、液中に残存する溶存酸
素濃度は限界となる。通常、この種の真空塔に対する真
空排気装置には、真空ポンプ、スチームエゼクタなどが
使用されており、限界真空レベルは２０〜３０Torr程度
である。液中の溶存酸素濃度は、基本的にレンリーの法
則に従い、気相中の酸素分圧に比例するが、真空レベル
２０〜３０Torrでは、残留溶存酸素は５０〜１００ppb
が限界となり、性能的には不充分である。
には、真空脱気法が広く採用されてきた。この方法は、
ラシヒリング等の充填材を充填した塔高１０ｍ程度の真
空塔の上部から被処理液を噴霧し、酸素分圧の少ない気
相に液滴が接触する過程で溶存酸素が除去されるもので
ある。しかしながら、このような装置構成においては、
真空塔内の真空レベルによって、液中に残存する溶存酸
素濃度は限界となる。通常、この種の真空塔に対する真
空排気装置には、真空ポンプ、スチームエゼクタなどが
使用されており、限界真空レベルは２０〜３０Torr程度
である。液中の溶存酸素濃度は、基本的にレンリーの法
則に従い、気相中の酸素分圧に比例するが、真空レベル
２０〜３０Torrでは、残留溶存酸素は５０〜１００ppb
が限界となり、性能的には不充分である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点を解消し、純水、超純水中の溶存酸素を極低
濃度にまで除去できる脱気方法及び装置を提供すること
を目的とする。
術の問題点を解消し、純水、超純水中の溶存酸素を極低
濃度にまで除去できる脱気方法及び装置を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空脱気塔と
不活性ガスバブリング装置とを組み合わせることによっ
て液中の溶存酸素を極低濃度まで除去するものである
が、さらに後段の不活性ガスバブリング装置から排出さ
れる不活性ガスの一部又は全部を前段の真空脱気塔に送
入することによって、真空脱気塔の酸素分圧を効率よく
低減することによって上記目的を達成したものである。
不活性ガスバブリング装置とを組み合わせることによっ
て液中の溶存酸素を極低濃度まで除去するものである
が、さらに後段の不活性ガスバブリング装置から排出さ
れる不活性ガスの一部又は全部を前段の真空脱気塔に送
入することによって、真空脱気塔の酸素分圧を効率よく
低減することによって上記目的を達成したものである。
【０００６】すなわち、本発明により溶存酸素の除去方
法は、塔内の上部から被処理液を噴霧するとともに、塔
内を減圧することにより酸素分圧の低い気相部を形成
し、液中の溶存酸素をガス化させて系外へ除去する真空
脱気塔と不活性ガスを液中に吹き込み、溶存酸素を除去
する不活性ガスバブリング装置とに順次被処理液を通過
させることを特徴とする。
法は、塔内の上部から被処理液を噴霧するとともに、塔
内を減圧することにより酸素分圧の低い気相部を形成
し、液中の溶存酸素をガス化させて系外へ除去する真空
脱気塔と不活性ガスを液中に吹き込み、溶存酸素を除去
する不活性ガスバブリング装置とに順次被処理液を通過
させることを特徴とする。
【０００７】本発明の方法において、不活性ガスバブリ
ング装置から排出される不活性ガスの一部又は全部を真
空脱気塔に送入し、該真空脱気塔の気相部の酸素分圧を
低減することが好ましい。これにより、真空脱気塔の溶
存酸素除去効果を大幅に向上することができる。
ング装置から排出される不活性ガスの一部又は全部を真
空脱気塔に送入し、該真空脱気塔の気相部の酸素分圧を
低減することが好ましい。これにより、真空脱気塔の溶
存酸素除去効果を大幅に向上することができる。
【０００８】上記のように、不活性ガスバブリング装置
から排出される不活性ガスを真空脱気塔に送入する場合
に、真空脱気塔の真空レベルを変化させない程度の少量
を送入することが好ましく、これによって真空塔内の酸
素分圧を効率よく低減することができる。
から排出される不活性ガスを真空脱気塔に送入する場合
に、真空脱気塔の真空レベルを変化させない程度の少量
を送入することが好ましく、これによって真空塔内の酸
素分圧を効率よく低減することができる。
【０００９】また、本発明による溶存酸素の除去装置
は、塔内の上部に被処理液の噴霧装置を有する真空脱気
塔と、不活性ガス供給装置が接続された不活性ガスバブ
リング装置とが連結して設置されていることを特徴とす
る。この装置において、不活性ガスバブリング装置から
排出される不活性ガスの一部又は全部を真空脱気塔内の
下部に送入する配管を付設するのが好ましい。
は、塔内の上部に被処理液の噴霧装置を有する真空脱気
塔と、不活性ガス供給装置が接続された不活性ガスバブ
リング装置とが連結して設置されていることを特徴とす
る。この装置において、不活性ガスバブリング装置から
排出される不活性ガスの一部又は全部を真空脱気塔内の
下部に送入する配管を付設するのが好ましい。
【００１０】次に、図面に基づいて本発明をさらに具体
