JPH058447U - サーモパイル型赤外線センサー - Google Patents
サーモパイル型赤外線センサーInfo
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- JPH058447U JPH058447U JP6221291U JP6221291U JPH058447U JP H058447 U JPH058447 U JP H058447U JP 6221291 U JP6221291 U JP 6221291U JP 6221291 U JP6221291 U JP 6221291U JP H058447 U JPH058447 U JP H058447U
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- JP
- Japan
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- thermopile
- infrared sensor
- type infrared
- insulating film
- substrate
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- Pending
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- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ピット部4とヒートシンク3とを有する基板
1と、この基板1上に設けピット部4でダイアフラム5
となるおもて面絶縁膜2と、異種の金属からなる熱電対
8を複数個直列に接続して配置し、かつダイアフラム5
の上では温接点部11となりヒートシンク3の上では冷
接点部10となるサーモパイル9とを備える。 【効果】 熱や雰囲気に対して非常に特性が変わりやす
い黒体を用いないため、熱や雰囲気に対して安定なサー
モパイル型赤外線センサーを得ることができる。
1と、この基板1上に設けピット部4でダイアフラム5
となるおもて面絶縁膜2と、異種の金属からなる熱電対
8を複数個直列に接続して配置し、かつダイアフラム5
の上では温接点部11となりヒートシンク3の上では冷
接点部10となるサーモパイル9とを備える。 【効果】 熱や雰囲気に対して非常に特性が変わりやす
い黒体を用いないため、熱や雰囲気に対して安定なサー
モパイル型赤外線センサーを得ることができる。
Description
【0001】
本考案は、サーモパイル型赤外線センサーの構造に関する。
【0002】
従来のサーモパイル型赤外線センサーの構造とその動作を図2および図3を用
いて説明する。図2は第1の従来例を示し、図3は第2の従来例を示す。図2(
a)、および図3(a)は、それぞれ従来のサーモパイル型赤外線センサーの構
造を示す平面図であり、図2(b)、および図3(b)は、それぞれ従来のサー
モパイル型赤外線センサーの構造を示す断面図である。
【0003】
まず、第1の従来例におけるサーモパイル型赤外線センサーの構造を、図2を
用いて説明する。
【0004】
基板1としては、シリコンの(100)配向基板を用いる。この基板1の上に
は、おもて面絶縁膜2を形成する。さらにこのおもて面絶縁膜2上に、異種の金
属からなる熱電対8を複数個直列に接続し、かつサーモパイル引き出し電極12
に接続するサーモパイル9を配設する。このとき、サーモパイル9の冷接点部1
0は、基板1とおもて面絶縁膜2とからなるヒートシンク3上に配置し、サーモ
パイル9の温接点部11は、ダイアフラム5上に配置する。
【0005】
さらに、金(Au)あるいはビスマスなどの金属の超微粒子膜からなる黒体6
を、ダイアフラム5上の温接点部11付近の中央部に配置する。この黒体6は、
サーモパイル9の個々の温接点部11どおしが短絡しないように、温接点部11
から数μm程度離して配置する。
【0006】
さらに、基板1の裏面には、ピット部4を設ける。このピット部4は、基板1
の裏面から水酸化カリウム(KOH)や、ヒドラジンなどの強アルカリ溶液を用
いて、基板1であるシリコンの異方性エッチングを行って、ピット部4を形成す
る。ピット部4では、基板1をすべてエッチングし、おもて面絶縁膜2のみが残
り、このおもて面絶縁膜2にてダイアフラム5を構成する。
【0007】
この図2に示すサーモパイル型赤外線センサーは、たとえば放射温度計などに
利用される。この図2に示すサーモパイル型赤外線センサーの動作は以下のよう
になる。
【0008】
温度測定物から放射される赤外線を黒体6が吸収して熱に変え、熱容量の小さ
なダイアフラム5を加熱し、このダイアフラム6上に配置するサーモパイル9の
温接点部11を加熱する。このとき、サーモパイル9の冷接点部10は、熱容量
の大きなヒートシンク3上に配置してあるため、ほとんど温度上昇しない。この
ため、温接点部11と冷接点部10との間に温度差が生じる。この温接点部10
と冷接点部11との温度差によって、サーモパイル9に熱起電力が生じ、温度測
定物の温度を測定することができる。
【0009】
つぎに第2の従来例におけるサーモパイル型赤外線センサーの構造を、図3を
用いて説明する。
