JPH05862A - 窒化物系セラミツク体のメタライズ組成物 - Google Patents
窒化物系セラミツク体のメタライズ組成物Info
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- JPH05862A JPH05862A JP21374791A JP21374791A JPH05862A JP H05862 A JPH05862 A JP H05862A JP 21374791 A JP21374791 A JP 21374791A JP 21374791 A JP21374791 A JP 21374791A JP H05862 A JPH05862 A JP H05862A
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- metallized layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】窒化物系セラミック体とメタライズ層との高い
接合強度を保証することができる窒化物系セラミック体
のメタライズ組成物を提供することを目的とする。 【構成】窒化物系セラミック体１（例えばＳｉ3 Ｎ4 や
ＡｌＮ）に、メタライズ層２やこのメタライズ層２を介
して金属部材３を接合するに際し、前記メタライズ層２
を形成するメタライズ組成物を、高融点金属であるＷ，
Ｍｏ及びＭｎから選ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮと
を含有して構成した。
接合強度を保証することができる窒化物系セラミック体
のメタライズ組成物を提供することを目的とする。 【構成】窒化物系セラミック体１（例えばＳｉ3 Ｎ4 や
ＡｌＮ）に、メタライズ層２やこのメタライズ層２を介
して金属部材３を接合するに際し、前記メタライズ層２
を形成するメタライズ組成物を、高融点金属であるＷ，
Ｍｏ及びＭｎから選ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮと
を含有して構成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、窒化物系セラ
ミック体と金属部材とを接合したり、窒化物系セラミッ
ク体に導体を形成するための窒化物系セラミック体のメ
タライズ組成物に関する。
ミック体と金属部材とを接合したり、窒化物系セラミッ
ク体に導体を形成するための窒化物系セラミック体のメ
タライズ組成物に関する。
【０００２】
【従来技術】従来、例えば、セラミック体と金属部材と
を接合したり、窒化物系セラミック体に導体を形成する
場合は、セラミック体の表面をメタライズすることによ
り行なわれている。
を接合したり、窒化物系セラミック体に導体を形成する
場合は、セラミック体の表面をメタライズすることによ
り行なわれている。
【０００３】このようなメタライズ法としては、例え
ば、Ａｌ2 Ｏ3 等の酸化物系セラミックについては、従
来、蒸着法を用いて金属を高真空中で活性な超微粒子状
にしてセラミック体表面に物理的に被着させる方法、あ
るいは例えばＭｏ粉末とＭｎ粉末を含むメタライズ組成
物を適当な粘結剤と溶剤とからなるバイダーを用いてペ
ースト状となし、これをセラミック体の表面に塗布した
後、水蒸気を含む弱酸性の水素雰囲気或いは水素と窒素
の混合雰囲気中で焼成してメタライズ層を形成する方法
が採用されている。
ば、Ａｌ2 Ｏ3 等の酸化物系セラミックについては、従
来、蒸着法を用いて金属を高真空中で活性な超微粒子状
にしてセラミック体表面に物理的に被着させる方法、あ
るいは例えばＭｏ粉末とＭｎ粉末を含むメタライズ組成
物を適当な粘結剤と溶剤とからなるバイダーを用いてペ
ースト状となし、これをセラミック体の表面に塗布した
後、水蒸気を含む弱酸性の水素雰囲気或いは水素と窒素
の混合雰囲気中で焼成してメタライズ層を形成する方法
が採用されている。
【０００４】ところで、セラミック材料とメタライズ層
や金属部材との接合は両材料の複合的工業技術にとって
極めて重要な役割をなし、とりわけ高温特性及び強度の
優れたＳｉ3 Ｎ4 （窒化ケイ素），ＡｌＮ（窒化アルミ