的に説明する。図１は、本発明の一実施態様を示す溶存
酸素の除去装置の系統図である。この装置は、ラシヒリ
ングなどを充填した真空脱気塔１、不活性ガスバブリン
グ装置２、移送ポンプ３及び不活性ガス供給装置４から
成る。被処理液は、被処理液供給管５から真空脱気塔１
の上部の噴霧装置へ供給され、噴霧され、充填材を通過
し、移送ポンプ３で後段の不活性ガスバブリング装置２
へと通水される。
的に説明する。図１は、本発明の一実施態様を示す溶存
酸素の除去装置の系統図である。この装置は、ラシヒリ
ングなどを充填した真空脱気塔１、不活性ガスバブリン
グ装置２、移送ポンプ３及び不活性ガス供給装置４から
成る。被処理液は、被処理液供給管５から真空脱気塔１
の上部の噴霧装置へ供給され、噴霧され、充填材を通過
し、移送ポンプ３で後段の不活性ガスバブリング装置２
へと通水される。
【００１１】真空脱気塔１は、真空ポンプ、スチームエ
ゼンタなどの真空装置６で塔内が減圧されており、噴霧
された液中の溶存酸素は、充填材に接触−落下する過程
で除去される。しかし、真空ポンプ、スチームエゼンタ
などの真空装置での減圧では塔内の到達真空度に限界が
あり、液中の溶存酸素は５０〜１００ppb までしか除去
されない。
ゼンタなどの真空装置６で塔内が減圧されており、噴霧
された液中の溶存酸素は、充填材に接触−落下する過程
で除去される。しかし、真空ポンプ、スチームエゼンタ
などの真空装置での減圧では塔内の到達真空度に限界が
あり、液中の溶存酸素は５０〜１００ppb までしか除去
されない。
【００１２】後段の不活性ガスバブリング装置２は、真
空脱気塔１からの流出液中の溶存酸素をさらに除去する
ために装置の下部から不活性ガスの微細気泡で液をバブ
リングするものである。不活性ガスとしては、窒素ガ
ス、アルゴンガスなどを用いることができる。不活性ガ
スは、不活性ガスタンク８から不活性ガス供給装置４へ
送入され、さらに不活性ガスバブリング装置２へ供給さ
れる。
空脱気塔１からの流出液中の溶存酸素をさらに除去する
ために装置の下部から不活性ガスの微細気泡で液をバブ
リングするものである。不活性ガスとしては、窒素ガ
ス、アルゴンガスなどを用いることができる。不活性ガ
スは、不活性ガスタンク８から不活性ガス供給装置４へ
送入され、さらに不活性ガスバブリング装置２へ供給さ
れる。
【００１３】本発明は、上記のような構成の装置におい
て、後段の不活性ガスバブリング装置２から排出される
不活性ガスの一部又は全部を不活性ガス分流−調節弁７
を介して前段の真空脱気塔１に通気し、真空脱気塔１内
の酸素分圧を低減することによって、真空脱気塔１にお
ける溶存酸素除去効果をより一層向上させたものであ
る。処理液は、処理液流出管９から排出される。
て、後段の不活性ガスバブリング装置２から排出される
不活性ガスの一部又は全部を不活性ガス分流−調節弁７
を介して前段の真空脱気塔１に通気し、真空脱気塔１内
の酸素分圧を低減することによって、真空脱気塔１にお
ける溶存酸素除去効果をより一層向上させたものであ
る。処理液は、処理液流出管９から排出される。
【００１４】
【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【００１５】実施例１ 図１に示した構成の溶存酸素の除去装置を用いて自然水
を処理した。このとき前段の真空脱気塔へ通気される不
活性ガス（窒素ガス）の量は、８ノルマルリットル／mi
n とした。処理水の溶存酸素濃度の経時変化を測定し、
結果を図２に示す。
を処理した。このとき前段の真空脱気塔へ通気される不
活性ガス（窒素ガス）の量は、８ノルマルリットル／mi
n とした。処理水の溶存酸素濃度の経時変化を測定し、
結果を図２に示す。
【００１６】図２から明らかなとおり、装置運転当初の
真空脱気塔からの出口水には溶存酸素が１００ppb 程度
含まれているが、後段の不活性ガスバブリング装置から
排出される不活性ガスの通気を開始すると同時に真空脱
気塔出口水の溶存酸素濃度は低下し、通気開始から３０
分後に３５ppb となった。また、これに伴って、不活性
ガスバブリング装置から流出する処理水中の溶存酸素濃
度も１８〜２０ppb から２〜４ppb に低下した。さら
に、後段の不活性ガスバブリング装置からの不活性ガス
供給を停止すると、真空脱気塔出口水の溶存酸素濃度は
徐々に増加した。
真空脱気塔からの出口水には溶存酸素が１００ppb 程度
含まれているが、後段の不活性ガスバブリング装置から
排出される不活性ガスの通気を開始すると同時に真空脱
気塔出口水の溶存酸素濃度は低下し、通気開始から３０
分後に３５ppb となった。また、これに伴って、不活性
ガスバブリング装置から流出する処理水中の溶存酸素濃
度も１８〜２０ppb から２〜４ppb に低下した。さら
に、後段の不活性ガスバブリング装置からの不活性ガス
供給を停止すると、真空脱気塔出口水の溶存酸素濃度は
