JPH0589459A

JPH0589459A - 磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスクの製造方法並びに磁気デイスク用ガラス基板及び磁気デイスク

Info

Publication number: JPH0589459A
Application number: JP3251905A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Kojima; 毅小嶋; Shinji Eda; 伸二江田
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1991-09-30
Filing date: 1991-09-30
Publication date: 1993-04-09
Anticipated expiration: 2016-07-09
Also published as: JP3184261B2

Abstract

(57)【要約】【目的】この発明は、高密度記録が可能な程度に十分
な平滑度を有し、かつ、記録エリアを周縁にまで拡大す
ることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板及び磁気
ディスクの製造方法並びに磁気ディスク用ガラス基板及
び磁気ディスクを提供することを目的とする。【構成】本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板及
び磁気ディスクの製造方法並びに磁気ディスク用ガラス
基板及び磁気ディスクは、研磨加工工程におけるファイ
ナル研磨たる第２研磨をガラス基板１に施す際の研磨加
工圧力Ｐ（ｇ／ｃｍ²）と研磨加工時間ｔ（ｍｉｎ）と
の積Ｐｔの値が、１０００＜Ｐｔ＜１５０００の範囲に
なるようにこれら研磨加工圧力Ｐと研磨加工時間ｔとを
選定したことを特徴とするもので、これにより、高密度
記録が可能な程度に十分な平滑度を有し、かつ、記録エ
リアを周縁にまで拡大することを可能とする磁気ディス
ク用ガラス基板及び磁気ディスクを得ることを可能とし
たものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、高密度記録を可能と
する磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板及
びそのガラス基板を用いた磁気ディスクの製造方法並び
に上記製造方法で製造した磁気ディスク用ガラス基板及
びそのガラス基板を用いた磁気ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】ガラス基板を用いた磁気ディスクにおい
ても、記録容量の向上に対する要請は強く、高密度記録
化や記録エリアの拡大が急務となっている。

【０００３】高密度の記録を可能にするためには、ガラ
ス基板の記録部となる表面（以下、主表面という）をで
きるだけ平滑にする必要があり一方、記録エリアを拡大
するためにはこの平滑な領域をできるだけ広く確保する
必要がある。

【０００４】ところで、アルミニウム合金に金属メッキ
した基板や結晶化ガラス基板については、高密度記録を
可能とするためにその表面を高精度に平滑化する試みは
行われている（例えば、特開昭60-229234 号公報、特公
昭62-40140号公報参照）が、ガラス基板についてはその
ような観点での表面平滑化は未だ行われていないのが実
情である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
円板状ガラス基板について基板全域に高密度記録を可能
とすべく高精度に平滑化する試みを行った。なお、よく
知られているように、ガラスの表面仕上げの工程は、大
きく分けて、(1) 荒ずり（粗研削）、(2）砂掛け（精研
削）、(3) 研磨の各工程からなる。このうち、(2）の
砂掛け工程は、いわゆるラッピングと呼ばれ、加工物の
寸法精度・形状精度の向上を目的とする。また、(3) の
研磨工程はポリシングと呼ばれ、面の平滑さの向上（表
面粗さの低減）と加工歪を小さくすることを目的とす
る。そして、この(3) の研磨工程は通常さらに２工程に
分かれ、硬質ポリシャを使用する第１研磨工程と、軟質
ポリシャを使用する第２研磨（ファイナル研磨）工程と
からなる。ここでは、第２研磨工程で考えられる最高度
に近い研磨を施した。

【０００６】ところが、このような研磨仕上げを施した
場合、平滑度については十分な精度が得られるが、基板
の外周端部（基板周縁）に磁気ヘッドのフライングに有
害な隆起部が形成されることがわかった。