【0010】
図3に示すサーモパイル型赤外線センサーは、図2に示すサーモパイル型赤外
線センサーと同様に、基板1上におもて面絶縁膜2を形成する。さらにこのおも
て面絶縁膜2上に異種金属からなる熱電対8を複数個直列に接続し、かつサーモ
パイル引き出し電極12に接続するサーモパイル9を形成する。このときサーモ
パイル9の冷接点部10はヒートシンク3上に、温接点部11はダイアフラム3
上に配置する。
【0011】
さらに、図3に示すように、サーモパイル9の温接点部11を覆うように、絶
縁性を有する黒体下絶縁膜7を設ける。この黒体下絶縁膜7のパターニング方法
は、通常のフォトエッチング技術を用いても良いし、金属マスクに開口部を設け
この開口部内に黒体下絶縁膜7を形成する、いわゆるマスク蒸着法などを用いて
も良い。また、この黒体下絶縁膜7の大きさは、後に形成する黒体6と同じ大き
さか若干大きめであれば良い。
【0012】
さらに、この黒体下絶縁膜7の上に黒体6を設ける。この黒体6の大きさは、
ダイアフラム5の大きさよりも若干小さく、かつサーモパイル9の温接点部11
を全て覆う程度の大きさとする。このとき、サーモパイル9の温接点部11と黒
体6との絶縁性は、黒体下絶縁膜7によって維持される。
【0013】
さらに、図2に示すサーモパイル型の赤外線センサーと同様に、ピット部4を
形成し、おもて面絶縁膜2からなるダイアフラム5を形成する。
【0014】
つぎに図3に示すサーモパイル型赤外センサーの動作を以下に説明する。
【0015】
温度測定物から放射された赤外線を黒体6で受光し、熱に変換し、この熱が黒
体下絶縁膜7を介して伝導して、サーモパイル9の温接点部11およびダイアフ
ラム5全体を加熱する。
【0016】
このとき、サーモパイル9の冷接点部10は、ヒートシンク3上に配置してあ
るため、ほとんど温度上昇せず、結果的に温接点部11と冷接点部10との間に
温度差が生じる。
【0017】
この冷接点部10と温接点部11との間の温度差によって、サーモパイル9に
熱起電力が発生し、温度測定が可能となる。
【0018】
この図3に示すサーモパイル型赤外線センサーの方が、図2に示すサーモパイ
ル型赤外線センサーよりも、黒体6から温接点部11までの距離を短く設定でき
るために出力が高くなる。
【0019】
前記の図2と図3とに示す2種類の構造の従来例におけるサーモパイル型赤外
線センサーは、温度測定物から放射される赤外線を効率よく受光するために、赤
外線吸収率が80%から90%程度と非常に高い黒体6を、赤外線受光面に配設
している。
【0020】
しかしながら、図3に示すサーモパイル型赤外線センサーでは、金あるいはビ
スナスなどの金属からなる黒体6によるサーモパイル9の温接点部11の短絡を
防ぐために、黒体6をサーモパイル9の温接点部11に直接形成することはでき
ない。このため最低でも数百nmの厚さを持つ黒体下絶縁膜7を介して、サーモ
パイル9の温接点部11上に黒体6を配設している。
【0021】
この結果、図3に示すサーモパイル型赤外線センサーでは、黒体下絶縁膜7を
介して、黒体6から温接点部11に熱が伝わる。このため、黒体6から温接点部
11への熱伝導のうち6割程度の損失がある。
【0022】
したがって、黒体6に入射した赤外線の3割から4割程度の熱量で、温接点部
11を加熱することとなり、非常に効率が悪い。
【0023】
さらに、図2に示すサーモパイル型赤外線センサーでは、黒体6から温接点部
11への熱伝導は、おもて面絶縁膜2を介して熱が伝わる。このため図2に示す
サーモパイル型赤外線センサーは、さらに熱の損失が大きいため、より効率が悪
くなる。
【0024】
そのうえ、金やビスマスなどの金属の超微粒子膜からなる黒体6は、熱や雰囲
気などに非常に弱く、凝集あるいは変質などが発生する。このために、黒体6で
の赤外線吸収率が変化してしまい、サーモパイル型赤外線センサーの安定性を悪
くするという問題がある。
【0025】
そこで、本考案の目的は、上記課題を解決して、熱や雰囲気などに対して安定
なサーモパイル型赤外線センサーの構造を提供することにある。
【0026】
上記目的を達成するために、本考案のサーモパイル型赤外線センサーは、以下
に示す構造を採用することを特徴とする。
【0027】
すなわち、ピット部とヒートシンクとを有する基板と、この基板上に設けピッ
ト部でダイアフラムとなるおもて面絶縁膜と、異種の金属からなる熱電対を複数
個直列に接続しておもて面絶縁膜上に配置し、かつダイアフラム上では温接点部
となりヒートシンク上では冷接点部となるサーモパイルとを備える。
【0028】
この異種金属からなる熱電対は、少なくとも一方が赤外線吸収体で構成する。
【0029】
以下図1を用いて本考案のサーモパイル型赤外線センサーの一実施例を説明す
る。図1(a)は、本考案のサーモパイル型赤外線センサーの平面図を示し、図
1(b)は、その断面図である。
【0030】
図1に示すように、基板1のおもて面におもて面絶縁膜2を形成する。このお
もて面絶縁膜2は、基板1を裏側からエッチングすることにより形成するピット
部4上ではダイアフラム5となり、基板1上では基板1とともにヒートシンク3
を構成する。
【0031】
このおもて面絶縁膜2上に、異種の金属からなる熱電対8を複数個直列に接続