ニウム）等の窒化物を焼結した窒化物系セラミック体の
応用分野が拡大されている現今、窒化物系セラミック体
とメタライズ層や金属部材との接合技術には関心が寄せ
られている。
や金属部材との接合は両材料の複合的工業技術にとって
極めて重要な役割をなし、とりわけ高温特性及び強度の
優れたＳｉ3 Ｎ4 （窒化ケイ素），ＡｌＮ（窒化アルミ
ニウム）等の窒化物を焼結した窒化物系セラミック体の
応用分野が拡大されている現今、窒化物系セラミック体
とメタライズ層や金属部材との接合技術には関心が寄せ
られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、Ａｌ
2 Ｏ3 等の酸化物系セラミックに使用されるメタライズ
組成物を窒化物系セラミック体に適用しても、窒化物系
セラミック体とメタライズ層との接合強度が小さく、実
用的な接合強度を得ることができないという問題があっ
た。
2 Ｏ3 等の酸化物系セラミックに使用されるメタライズ
組成物を窒化物系セラミック体に適用しても、窒化物系
セラミック体とメタライズ層との接合強度が小さく、実
用的な接合強度を得ることができないという問題があっ
た。
【０００６】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は上記現状
に鑑み、窒化物系セラミック体へのメタライズ層の接合
を種々研究，実験した結果、高融点金属とＡｌＮを含有
するメタライズ組成物を使用すると、高い接合強度が得
られることを知悉し、本発明の完成に至ったのである。
即ち、本発明は、高融点金属であるＷ，Ｍｏ及びＭｎか
ら選ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮとを含有すること
を特徴とする窒化物系セラミック体のメタライズ組成物
にある。
に鑑み、窒化物系セラミック体へのメタライズ層の接合
を種々研究，実験した結果、高融点金属とＡｌＮを含有
するメタライズ組成物を使用すると、高い接合強度が得
られることを知悉し、本発明の完成に至ったのである。
即ち、本発明は、高融点金属であるＷ，Ｍｏ及びＭｎか
ら選ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮとを含有すること
を特徴とする窒化物系セラミック体のメタライズ組成物
にある。
【０００７】本発明のメタライズ組成物により形成され
たメタライズ層の上には常法に従ってメッキ等を施した
後、接合すべき金属部材をロー付けして構造材として利
用したり、電気的良導体金属をメッキしてプリント基板
などの導体配線を形成して電気的材料に応用したり、さ
らに、メタライズ層自体を導体としたり等、その応用範
囲は広い。望ましい実施例に於いて、本発明のメタライ
ズ組成物により形成されたメタライズ層と窒化物系セラ
ミック体との剥離強度は７５Ｍｐａ（メガ・パスカル）
以上に及んでいる。
たメタライズ層の上には常法に従ってメッキ等を施した
後、接合すべき金属部材をロー付けして構造材として利
用したり、電気的良導体金属をメッキしてプリント基板
などの導体配線を形成して電気的材料に応用したり、さ
らに、メタライズ層自体を導体としたり等、その応用範
囲は広い。望ましい実施例に於いて、本発明のメタライ
ズ組成物により形成されたメタライズ層と窒化物系セラ
ミック体との剥離強度は７５Ｍｐａ（メガ・パスカル）
以上に及んでいる。
【０００８】以下に本発明の構成を詳述する。本発明の
メタライズ組成物、即ち、高融点金属であるＷ，Ｍｏ及
びＭｎから選ばれる少なくとも一種と酸窒化物ガラスを
構成するＡｌＮとを含有するメタライズ組成物は、塗布
もしくはプリントにより窒化物系セラミック体上に定着
して使用される。窒化物系セラミック体としてはＳｉ3
Ｎ4 （窒化ケイ素），ＡｌＮ（窒化アルミニウム）焼結
体が挙げられ、これらは工業的に焼結する場合、焼結助
剤として周期律表第２ａ，３ａ族元素，Ａｌ及びＳｉな
どの酸化物及びＡｌＮの単独もしくは組み合わせをそれ
ぞれ助剤としての使用量（約１０重量％）含んで良好な
焼結を保証するものであるが、これら焼結助剤は焼結に
よって粒間相は通常酸窒化物ガラス或いはこのガラスか