【０００７】すなわち、表面形状測定器（RANK TAYLOR
HOBSON 社のTalysurf）を用い、図９に示されるよう
に、ガラス基板２の外周端部から約１０ｍｍ中心に向か
った位置Ａから外周端部Ｂまで触針（stylus）を移動さ
せてガラス基板１の直径方向の真直精度を測定したとこ
ろ、図１０に示されるような結果が得られた。これによ
れば、ガラス基板の外周端部近傍に隆起部（額縁）１ｃ
が形成され、この隆起部１ｃから外周端面に移行する部
位に縁だれが形成されていることが確認され、この隆起
部１ｃの高さが高いため、磁気ヘッドのフライングに支
障をきたすおそれがあることが確認された。ここで、隆
起部１ｃの表面を以下スキージャンプといい、また、縁
だれの表面をロールオフということにする。また、この
場合、平坦面を基準としたスキージャンプの最大高さ
（平坦面とスキージャンプの頂点との距離）Ｓをスキー
ジャンプの値といい、また、スキージャンプの頂点から
研磨面と面取面との境界部までの距離Ｒをロールオフの
値ということにする。そうすると、スキージャンプの値
Ｓが０．４５μｍであった。スキージャンプの値がこの
ように大きいと、磁気ヘッドがこの部分をフライングす
ることができなくなるので、この部分を有効な記録部に
することはできない。それゆえ、記録エリア我その分狭
められてしまうという問題があった。

【０００８】そこで、本発明者がこの原因を究明したし
たところ、第２研磨（ファイナル研磨）工程の前の工程
である第１研磨工程を終了した段階においては、図１１
に示されるように、スキージャンプの値Ｓが十分に小さ
い値を有していることが判明した。したがって、スキー
ジャンプの値Ｓが大きくなるのは第２研磨工程に原因が
あるということが判明した。

【０００９】この発明は、上述の背景のもとでなされた
ものであり、高密度記録が可能な程度に十分な平滑度を
有し、かつ、記録エリアを周縁にまで拡大することを可
能とする磁気ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板
を用いた磁気ディスクの製造方法並びに上記製造方法で
製造した磁気ディスク用ガラス基板及びそのガラス基板
を用いた磁気ディスクを提供することを目的としたもの
である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、（１）円板状ガラス基板の主表面に、
研削、硬質ポリシャを使用する第１研磨及び軟質ポリシ
ャを使用する第２研磨を順次施して前記主表面を鏡面に
する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前
記第２研磨を施す際の研磨加工圧力Ｐ（ｇ／ｃｍ²）の
値がＰ＜３００であり、研磨加工時間ｔ（ｍｉｎ）の値
が１５＜ｔ＜７５であるとともに、Ｐとｔとの積Ｐｔの
値が、３０００＜Ｐｔ＜１００００の範囲になるように
これら研磨加工圧力Ｐと研磨加工時間ｔとを選定したこ
とを特徴とする構成とした。

【００１１】また、この構成１の態様としてとして、
（２）構成１の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
において、前記第２研磨を施す際の研磨加工圧力Ｐ（ｇ
／ｃｍ²）と研磨加工時間ｔ（ｍｉｎ）との積Ｐｔの値
が、３０００＜Ｐｔ＜９０００の範囲になるようにこれ
ら研磨加工圧力Ｐと研磨加工時間ｔとを選定したことを
特徴とする構成とした。

【００１２】さらに、構成１または２の磁気ディスク用
ガラス基板の製造方法によって製造した磁気ディスク用
ガラス基板として、（３）構成１または２の磁気ディ
スク用ガラス基板の製造方法によって製造した磁気ディ
スク用ガラス基板であって、主表面の周縁部に形成され
た隆起部の最大高さが、該主表面の他の平坦部を基準に
して０．３５μｍ未満であることを特徴とした構成とし
た。

【００１３】また、構成１または２の磁気ディスク用ガ
ラス基板の製造方法によって製造した磁気ディスク用ガ
ラス基板を用いて磁気ディスクを製造する方法として、
（４）構成１または２に記載の磁気ディスク用ガラス
基板の製造方法によって製造した磁気ディスク用ガラス
基板の主表面に磁性膜を形成する工程を含む工程を行う
ことにより、磁気ディスクを製造することを特徴とした
構成とした。

【００１４】そして、構成３の方法によって製造した磁
気ディスクとして、（５）構成３に記載の磁気ディス
ク用ガラス基板の主表面上に磁性膜を含む膜が形成され
てなることを特徴とした構成としたものである。

