JPH05862A - Nitride ceramic metallized composition - Google Patents
Nitride ceramic metallized compositionInfo
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- JPH05862A JPH05862A JP21374791A JP21374791A JPH05862A JP H05862 A JPH05862 A JP H05862A JP 21374791 A JP21374791 A JP 21374791A JP 21374791 A JP21374791 A JP 21374791A JP H05862 A JPH05862 A JP H05862A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】窒化物系セラミック体とメタライズ層との高い
接合強度を保証することができる窒化物系セラミック体
のメタライズ組成物を提供することを目的とする。
【構成】窒化物系セラミック体1(例えばSi3 N4 や
AlN)に、メタライズ層2やこのメタライズ層2を介
して金属部材3を接合するに際し、前記メタライズ層2
を形成するメタライズ組成物を、高融点金属であるW,
Mo及びMnから選ばれる少なくとも一種と、AlNと
を含有して構成した。
(57) [Summary] [Object] An object of the present invention is to provide a metallized composition of a nitride-based ceramic body capable of ensuring high bonding strength between the nitride-based ceramic body and the metallized layer. [Structure] When a metal member 3 is bonded to a nitride-based ceramic body 1 (for example, Si 3 N 4 or AlN) and the metal member 3 is bonded via the metallized layer 2, the metallized layer 2 is used.
The metallization composition for forming
At least one selected from Mo and Mn and AlN are contained.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、窒化物系セラ
ミック体と金属部材とを接合したり、窒化物系セラミッ
ク体に導体を形成するための窒化物系セラミック体のメ
タライズ組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nitride ceramic body metallized composition for joining a nitride ceramic body and a metal member, or for forming a conductor on the nitride ceramic body.
【0002】[0002]
【従来技術】従来、例えば、セラミック体と金属部材と
を接合したり、窒化物系セラミック体に導体を形成する
場合は、セラミック体の表面をメタライズすることによ
り行なわれている。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, when a ceramic body is joined to a metal member or a conductor is formed on a nitride ceramic body, the surface of the ceramic body is metallized.
【0003】このようなメタライズ法としては、例え
ば、Al2 O3 等の酸化物系セラミックについては、従
来、蒸着法を用いて金属を高真空中で活性な超微粒子状
にしてセラミック体表面に物理的に被着させる方法、あ
るいは例えばMo粉末とMn粉末を含むメタライズ組成
物を適当な粘結剤と溶剤とからなるバイダーを用いてペ
ースト状となし、これをセラミック体の表面に塗布した
後、水蒸気を含む弱酸性の水素雰囲気或いは水素と窒素
の混合雰囲気中で焼成してメタライズ層を形成する方法
が採用されている。As such a metallizing method, for example, in the case of oxide ceramics such as Al 2 O 3, metal is conventionally formed into ultrafine particles active in a high vacuum by a vapor deposition method and then is applied to the surface of the ceramic body. A method of physically depositing, or forming a metallized composition containing, for example, Mo powder and Mn powder into a paste using a binder made of an appropriate binder and a solvent, and applying this to the surface of a ceramic body A method of forming a metallized layer by firing in a weakly acidic hydrogen atmosphere containing water vapor or a mixed atmosphere of hydrogen and nitrogen is used.
【0004】ところで、セラミック材料とメタライズ層
や金属部材との接合は両材料の複合的工業技術にとって
極めて重要な役割をなし、とりわけ高温特性及び強度の
優れたSi3 N4 (窒化ケイ素),AlN(窒化アルミ
ニウム)等の窒化物を焼結した窒化物系セラミック体の
応用分野が拡大されている現今、窒化物系セラミック体
とメタライズ層や金属部材との接合技術には関心が寄せ
られている。By the way, the joining of the ceramic material with the metallized layer or the metal member plays an extremely important role in the composite industrial technology of both materials, and particularly Si 3 N 4 (silicon nitride) and AlN which are excellent in high temperature characteristics and strength. Now that the field of application of nitride-based ceramic bodies obtained by sintering nitride such as (aluminum nitride) is expanding, there is an interest in the joining technology between the nitride-based ceramic body and the metallized layer or metal member. ..
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、Al
2 O3 等の酸化物系セラミックに使用されるメタライズ
組成物を窒化物系セラミック体に適用しても、窒化物系
セラミック体とメタライズ層との接合強度が小さく、実
用的な接合強度を得ることができないという問題があっ
た。Problems to be Solved by the Invention However, Al
Even if the metallized composition used for oxide ceramics such as 2 O 3 is applied to the nitride ceramic body, the bonding strength between the nitride ceramic body and the metallized layer is small, and practical bonding strength is obtained. There was a problem that I could not.