ら結晶化した酸窒化物結晶相から構成されている。
メタライズ組成物、即ち、高融点金属であるＷ，Ｍｏ及
びＭｎから選ばれる少なくとも一種と酸窒化物ガラスを
構成するＡｌＮとを含有するメタライズ組成物は、塗布
もしくはプリントにより窒化物系セラミック体上に定着
して使用される。窒化物系セラミック体としてはＳｉ3
Ｎ4 （窒化ケイ素），ＡｌＮ（窒化アルミニウム）焼結
体が挙げられ、これらは工業的に焼結する場合、焼結助
剤として周期律表第２ａ，３ａ族元素，Ａｌ及びＳｉな
どの酸化物及びＡｌＮの単独もしくは組み合わせをそれ
ぞれ助剤としての使用量（約１０重量％）含んで良好な
焼結を保証するものであるが、これら焼結助剤は焼結に
よって粒間相は通常酸窒化物ガラス或いはこのガラスか
ら結晶化した酸窒化物結晶相から構成されている。
【０００９】そして、ここで使用する酸窒化物ガラスと
は、上記の窒化物系セラミック体中の粒間相を構成して
いる酸窒化物ガラスおよび窒化物と化学的に類似するも
のであれば特に組成に限定を設ける必要がなく、後記の
ＭｇＯ，ＡｌＮ，Ｙ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等は一例にすぎな
いものであり、少なくともＡｌＮを含有していれば良
い。この酸窒化物ガラスは焼付け温度で流動性のあるも
のが、塗布，プリントのような簡単な定着手法を採択で
きる上で至適である。さらに、この酸窒化物ガラスは結
晶質を全く含まない純粋なガラスである必要はなく、多
少の結晶質を含んでいても、いわゆる“フリット”状に
して使用できるものであれば、結晶質を含んでいても何
ら差し支えないものである。
は、上記の窒化物系セラミック体中の粒間相を構成して
いる酸窒化物ガラスおよび窒化物と化学的に類似するも
のであれば特に組成に限定を設ける必要がなく、後記の
ＭｇＯ，ＡｌＮ，Ｙ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 等は一例にすぎな
いものであり、少なくともＡｌＮを含有していれば良
い。この酸窒化物ガラスは焼付け温度で流動性のあるも
のが、塗布，プリントのような簡単な定着手法を採択で
きる上で至適である。さらに、この酸窒化物ガラスは結
晶質を全く含まない純粋なガラスである必要はなく、多
少の結晶質を含んでいても、いわゆる“フリット”状に
して使用できるものであれば、結晶質を含んでいても何
ら差し支えないものである。
【００１０】他方、高融点金属粉末はＷ，Ｍｏ及びＭｎ
から選ばれる少なくとも一種であり、これらは基本的に
は焼付温度で溶融，気化等が起こらない金属の粉末で、
焼結した場合、金属，そのケイ化物，炭化物或いはそれ
らの混合物として存在するものである。酸窒化物ガラス
との混合割合は特に制限的なものは不要であるが、通常
ガラス粉末７〜５０重量部に対し高融点金属粉末は９３
〜５０重量部の範囲で良い。
から選ばれる少なくとも一種であり、これらは基本的に
は焼付温度で溶融，気化等が起こらない金属の粉末で、
焼結した場合、金属，そのケイ化物，炭化物或いはそれ
らの混合物として存在するものである。酸窒化物ガラス
との混合割合は特に制限的なものは不要であるが、通常
ガラス粉末７〜５０重量部に対し高融点金属粉末は９３
〜５０重量部の範囲で良い。
【００１１】メタライズ組成物を窒化物系セラミック体
上に定着させる手法としては、既述のようなフリット状
のメタライズ組成物を塗布もしくは印刷によって窒化物
系セラミック体上に厚み０．０１〜０．１ｍｍ程度に層
着することが最も望ましいが、この他吹付等の手法も採
用できる。層着させるメタライズ組成物を焼結するに
は、組成物の内容によっても変わるものの１０００〜１
５００℃の間で還元或いは中性ガス中で焼結すればよ
い。得られたメタライズ層の上には既述のように接合す
べき金属部材をロー付けして構造材としたり、Ａｕ−Ｓ
ｉ合金のような高い導電性を有する金属をメッキし、或
いはメタライズ層自体を導体としてプリント基板のよう
な導体配線を形成し電気的材料に応用したりする。
上に定着させる手法としては、既述のようなフリット状
のメタライズ組成物を塗布もしくは印刷によって窒化物
系セラミック体上に厚み０．０１〜０．１ｍｍ程度に層