【００１５】

【作用】上述の構成１の方法によれば、高密度記録が可
能な程度に十分な平滑度を有し、かつ、有効な記録エリ
アを周縁にまで拡大することを可能とする磁気ディスク
用ガラス基板が得られることが確認された。この結果
は、本発明者が、上述の解明結果に基づき、従来のガラ
スの研磨工程の常識にこだわることなく広く研磨条件を
変えて種々実験した結果、はじめて得られたものであ
る。

【００１６】また、構成２によれば、構成１における有
効な記録エリアを確保しつつより高密度な記録が可能な
平滑度を有する磁気ディスク用ガラス基板が得られるこ
とが確認されている。

【００１７】さらに、構成３のガラス基板は、基板周縁
まで高密度記録が可能な磁気ディスク用ガラス基板とし
て用いることができる。

【００１８】そして、構成４，５によれば、基板周縁ま
で高密度記録が可能な磁気ディスクを得ることができ
る。

【００１９】

【実施例】

（磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の一実施例）図
１は第１及び第２研磨工程説明図、図２は砂掛け工程説
明図、図３は研磨加工後の測定値及び評価を示す図、図
４及び図５は研磨加工後の主表面のプロフィールの測定
例を示す図、図６はスキージャンプと加工圧力及び加工
時間との関係を示す図、図７はロールオフと加工圧力及
び加工時間との関係を示す図、図８は磁気ヘッドとの接
触状態測定説明図である。以下、これらの図面を参照に
しながら一実施例にかかる磁気ディスク用ガラス基板の
製造方法を説明する。

【００２０】この一実施例の方法の工程は、大きく分け
て、(1) 荒ずり（粗研削）、(2）砂掛け（精研削）、
(3) 第１研磨、(4) 第２研磨（ファイナル研磨）の各
工程からなり、これらの工程の内、(4) 第２研磨（ファ
イナル研磨）が本発明の特徴点をなすものである。以
下、これら工程を詳細に説明する。

【００２１】（１）荒ずり工程まず、直径９６ｍｍφ、厚さ３ｍｍの円板状にプレス成
形されたアルミノシリケートガラスからなるガラス基板
を、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径
９６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍに形成する。

【００２２】次に、上記砥石より粒度の細かいダイヤモ
ンド砥石で上記ガラス基板の両面を片面ずつ研削加工す
る。このときの荷重は１００Ｋｇ程度とする。これによ
り、両面の表面粗さをＲmax で１０μ程度に仕上げる。

【００２３】次いで、円筒状の砥石を用いてガラス基板
の中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して
直径を９５ｍｍφした後、外周端面及び内周面に所定の
面取加工を施す。

【００２４】（２）砂掛け工程次に砂掛け加工を施す。この砂掛け加工は、図２にその
概略断面で示したような研磨装置を用いて行い、砥粒の
粒度を＃４００、＃１０００と変えて２回行う。

【００２５】ここで、図２において、符号１はガラス基
板、符号２はガラス基板１より厚さのやや薄いキャリ
ア、符号１０，１１は鋳鉄からなるラップ盤、符号６は
内側ギア、符号７は外側ギア、符号９はアルミナ砥粒で
ある。

【００２６】はじめに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用
い、荷重Ｌを１００Ｋｇ程度に設定して内側ギア６と外
側ギア７とを回転させることにより、キャリア２内に収
納したガラス基板１の両面を面精度０〜１μ、表面粗さ
Ｒmax ６μ程度にラッピングする。

【００２７】次いで、アルミナ砥粒を＃１０００に変え
て面精度０〜１μ、表面粗さＲmax２μ程度にラッピン
グする。

【００２８】（３）第１研磨工程次に、第１研磨加工を施す。この第１研磨加工は、図１
にその概略断面で示したような研磨装置を用いて行い、
上述の砂掛け工程で残留したキズや歪みを除去するもの
である。ここで、図１に示される研磨装置は、図２に示
した研磨装置におけるラップ盤の代わりに内表面にポリ
シャ５を接着した定盤３，４を用いる点と、アルミナ砥
粒９を用いる代わりに、粒径１μｍの酸化セリウムを水
で溶いた研磨液９ａを用いる点のみが上記図２に示され
る場合と異なるほかは同じである。