するサーモパイル9を設ける。このサーモパイル9は、冷接点部10がヒートシ
ンク3上に、温接点部11がダイアフラム5上になるように配設する。
さらにこの異種の金属からなる熱電対8のすくなくとも一方は、赤外線吸収体
で構成する。
【0032】
さらに、サーモパイル9の出力を取るために、このサーモパイル9と接続する
サーモパイル引き出し電極12を配設する。
【0033】
図1に示す本考案のサーモパイル型赤外線センサーは、図2および図3に示す
従来例と異なり黒体を形成していない。すなわち黒体の代わりに、熱電対8で赤
外線を吸収して、熱に変換する。
【0034】
つぎに本考案によるサーモパイル型赤外線センサーの動作を以下に説明する。
赤外線量を測定する測定物から入射した赤外線を、熱電対8の少なくとも一方
の材料が吸収し、サーモパイル9を加熱する。
【0035】
サーモパイル9の温接点部11は、ダイアフラム5上に設けてあるために、速
やかに温度上昇する。一方、サーモパイル9の冷接点部10は、ヒートシンク3
上に設けてあるために、ほとんど温度変化しない。したがって温接点部11と冷
接点部10との間に温度差が生じる。この冷接点部10と温接点部11との間の
温度差に対応した熱起電力が、熱電対8のそれぞれに発生し、それぞれの熱起電
力が足し合わされてサーモパイル9に電圧を発生させる。
【0036】
発生した電圧は、サーモパイル引き出し電極12より取り出すことにより、入
射した赤外線量を検知することができる。
【0037】
このとき、サーモパイル9を構成する熱電対8の材料自体が赤外線を吸収し、
温接点部11の温度が上昇すれば、従来のように、黒体が赤外線を吸収して熱を
伝達するときの損失が全く発生しない。
このため、サーモパイル9の材料自体の赤外線吸収率が、黒体の赤外線吸収率
に比べて低くても、熱伝導による損失が全く発生しないため、効率的には変わら
ない。
さらに、サーモパイル9の赤外線を吸収する温接点部11の面積を大きくする
などの工夫で、むしろサーモパイル型赤外線センサーの出力を、従来より高める
ことが可能となる。
【0038】
このため、熱あるいは雰囲気などに非常に弱い黒体を用いなくて良いため、非
常に安定なサーモパイル型赤外線センサーが得られる。
【0039】
また、図示しないが、冷接点部10上にのみに、絶縁膜を形成して、金などの
赤外線を反射する金属膜を冷接点部10上に配置して、冷接点部10では赤外線
を反射するように構成すれば、温接点部11のみで赤外線を吸収することが可能
となり、より出力が高くなる。
【0040】
つぎに図1を用いて本考案によるサーモパイル型赤外線センサーの製造方法を
説明する。
【0041】
基板1にはシリコンの(100)に配向した基板を用いて、この基板1のおも
て面におもて面絶縁膜2として、窒化シリコン膜や酸化シリコン膜などをプラズ
マ化学気相成長法によって形成する。
【0042】
このおもて面絶縁膜2上に、一方をビスマス、他方をアンチモンからなる熱電
対8を形成する。
【0043】
ここで、熱電対8の材料としてアンチモンを使用する例を挙げたが、このアン
チモンは広い波長領域にわたって赤外線吸収率が約35%と高く、このアンチモ
ンは赤外線吸収体として非常に優れている。とくに、アンチモンは室温付近から
数百℃程度までの物質から放射される赤外線の波長領域全般にわたって赤外線を
吸収するため、幅広い温度範囲の放射温度計に応用することが可能となる。
【0044】
もちろん、アンチモンにテルルなどの他の物質を加えて合金化させたものなど
も、高い赤外線吸収率を示すことから、本考案のサーモパイル型赤外線センサー
に応用できる。
【0045】
つぎに、サーモパイル9の出力を取り出すために、金などの金属を通常のフォ
トエッチング技術を用いてパターニングし、サーモパイル引き出し電極12を形
成する。
【0046】
このとき、図示しないが、サーモパイル引き出し電極12の形成工程と同時に
異種金属からなる熱電対8の接点の密着性を上げる目的で、それぞれの接点部に
金などの金属を形成しても良い。
【0047】
この熱電対8の形成方法としては、あらかじめ、感光性樹脂を露光現像処理し
て所望の金属を形成する領域に開口を有する感光性樹脂を形成し、その後所望の
金属を真空蒸着法によって形成し、感光性樹脂を取り除くことにより所望の金属
をパターニングする、いわゆるリフトオフ法によればよい。
【0048】
この熱電対8は、複数個直列に接続することによりサーモパイル9となる。こ
のサーモパイル9は、温接点部11が、後工程で形成するダイアフラム5上に、
冷接点部10が、ヒートシンク3上になるように配設する。
【0049】
その後、基板1の裏面からヒドラジンなどの強アルカリ溶液を用いて、シリコ
ンの異方性エッチングを行い、ピット部4を形成する。ピット部4のパターニン
グ方法としては、図示しないが、基板1の裏面に強アルカリ溶液に対して耐エッ
チング性が大きい窒化シリコン膜などを被覆して、この窒化シリコン膜をパター
ニングして、エッチングマスクとする。
【0050】
ここで、ピット部4では基板1のシリコンを全てエッチングし、おもて面絶縁
膜2のみが残り、このおもて面絶縁膜2からなるダイアフラム5を形成し、サー
