JPH058477Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、熱間静水圧加圧装置（HIP装置）に
おける熱電対設置構造の改善に関する。

（従来の技術） 高圧の圧力媒体が供給可能とされた圧力容器内
の処理室内に被処理材（金属、セラミツクス粉末
等）をセツトし、圧力媒体の供給、ヒータによる
加熱下に、等方圧加圧によつて成形体製品を得る
熱間静水圧加圧装置は、所謂HIP装置として周知
であり、このさい処理室内温度の正確な測定、確
認のために熱電対装置を用いることも既知であ
り、従来は第３図に例示するように処理室内に熱
電対装置を設置する。圧力容器９において図示省
略してあるが、容器下端を閉鎖する下蓋上に着脱
可能に取付けられているベースプレート２に断熱
層１が設置され、同断熱層１により囲まれた内部
において、ベースプレート２上に断熱リング８を
介して被処理材載置台４が設けられるとともに、
同載置台４の下部に図例では加熱ヒータとしての
ベースヒータ３が設けられることによつて、前記
載置台４にセツトされる被処理材に対し、圧力容
器９内に供給される高圧の圧力媒体、ベースヒー
タ３による加熱とともに、被処理材に対する熱間
等方圧加圧が行なわれるのであるが、断熱層１に
よつて囲まれた処理室内温度を測定するための熱
電対装置は、前記ベースプレート２側に固定され
る保護管５を断熱リング８を貫挿させて処理室内
一側に突出させ、同保護管５内に絶縁管７を介し
て熱電対６が装設されることによつて構成される
のであり、加熱ヒータとして断熱層１の内側に沿
つてサイドヒータを設けるものにおいても、事情
は同様である。

上記した従来の熱電対装置構造によれば、圧力
容器内に形成される処理室容積の有効利用を阻害
する点において問題がある。即ち圧力容器９の内
部空間に処理室スペースを確保する場合、可及的
広く取ることが有利であるが、断熱層１、断熱リ
ング８、更には被処理材載置台４の必要構造物の
ため、処理室の有効スペースはそれだけ減少する
のであり、更にこの狭められた処理室内におい
て、保護管５、絶縁管７および熱電対６による構
造物の存在は、熱間静水圧加圧装置を超小型化し
た場合、有効な処理室径に占める熱電対保護管５
の寸法が比較的大き過ぎることになり、有効スペ
ースを更に減殺し、更にはヒータ構造や載置台構
造に制約を生じる等の不利がある。

そこで、処理室内の有効スペースを減少させな
いものとして、本願出願人は、例えば、実公昭62
−4872号公報に記載のものを既に提案した。

即ち、この従来のものは、加熱装置の相隣合う
ヒータエレメントリード間の間隙に熱電対を設け
るようにしたものであつた。

（考案が解決しようとする課題） 前記従来の実公昭62−4872号公報に記載のもの
は、処理室内の有効スペースを減少させないとい
う点においては、それなりの効果を奏するもので
あるが、特に、熱電対を損傷から防止するための
保護管は必須のものとされていた そして、この保護管は、高温高圧に曝されるた
め損耗が激しく、しかも、被処理材載置台よりも
上方に配置されているため、被処理材が倒れて保
護管に当たり、保護管が破損するトラブルが発生
し易く、頻繁に交換しなければならず、コスト高
を招くものであつた。

そこで、本考案は、熱電対の保護管を不要とし
て、前記問題点を解決した熱間静水圧加圧装置を
提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） 前記目的を達成するため、本考案は次の手段を
講じた。

即ち、本考案の特徴とするところは、圧力容器
の断熱層によつて囲まれた処理室内に、支柱によ
り支承された被処理材載置台、加熱ヒータ並びに
熱電対が設けられた熱間静水圧加圧装置におい
て、 前記支柱に中空部が形成され、該中空部に前記
熱電対を、その測温部が前記被処理材載置台の下
面近傍に位置するよう配設した点にある。

（作用） 本考案によれば、被処理材載置台の支柱の中空
部内に熱電対が設けられているので、従来のよう
に、被処理材載置台上方に突出する保護管を不要
とし、処理室内スペースを減殺することが無くな
る。

また、支柱が保護管の機能を発揮するので、別
途保護管を設けなくとも良く、コスト低減が図れ
ると共に、熱電対は、被処理材載置台の下方にあ
るので、被処理材が倒れても熱電対を損傷させる
おそれは無い。