着することが最も望ましいが、この他吹付等の手法も採
用できる。層着させるメタライズ組成物を焼結するに
は、組成物の内容によっても変わるものの１０００〜１
５００℃の間で還元或いは中性ガス中で焼結すればよ
い。得られたメタライズ層の上には既述のように接合す
べき金属部材をロー付けして構造材としたり、Ａｕ−Ｓ
ｉ合金のような高い導電性を有する金属をメッキし、或
いはメタライズ層自体を導体としてプリント基板のよう
な導体配線を形成し電気的材料に応用したりする。
【００１２】
【作用】窒化物系セラミック体の窒化物結晶或いは粒間
相を構成している酸窒化物ガラスや酸窒化物結晶相に対
して、メタライズ組成物中のＡｌＮが極めて大きな親和
性を発揮して窒化物系セラミック体とメタライズ層との
強い化学的接合強度を保証し、一方高融点金属粉末は高
温で焼結された場合、金属，ケイ化物，炭化物もしくは
それらの混合物としてメタライズ層内に存在し、接合す
べき金属部材との濡れ性が良好であるためメタライズ層
上に該金属部材を直接接合して高い接合強度が得られ
る。必要によりこのメタライズ層にさらに電解或いは無
電解メッキを行って、これと半田付けもしくはロー付け
によって金属部材を接合すれば接合強度はより高められ
るのでその採択が望まれる。
相を構成している酸窒化物ガラスや酸窒化物結晶相に対
して、メタライズ組成物中のＡｌＮが極めて大きな親和
性を発揮して窒化物系セラミック体とメタライズ層との
強い化学的接合強度を保証し、一方高融点金属粉末は高
温で焼結された場合、金属，ケイ化物，炭化物もしくは
それらの混合物としてメタライズ層内に存在し、接合す
べき金属部材との濡れ性が良好であるためメタライズ層
上に該金属部材を直接接合して高い接合強度が得られ
る。必要によりこのメタライズ層にさらに電解或いは無
電解メッキを行って、これと半田付けもしくはロー付け
によって金属部材を接合すれば接合強度はより高められ
るのでその採択が望まれる。
【００１３】
【実施例】図１に本発明のメタライズ組成物を用いた接
合構造の一部縦断面斜視図を示す。図において、窒化物
系セラミック体１上の接合に必要なエリアにわたって定
着されたメタライズ組成物は焼結によってメタライズ層
２を形成しており、このメタライズ層２上に一例とし
て、コバー金属（ＫＯＶＡＲ）よりなる金属部材３を銀
ロー４（ＢＡｇ−８）を介して接合してある。この銀ロ
ー４のプレージングはアンモニア分解ガスをウエットガ
ス（水蒸気を含ませたもの）の状態で導入した雰囲気下
で約８５０℃にて溶融させることによって実施した。
合構造の一部縦断面斜視図を示す。図において、窒化物
系セラミック体１上の接合に必要なエリアにわたって定
着されたメタライズ組成物は焼結によってメタライズ層
２を形成しており、このメタライズ層２上に一例とし
て、コバー金属（ＫＯＶＡＲ）よりなる金属部材３を銀
ロー４（ＢＡｇ−８）を介して接合してある。この銀ロ
ー４のプレージングはアンモニア分解ガスをウエットガ
ス（水蒸気を含ませたもの）の状態で導入した雰囲気下
で約８５０℃にて溶融させることによって実施した。
【００１４】後記のロー付け後の接合強度の測定方法を
ここで図２を採って説明しておく。
ここで図２を採って説明しておく。
【００１５】テストピースＳである窒化物系セラミック
体１は左右より万力８によって中央方向に圧縮力（太字
印）を付与された状態で堅固に固定されており、金属部
材３上に吊金具５をハンダ６をもって固定し、この吊金
具５の上端にプッシュプルゲージ（ゼンマイばねはか
り）７を取付ける。この状態で吊金具５を３０ｍｍ／分
の早さで上方に引き上げ、メタライズ層２が窒化物系セ
ラミック体１より剥離した瞬間の強度をゲージ７で読み
取る。
体１は左右より万力８によって中央方向に圧縮力（太字
印）を付与された状態で堅固に固定されており、金属部
材３上に吊金具５をハンダ６をもって固定し、この吊金
具５の上端にプッシュプルゲージ（ゼンマイばねはか
り）７を取付ける。この状態で吊金具５を３０ｍｍ／分
の早さで上方に引き上げ、メタライズ層２が窒化物系セ
ラミック体１より剥離した瞬間の強度をゲージ７で読み
取る。
【００１６】次に本発明の具体的実施例について説明す
る。
る。