【0006】[0006]
【問題点を解決するための手段】本発明者等は上記現状
に鑑み、窒化物系セラミック体へのメタライズ層の接合
を種々研究,実験した結果、高融点金属とAlNを含有
するメタライズ組成物を使用すると、高い接合強度が得
られることを知悉し、本発明の完成に至ったのである。
即ち、本発明は、高融点金属であるW,Mo及びMnか
ら選ばれる少なくとも一種と、AlNとを含有すること
を特徴とする窒化物系セラミック体のメタライズ組成物
にある。In view of the above situation, the inventors of the present invention have conducted various researches and experiments on bonding a metallized layer to a nitride ceramic body, and as a result, have found that a metallized composition containing a refractory metal and AlN. It was discovered that high bonding strength could be obtained by using, and the present invention was completed.
That is, the present invention resides in a metallized composition for a nitride-based ceramic body, which contains AlN and at least one selected from refractory metals W, Mo and Mn.
【0007】本発明のメタライズ組成物により形成され
たメタライズ層の上には常法に従ってメッキ等を施した
後、接合すべき金属部材をロー付けして構造材として利
用したり、電気的良導体金属をメッキしてプリント基板
などの導体配線を形成して電気的材料に応用したり、さ
らに、メタライズ層自体を導体としたり等、その応用範
囲は広い。望ましい実施例に於いて、本発明のメタライ
ズ組成物により形成されたメタライズ層と窒化物系セラ
ミック体との剥離強度は75Mpa(メガ・パスカル)
以上に及んでいる。The metallized layer formed of the metallized composition of the present invention is plated by a conventional method and then a metal member to be joined is brazed to be used as a structural material or an electrically conductive metal. Has a wide range of applications, such as plating to form a conductor wiring such as a printed circuit board and applying it to an electrical material, and further using the metallized layer itself as a conductor. In a preferred embodiment, the peel strength between the metallized layer formed of the metallized composition of the present invention and the nitride ceramic body is 75 MPa (megapascal).
It is over.
【0008】以下に本発明の構成を詳述する。本発明の
メタライズ組成物、即ち、高融点金属であるW,Mo及
びMnから選ばれる少なくとも一種と酸窒化物ガラスを
構成するAlNとを含有するメタライズ組成物は、塗布
もしくはプリントにより窒化物系セラミック体上に定着
して使用される。窒化物系セラミック体としてはSi3
N4 (窒化ケイ素),AlN(窒化アルミニウム)焼結
体が挙げられ、これらは工業的に焼結する場合、焼結助
剤として周期律表第2a,3a族元素,Al及びSiな
どの酸化物及びAlNの単独もしくは組み合わせをそれ
ぞれ助剤としての使用量(約10重量%)含んで良好な
焼結を保証するものであるが、これら焼結助剤は焼結に
よって粒間相は通常酸窒化物ガラス或いはこのガラスか
ら結晶化した酸窒化物結晶相から構成されている。The structure of the present invention will be described in detail below. The metallized composition of the present invention, that is, the metallized composition containing at least one selected from W, Mo and Mn which are refractory metals and AlN which constitutes the oxynitride glass is a nitride ceramic by coating or printing. It is used by fixing it on the body. Si 3 is used as the nitride ceramic body.
N 4 (silicon nitride) and AlN (aluminum nitride) sintered bodies are mentioned, and when they are industrially sintered, they are used as a sintering aid to oxidize elements of Groups 2a and 3a of the periodic table, Al and Si. The above-mentioned sintering aids, when used alone or in combination, each contain an amount of about 10% by weight as an auxiliary agent to ensure good sintering. It is composed of a nitride glass or an oxynitride crystal phase crystallized from this glass.
【0009】そして、ここで使用する酸窒化物ガラスと
は、上記の窒化物系セラミック体中の粒間相を構成して
いる酸窒化物ガラスおよび窒化物と化学的に類似するも
のであれば特に組成に限定を設ける必要がなく、後記の
MgO,AlN,Y2 O3 ,SiO2 等は一例にすぎな
いものであり、少なくともAlNを含有していれば良
い。この酸窒化物ガラスは焼付け温度で流動性のあるも
のが、塗布,プリントのような簡単な定着手法を採択で
きる上で至適である。さらに、この酸窒化物ガラスは結
晶質を全く含まない純粋なガラスである必要はなく、多
少の結晶質を含んでいても、いわゆる“フリット”状に
して使用できるものであれば、結晶質を含んでいても何
ら差し支えないものである。The oxynitride glass used here is one that is chemically similar to the oxynitride glass and the nitride constituting the intergranular phase in the above-mentioned nitride ceramic body. It is not necessary to limit the composition in particular, and MgO, AlN, Y 2 O 3 , SiO 2 and the like described below are merely examples, and at least AlN may be contained. This oxynitride glass, which has fluidity at the baking temperature, is optimal because it can adopt a simple fixing method such as coating and printing. Furthermore, this oxynitride glass does not have to be a pure glass that does not contain any crystalline material. It does not matter if you include it.