徐々に増加した。
【００１７】このように、本発明による２段溶存酸素除
去方法を採用することにより極めて低濃度の溶存酸素濃
度液を得ることができる。また、本発明の２段溶存酸素
除去方法において、後段の排気ガスを前段の真空脱気塔
に通気することによって、該真空脱気塔の溶存酸素除去
効果を大幅に向上することができる。
去方法を採用することにより極めて低濃度の溶存酸素濃
度液を得ることができる。また、本発明の２段溶存酸素
除去方法において、後段の排気ガスを前段の真空脱気塔
に通気することによって、該真空脱気塔の溶存酸素除去
効果を大幅に向上することができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、従来困難であった溶存
酸素濃度の極めて低い純水や超純水を得ることができ
る。さらに、後段の排気ガスを前段の真空脱気塔に供給
することにより被処理液中の溶存酸素除去効果を大幅に
向上することが可能である。
酸素濃度の極めて低い純水や超純水を得ることができ
る。さらに、後段の排気ガスを前段の真空脱気塔に供給
することにより被処理液中の溶存酸素除去効果を大幅に
向上することが可能である。
【図１】本発明の一実施態様を示す溶存酸素の除去装置
の系統図である。
の系統図である。
【図２】実施例１で測定した溶存酸素濃度の経時変化を
示すグラフである。
示すグラフである。
１ 真空脱気塔 ２ 不活性ガスバブリング装置 ４ 不活性ガス供給装置 ５ 被処理液供給管 ６ 真空装置 ７ 不活性ガス分流−調節弁 ９ 処理液流出管
Claims (4)
- 【請求項１】 塔内の上部から被処理液を噴霧するとと
もに、塔内を減圧することにより酸素分圧の低い気相部
を形成し、液中の溶存酸素をガス化させて系外へ除去す
る真空脱気塔と不活性ガスを液中に吹き込み、溶存酸素
を除去する不活性ガスバブリング装置とに順次被処理液
を通過させることを特徴とする溶存酸素の除去方法。 - 【請求項２】 不活性ガスバブリング装置から排出され
る不活性ガスの一部又は全部を真空脱気塔に送入し、該
真空脱気塔の気相部の酸素分圧を低減させる請求項１記
載の溶存酸素の除去方法。 - 【請求項３】 塔内の上部に被処理液の噴霧装置を有す
る真空脱気塔と、不活性ガス供給装置が接続された不活
性ガスバブリング装置とが連結して設置されていること
を特徴とする溶存酸素の除去装置。 - 【請求項４】 不活性ガスバブリング装置から排出され
る不活性ガスの一部又は全部を真空脱気塔内の下部に送
入する配管を付設した請求項３記載の溶存酸素の除去装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3274698A JPH0584475A (ja) | 1991-09-26 | 1991-09-26 | 溶存酸素の除去方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3274698A JPH0584475A (ja) | 1991-09-26 | 1991-09-26 | 溶存酸素の除去方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0584475A true JPH0584475A (ja) | 1993-04-06 |
Family
ID=17545322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3274698A Pending JPH0584475A (ja) | 1991-09-26 | 1991-09-26 | 溶存酸素の除去方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0584475A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009106943A (ja) * | 2009-01-19 | 2009-05-21 | Toyobo Engineering Kk | 脱酸素水の製造方法とその装置 |
-
1991
- 1991-09-26 JP JP3274698A patent/JPH0584475A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009106943A (ja) * | 2009-01-19 | 2009-05-21 | Toyobo Engineering Kk | 脱酸素水の製造方法とその装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040308 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040323 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040713 |