モパイル型赤外線センサーが完成する。また、基板1のシリコンが残っている基
板1周辺部においては、基板1とおもて面絶縁膜2とが、ダイアフラム5に比較
して非常に熱容量の大きなヒートシンク3となる。
【0051】
上記の説明のように、本考案によれば、熱や雰囲気などの変化に対して非常に
安定に動作するサーモパイル型赤外線センサーを得ることが可能となる。
さらにまた、黒体を形成しないことから、構造が簡略化され、低コスト化も達
成できる。さらには、熱電対材料を選定することによって、非常に広い温度範囲
を測定することが可能な、放射温度計に応用できる、サーモパイル型赤外線セン
サーを得ることができる。
【図1】本考案の一実施例におけるサーモパイル型赤外
線センサーの構造を示す図面である。
線センサーの構造を示す図面である。
【図2】従来のサーモパイル型赤外線センサーの構造を
示す図面である。
示す図面である。
【図3】従来のサーモパイル型赤外線センサーの構造を
示す図面である。
示す図面である。
1 基板
2 おもて面絶縁膜
3 ヒートシンク
4 ピット部
5 ダイアフラム
8 熱電対
9 サーモパイル
10 冷接点部
11 温接点部
Claims (2)
- 【請求項1】 ピット部とヒートシンクとを有する基板
と、該基板上に設け該ピット部でダイアフラムとなるお
もて面絶縁膜と、異種の金属からなる熱電対を複数個直
列に接続して該おもて面絶縁膜上に配置し、かつ前記ダ
イアフラム上では温接点部となり前記ヒートシンク上で
は冷接点部となるサーモパイルとを備えることを特徴と
するサーモパイル型赤外線センサー。 - 【請求項2】 請求項1に記載の異種金属からなる熱電
対は、少なくとも一方が赤外線吸収体であることを特徴
とするサーモパイル型赤外線センサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6221291U JPH058447U (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | サーモパイル型赤外線センサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6221291U JPH058447U (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | サーモパイル型赤外線センサー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH058447U true JPH058447U (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=13193614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6221291U Pending JPH058447U (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | サーモパイル型赤外線センサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH058447U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010089458A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Jsr Corp | 積層フィルム、無機蒸着層を有する積層フィルムおよびその製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54114090A (en) * | 1978-02-25 | 1979-09-05 | Mitsuteru Kimura | Hottwire detector |
| JPS646832A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Toshiba Corp | Thermo pile |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP6221291U patent/JPH058447U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54114090A (en) * | 1978-02-25 | 1979-09-05 | Mitsuteru Kimura | Hottwire detector |
| JPS646832A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Toshiba Corp | Thermo pile |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010089458A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Jsr Corp | 積層フィルム、無機蒸着層を有する積層フィルムおよびその製造方法 |
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