【0010】他方、高融点金属粉末はW,Mo及びMn
から選ばれる少なくとも一種であり、これらは基本的に
は焼付温度で溶融,気化等が起こらない金属の粉末で、
焼結した場合、金属,そのケイ化物,炭化物或いはそれ
らの混合物として存在するものである。酸窒化物ガラス
との混合割合は特に制限的なものは不要であるが、通常
ガラス粉末7〜50重量部に対し高融点金属粉末は93
〜50重量部の範囲で良い。On the other hand, the refractory metal powders are W, Mo and Mn.
It is at least one selected from the following, and these are basically metal powders that do not melt or vaporize at the baking temperature,
When sintered, it exists as a metal, its silicide, carbide, or a mixture thereof. The mixing ratio with the oxynitride glass is not particularly limited, but is usually 93 parts by weight of the high melting point metal powder with respect to 7 to 50 parts by weight of the glass powder.
The range is up to 50 parts by weight.
【0011】メタライズ組成物を窒化物系セラミック体
上に定着させる手法としては、既述のようなフリット状
のメタライズ組成物を塗布もしくは印刷によって窒化物
系セラミック体上に厚み0.01〜0.1mm程度に層
着することが最も望ましいが、この他吹付等の手法も採
用できる。層着させるメタライズ組成物を焼結するに
は、組成物の内容によっても変わるものの1000〜1
500℃の間で還元或いは中性ガス中で焼結すればよ
い。得られたメタライズ層の上には既述のように接合す
べき金属部材をロー付けして構造材としたり、Au−S
i合金のような高い導電性を有する金属をメッキし、或
いはメタライズ層自体を導体としてプリント基板のよう
な導体配線を形成し電気的材料に応用したりする。As a method for fixing the metallized composition on the nitride ceramic body, the frit-like metallized composition as described above is applied or printed to a thickness of 0.01 to 0. Although it is most desirable to apply a layer of about 1 mm, other techniques such as spraying can also be adopted. For sintering the metallized composition to be layered, it depends on the content of the composition, but it is 1000 to 1
It may be reduced at 500 ° C or sintered in a neutral gas. On the obtained metallized layer, a metal member to be bonded is brazed as described above to form a structural material, or Au--S.
A metal having a high conductivity such as an i alloy is plated, or a conductor wiring such as a printed circuit board is formed by using the metallized layer itself as a conductor and applied to an electric material.
【0012】[0012]
【作用】窒化物系セラミック体の窒化物結晶或いは粒間
相を構成している酸窒化物ガラスや酸窒化物結晶相に対
して、メタライズ組成物中のAlNが極めて大きな親和
性を発揮して窒化物系セラミック体とメタライズ層との
強い化学的接合強度を保証し、一方高融点金属粉末は高
温で焼結された場合、金属,ケイ化物,炭化物もしくは
それらの混合物としてメタライズ層内に存在し、接合す
べき金属部材との濡れ性が良好であるためメタライズ層
上に該金属部材を直接接合して高い接合強度が得られ
る。必要によりこのメタライズ層にさらに電解或いは無
電解メッキを行って、これと半田付けもしくはロー付け
によって金属部材を接合すれば接合強度はより高められ
るのでその採択が望まれる。The function of AlN in the metallized composition is extremely high with respect to the oxynitride glass or the oxynitride crystal phase constituting the nitride crystal or the intergranular phase of the nitride ceramic body. Guarantees a strong chemical bond strength between the nitride-based ceramic body and the metallized layer, while the refractory metal powder is present in the metallized layer as a metal, a silicide, a carbide or a mixture thereof when sintered at a high temperature. Since the wettability with the metal member to be bonded is good, the metal member can be directly bonded onto the metallized layer to obtain high bonding strength. If necessary, electrolytic or electroless plating may be further applied to the metallized layer and a metal member may be joined to the metallized layer by soldering or brazing, so that the joining strength is further enhanced, and therefore its adoption is desired.