【００１７】（実施例１） （ａ） 窒化物系セラミック体：ＭｇＯ ３重量％、Ａ
ｌ2 Ｏ3 ７重量％を焼結助剤として含むＳｉ3 Ｎ4 セ
ラミック材料をＮ2 雰囲気１６５０℃において焼成し、
接合面を２５０番ダイアモンドホイールで研磨してテス
トピースを作成した。
ｌ2 Ｏ3 ７重量％を焼結助剤として含むＳｉ3 Ｎ4 セ
ラミック材料をＮ2 雰囲気１６５０℃において焼成し、
接合面を２５０番ダイアモンドホイールで研磨してテス
トピースを作成した。
【００１８】（ｂ） 酸窒化物ガラス：ＭｇＯ １８重
量％、ＡｌＮ ２０重量％、ＳｉＯ2 ６２重量％を混合
調製し、六方晶ＢＮをコーティングしたＳｉＣルツボ中
にて１５００℃で３時間加熱しＮ2 ガスを送りながらル
ツボ中で放冷した。得られたＭｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
系のガラスからはＸ線回折の結果、Ｓｉ2 Ｎ2 Ｏ等各種
ＳＩＡＬＯＮとみられる微弱な回折線が認められた。こ
うして得たカレットを乳鉢中で粗粉砕した後、振動ミル
により３２５メッシュ以下の粒径に調製した。
量％、ＡｌＮ ２０重量％、ＳｉＯ2 ６２重量％を混合
調製し、六方晶ＢＮをコーティングしたＳｉＣルツボ中
にて１５００℃で３時間加熱しＮ2 ガスを送りながらル
ツボ中で放冷した。得られたＭｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
系のガラスからはＸ線回折の結果、Ｓｉ2 Ｎ2 Ｏ等各種
ＳＩＡＬＯＮとみられる微弱な回折線が認められた。こ
うして得たカレットを乳鉢中で粗粉砕した後、振動ミル
により３２５メッシュ以下の粒径に調製した。
【００１９】（ｃ） 高融点金属粉末：純度９９％，平
均粒径３μｍのＷ粉末を用意した。
均粒径３μｍのＷ粉末を用意した。
【００２０】（ｄ） 定着及び焼結 ：上記のような準
備された酸窒化物ガラスとＷ粉末とを混合してペースト
とした後、このペーストを窒化物系セラミック体上に厚
み２０μｍ、４ｍｍ2 の面積にわたって塗布し、Ｎ2 雰
囲気中において１３５０℃で１時間焼成してメタライズ
層を得た。
備された酸窒化物ガラスとＷ粉末とを混合してペースト
とした後、このペーストを窒化物系セラミック体上に厚
み２０μｍ、４ｍｍ2 の面積にわたって塗布し、Ｎ2 雰
囲気中において１３５０℃で１時間焼成してメタライズ
層を得た。
【００２１】（ｅ） 接合：上記メタライズ層にＮｉ無
電解メッキを施し、剥離強度テストのための吊金具をハ
ンダ付けしてメタライズ層と窒化物系セラミック体との
剥離強度測定を実施した。テストは２０個のテストピー
スにつき行い平均強度が８０ＭＰａ、ばらつきはδn-1
＝５ＭＰａであった。
電解メッキを施し、剥離強度テストのための吊金具をハ
ンダ付けしてメタライズ層と窒化物系セラミック体との
剥離強度測定を実施した。テストは２０個のテストピー
スにつき行い平均強度が８０ＭＰａ、ばらつきはδn-1
＝５ＭＰａであった。
【００２２】（実施例２〜６） （実施例１）のＳｉ3 Ｎ4 セラミック体および（実施例
２）のＡｌＮセラミック体のそれぞれについて焼結助
剤，高融点金属粉末をそれぞれ代えて実施したものを
（実施例３〜６）に示し、（実施例１〜６）の内容を表
１，表２にまとめて表示した。
２）のＡｌＮセラミック体のそれぞれについて焼結助
剤，高融点金属粉末をそれぞれ代えて実施したものを
（実施例３〜６）に示し、（実施例１〜６）の内容を表
１，表２にまとめて表示した。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【表２】
【００２５】表２から判明するように、Ｓｉ3 Ｎ4 及び
ＡｌＮ両窒化物系セラミック体に対するメタライズ強度
が概ね７０〜８０ＭＰａという極めて高い値を、ロー付
け後の強度も約６０〜７５ＭＰａとかなりの高い値を示
して、本発明の有効性がここに確認された。
ＡｌＮ両窒化物系セラミック体に対するメタライズ強度
が概ね７０〜８０ＭＰａという極めて高い値を、ロー付
け後の強度も約６０〜７５ＭＰａとかなりの高い値を示
して、本発明の有効性がここに確認された。
【００２６】
【発明の効果】本発明の窒化物系セラミック体のメタラ