さらに、被処理材載置台下面近傍位置は、処理
室内における比較的均熱性が保たれている位置で
あるので、処理室内温度測定に適したものとな
る。

（実施例） 本考案による適切な実施例を、第１図および第
２図について説示する。

第１図に示した実施例は、先に第３図で示した
従来例と同様に、ベースヒータタイプのものであ
り、その上下両端が上蓋、下蓋等で開閉可能に密
封され、かつ圧力媒体の供給可能とされた既知の
圧力容器１において、下蓋側に着脱可能に取付け
られるベースプレート２の周辺に断熱層１が立設
され、同プレート２の上面中央に断熱リング８が
設置され、断熱リング８の中心を貫挿して、中空
部１１を有する支柱１０が設置され、同支柱１０
の処理室内に突出する上端に被処理材の載置台４
が一体に形成され、同載置台４と断熱リング８と
の間において、支柱１０を囲んで加熱ヒータとし
てのベースヒータ３が設けられるのであり、本考
案では、前記支柱１０の中空部１１内の熱電対６
を絶縁管７とともに装設し、同熱電対６および絶
縁管７はベースプレート２に設けた通孔１２を経
て、同プレート２の下面に設けた接続取付部１３
に保持される。実施例では支柱１０の中途にデイ
スク部１４が形成され、同デイスク部１４は断熱
リング８の上面に重合され、またベースヒータ３
の接続部１５はガードパイプ１６を介してベース
プレート２の下方に突出される。この実施例によ
れば、熱電対６および絶縁管７は中空部１１内に
かくされることにより、断熱層１によつて囲まれ
た処理室の有効スペースを全く阻害することな
く、かつ支柱１０が熱電対の保護部材として働
き、熱電対装置の安定かつ確実な測定探知が得ら
れるのである。

第２図に示した実施例は、サイドヒータタイプ
のHIP装置に本考案を実施した変形１例であり、
上蓋１７および下蓋１８によつて開閉可能に密封
され、かつ図示省略してあるが従来と同様に圧力
媒体の供給可能とされる圧力容器９内に、前記下
蓋１８側に組立られる支持部材１９によつて断熱
層１が立設されるとともに、同断熱層１の内側に
沿つて加熱ヒータとしてのサイドヒータ２０が設
けられ、同ヒータ２０の内側において下蓋１８側
に着脱可能に取付けられるベースプレート２上に
断熱リング８が設けられるとともに、この断熱リ
ング８を貫挿してベースプレート２に複数の支柱
１０が立設され、同支柱１０の上端に被処理材の
載置台４が一体に設けられ、同支柱１０の一部に
形成した中空部１１内に、熱電対６および絶縁管
７を装設したものである。

この実施例によれば、処理室の有効スペースを
全く阻害しないとともに、サイドヒータ２０の被
処理材全周に亘る制約のない設置が容易に可能で
あり、熱電対装置を支柱１０の一部または全部に
設けることも可能である。

（考案の効果） 本考案によれば、従来のこの種プレスにおける
熱電対装置に対し、同装置を処理室における必要
な既設構造物の１つである載置台支柱１０を、中
空支柱構造とし、支柱長さ方向に亘つて開設した
中空部１１内に装入設置することにより、処理室
の有効スペースを100％活用できるのであり、特
に支柱１０とすることにより、熱電対装置の全長
に亘る保護部材としての機能を同支柱１０に持た
せることができるとともに、比較的大径な保護管
の使用を無用とすることにより、この種HIP装置
を超小型化する場合、有効スペースを充分に取る
ことができる点で著しく有利であるし、部品も減
少できるものであり、更に加熱ヒータおよび載置
台の組込み設置における制約も全く生じないので
あり、利点大である。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は何れも本考案実施例の縦
断正面図、第３図は従来例の縦断正面図である。 １……断熱層、２……ベースプレート、３……
ベースヒータ、４……載置台、６……熱電対、７
……絶縁管、８……断熱リング、１０……支柱、
１１……中空部、２０……サイドヒータ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 圧力容器の断熱層によつて囲まれた処理室内
   に、支柱により支承された被処理材載置台、加熱
   ヒータ並びに熱電対が設けられた熱間静水圧加圧
   装置において、 前記支柱に中空部が形成され、該中空部に前記
   熱電対を、その測温部が前記被処理材載置台の下
   面近傍に位置するよう配設したことを特徴とする
   熱間静水圧加圧装置。