【0013】[0013]
【実施例】図1に本発明のメタライズ組成物を用いた接
合構造の一部縦断面斜視図を示す。図において、窒化物
系セラミック体1上の接合に必要なエリアにわたって定
着されたメタライズ組成物は焼結によってメタライズ層
2を形成しており、このメタライズ層2上に一例とし
て、コバー金属(KOVAR)よりなる金属部材3を銀
ロー4(BAg−8)を介して接合してある。この銀ロ
ー4のプレージングはアンモニア分解ガスをウエットガ
ス(水蒸気を含ませたもの)の状態で導入した雰囲気下
で約850℃にて溶融させることによって実施した。EXAMPLE FIG. 1 is a partial vertical cross-sectional perspective view of a joining structure using the metallized composition of the present invention. In the figure, the metallized composition fixed over the area necessary for bonding on the nitride-based ceramic body 1 forms a metallized layer 2 by sintering, and as an example, on this metallized layer 2, kovar metal (KOVAR) is used. The metal member 3 made of silver is bonded through the silver wire 4 (BAg-8). The plating of the silver braze 4 was carried out by melting at a temperature of about 850 ° C. in an atmosphere in which an ammonia decomposition gas was introduced as a wet gas (containing water vapor).
【0014】後記のロー付け後の接合強度の測定方法を
ここで図2を採って説明しておく。A method of measuring the bonding strength after brazing, which will be described later, will be described with reference to FIG.
【0015】テストピースSである窒化物系セラミック
体1は左右より万力8によって中央方向に圧縮力(太字
印)を付与された状態で堅固に固定されており、金属部
材3上に吊金具5をハンダ6をもって固定し、この吊金
具5の上端にプッシュプルゲージ(ゼンマイばねはか
り)7を取付ける。この状態で吊金具5を30mm/分
の早さで上方に引き上げ、メタライズ層2が窒化物系セ
ラミック体1より剥離した瞬間の強度をゲージ7で読み
取る。The nitride ceramic body 1, which is the test piece S, is firmly fixed in a state in which a compression force (marked in bold) is applied in the central direction by a vise 8 from the left and right, and is suspended on the metal member 3. 5 is fixed with solder 6, and a push-pull gauge (spring balance) 7 is attached to the upper end of the suspension fitting 5. In this state, the hanging metal fitting 5 is pulled upward at a speed of 30 mm / min, and the strength at the moment when the metallized layer 2 is separated from the nitride-based ceramic body 1 is read by the gauge 7.
【0016】次に本発明の具体的実施例について説明す
る。Next, specific examples of the present invention will be described.
【0017】(実施例1) (a) 窒化物系セラミック体:MgO 3重量%、A
l2 O3 7重量%を焼結助剤として含むSi3 N4 セ
ラミック材料をN2 雰囲気1650℃において焼成し、
接合面を250番ダイアモンドホイールで研磨してテス
トピースを作成した。(Example 1) (a) Nitride-based ceramic body: MgO 3% by weight, A
an Si 3 N 4 ceramic material containing 7% by weight of 1 2 O 3 as a sintering aid was fired in an N 2 atmosphere at 1650 ° C.
The joint surface was ground with a No. 250 diamond wheel to prepare a test piece.
【0018】(b) 酸窒化物ガラス:MgO 18重
量%、AlN 20重量%、SiO2 62重量%を混合
調製し、六方晶BNをコーティングしたSiCルツボ中
にて1500℃で3時間加熱しN2 ガスを送りながらル
ツボ中で放冷した。得られたMg−Al−Si−O−N
系のガラスからはX線回折の結果、Si2 N2 O等各種
SIALONとみられる微弱な回折線が認められた。こ
うして得たカレットを乳鉢中で粗粉砕した後、振動ミル
により325メッシュ以下の粒径に調製した。(B) Oxynitride glass: 18% by weight of MgO, 20% by weight of AlN and 62% by weight of SiO 2 were mixed and prepared, and heated in a SiC crucible coated with hexagonal BN at 1500 ° C. for 3 hours to obtain N. 2 Gas was sent and cooled in the crucible. Obtained Mg-Al-Si-O-N
As a result of X-ray diffraction from the glass of the system, weak diffraction lines which are considered to be various SIALONs such as Si 2 N 2 O were recognized. The cullet thus obtained was roughly crushed in a mortar and then adjusted to have a particle size of 325 mesh or less by a vibration mill.
【0019】(c) 高融点金属粉末:純度99%,平
均粒径3μmのW粉末を用意した。(C) Refractory metal powder: W powder having a purity of 99% and an average particle size of 3 μm was prepared.