イズ組成物では、高融点金属であるＷ，Ｍｏ及びＭｎか
ら選ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮとを含有している
ので、窒化物系セラミック体とメタライズ層との高い接
合強度を保証することができるという優れた効果を発揮
し得るものである。
イズ組成物では、高融点金属であるＷ，Ｍｏ及びＭｎか
ら選ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮとを含有している
ので、窒化物系セラミック体とメタライズ層との高い接
合強度を保証することができるという優れた効果を発揮
し得るものである。
【図１】本発明のメタライズ組成物を用いた接合構造の
一部縦断面斜視図である。
一部縦断面斜視図である。
【図２】メタライズ層の上に金属部材をロー付けをした
場合の強度測定テストの概略を示す説明図である。
場合の強度測定テストの概略を示す説明図である。
１ 窒化物系セラミック体 ２ メタライズ層 ３ 金属部材
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】高融点金属であるＷ，Ｍｏ及びＭｎから選
ばれる少なくとも一種と、ＡｌＮとを含有する窒化物系
セラミック体のメタライズ組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21374791A JPH05862A (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 窒化物系セラミツク体のメタライズ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21374791A JPH05862A (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 窒化物系セラミツク体のメタライズ組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59254538A Division JPH0679988B2 (ja) | 1984-11-30 | 1984-11-30 | 窒化物セラミツク体へのメタライズ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05862A true JPH05862A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=16644353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21374791A Pending JPH05862A (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | 窒化物系セラミツク体のメタライズ組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05862A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551774A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-15 | Kyoto Ceramic | Composition and method for metallizing nonnoxide ceramic body |
-
1991
- 1991-08-26 JP JP21374791A patent/JPH05862A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551774A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-15 | Kyoto Ceramic | Composition and method for metallizing nonnoxide ceramic body |
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