【0020】(d) 定着及び焼結 :上記のような準
備された酸窒化物ガラスとW粉末とを混合してペースト
とした後、このペーストを窒化物系セラミック体上に厚
み20μm、4mm2 の面積にわたって塗布し、N2 雰
囲気中において1350℃で1時間焼成してメタライズ
層を得た。(D) Fixing and Sintering: The oxynitride glass prepared as described above and W powder were mixed to form a paste, and this paste was applied on a nitride ceramic body to a thickness of 20 μm and 4 mm 2 Was applied over the above area and baked in an N 2 atmosphere at 1350 ° C. for 1 hour to obtain a metallized layer.
【0021】(e) 接合:上記メタライズ層にNi無
電解メッキを施し、剥離強度テストのための吊金具をハ
ンダ付けしてメタライズ層と窒化物系セラミック体との
剥離強度測定を実施した。テストは20個のテストピー
スにつき行い平均強度が80MPa、ばらつきはδn-1
=5MPaであった。(E) Bonding: Ni electroless plating was applied to the metallized layer, and a hanging metal fitting for the peeling strength test was soldered to measure the peeling strength between the metallized layer and the nitride-based ceramic body. The test was performed on 20 test pieces, the average strength was 80 MPa, and the variation was δ n-1.
= 5 MPa.
【0022】(実施例2〜6) (実施例1)のSi3 N4 セラミック体および(実施例
2)のAlNセラミック体のそれぞれについて焼結助
剤,高融点金属粉末をそれぞれ代えて実施したものを
(実施例3〜6)に示し、(実施例1〜6)の内容を表
1,表2にまとめて表示した。(Examples 2 to 6) The Si 3 N 4 ceramic body of (Example 1) and the AlN ceramic body of (Example 2) were replaced with sintering aids and refractory metal powders. Those are shown in (Examples 3 to 6), and the contents of (Examples 1 to 6) are collectively shown in Tables 1 and 2.
【0023】[0023]
【表1】 [Table 1]
【0024】[0024]
【表2】 [Table 2]
【0025】表2から判明するように、Si3 N4 及び
AlN両窒化物系セラミック体に対するメタライズ強度
が概ね70〜80MPaという極めて高い値を、ロー付
け後の強度も約60〜75MPaとかなりの高い値を示
して、本発明の有効性がここに確認された。As can be seen from Table 2, the metallization strength for both the Si 3 N 4 and AlN nitride ceramic bodies is extremely high, about 70 to 80 MPa, and the strength after brazing is about 60 to 75 MPa, which is considerable. The effectiveness of the present invention was confirmed here, showing a high value.
【0026】[0026]
【発明の効果】本発明の窒化物系セラミック体のメタラ
イズ組成物では、高融点金属であるW,Mo及びMnか
ら選ばれる少なくとも一種と、AlNとを含有している
ので、窒化物系セラミック体とメタライズ層との高い接
合強度を保証することができるという優れた効果を発揮
し得るものである。The nitride ceramic body metallized composition of the present invention contains at least one of refractory metals selected from W, Mo and Mn and AlN. It is possible to exhibit an excellent effect that a high bonding strength between the metallized layer and the metallized layer can be guaranteed.
【図1】本発明のメタライズ組成物を用いた接合構造の
一部縦断面斜視図である。FIG. 1 is a partial vertical cross-sectional perspective view of a joining structure using a metallized composition of the present invention.
【図2】メタライズ層の上に金属部材をロー付けをした
場合の強度測定テストの概略を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an outline of a strength measurement test when a metal member is brazed on a metallized layer.
1 窒化物系セラミック体 2 メタライズ層 3 金属部材 1 Nitride Ceramic Body 2 Metallized Layer 3 Metal Member
Claims (1)
ばれる少なくとも一種と、AlNとを含有する窒化物系
セラミック体のメタライズ組成物。Claims: What is claimed is: 1. A metallized composition of a nitride-based ceramic body containing AlN and at least one selected from refractory metals of W, Mo and Mn.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21374791A JPH05862A (en) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | Nitride ceramic metallized composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21374791A JPH05862A (en) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | Nitride ceramic metallized composition |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59254538A Division JPH0679988B2 (en) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | Metallization method for nitride ceramics |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05862A true JPH05862A (en) | 1993-01-08 |
Family
ID=16644353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21374791A Pending JPH05862A (en) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | Nitride ceramic metallized composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05862A (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551774A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-15 | Kyoto Ceramic | Composition and method for metallizing nonnoxide ceramic body |
-
1991
- 1991-08-26 JP JP21374791A patent/JPH05862A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551774A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-15 | Kyoto Ceramic | Composition and method for metallizing nonnoxide ceramic body |
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