【００２９】この第１研磨工程では、ポリシャ５とし
て、硬質ポリシャ（スピードファム社製の商品名「セリ
ウムパッドＭＨＣ１５）を用い、以下の研磨条件で行っ
た。研磨液…酸化セリウム＋水荷重…３００ｇ／ｃｍ²（Ｌ＝２３８Ｋｇ）研磨時間…１５分除去量…３０μ 下定盤回転数…４０ＲＰＭ上定盤回転数…３５ＲＰＭ内ギア回転数…１４ＲＰＭ外ギア回転数…２９ＲＰＭこの第１研磨工程によって、ガラス基板１の表面粗さは
Ｒmax １００オングストローム、スクラッチ（クラック
を伴うキズ）は５０個程度であった。なお、このときの
ガラス基板１の直径方向の真直精度を、上述の表面形状
測定器（RANK TAYLOR HOBSON 社のTalysurf）を用い、
同様にして測定したところ、図１１に示される場合と同
様の結果が得られた。

【００３０】（４）第２研磨工程次に、第１研磨工程で用いた研磨装置（図１）を用い、
ポリシャ５を硬質ポリシャから軟質ポリシャ（スピード
ファム社製の商品名「ポリラックス」）に代えて第２研
磨加工を行った。この第２研磨工程では、加工圧力Ｐ
（ｇ／ｃｍ²）と加工時間ｔ（ｍｉｎ）との積であるＰ
ｔの値を、１０００＜Ｐｔ＜１５０００の範囲になるよ
うに設定した。この点は本発明の特徴点である。Ｐｔ値
をこの範囲に設定することにより、第１研磨で残存した
スクラッチを高密度記録に十分に耐える程度に減少させ
ると同時に、ガラス基板１のスキージャンプの値（ｓ）
とロールオフの値（ｒ）とを、この近傍を磁気ヘッドが
支障なくフライングできる程度に小さくすることができ
た。なお、このときの他の研磨条件は第１研磨工程の場
合と同じである。

【００３１】図３は、第２研磨加工における加工圧力Ｐ
（ｇ／ｃｍ²）と加工時間ｔ（ｍｉｎ）を種々変えて得
た各ガラス基板について、スキージャンプの値（ｓ）と
ロールオフの値（ｒ）とを実測し、また、各ガラス基板
について、磁気ヘッドによるフライングの可否を調べ、
さらには、各ガラス基板の表面に残存するスクラッチの
数を検査するとともに、これらの結果に基づく評価を示
したものである。また、図４及び図５はスキージャンプ
の値（ｓ）とロールオフの値（ｒ）との実測の際に求め
た主表面プロフィールの側定例を示したものであり、図
６及び図７はこの実測結果に基づいて、加工圧力をパラ
メータとして、加工時間とスキージャンプとの関係、並
びに、加工時間とロールオフとの関係をグラフに示した
ものである。なお、この場合、スキージャンプの値
（ｓ）とロールオフの値（ｒ）との実測は、上述の表面
形状測定器（RANK TAYLOR HOBSON 社のTalysurf）を用
い、図９に示される方法で図１０及び図１１に示された
結果を得た場合の測定方法と同じ方法を用いた。

【００３２】また、磁気ヘッドによるフライングの可否
については、図８に示されるように、ガラス基板１を回
転させた状態で、磁気ヘッド２０の読取り面をガラス基
板１の主表面から０．１μｍ離して該磁気ヘッド２０を
基板１の内周側から外周側に繰り返し１０回移動させて
接触の有無を調べることによって行った。接触の有無
は、磁気デヘッドの読取り面に取り付けたピエゾ素子に
よって検出した。また、磁気ヘッド２０は、該磁気ヘッ
ド２０の外端部がガラス基板１の外周端面から１ｍｍ内
側に位置するところで静止させた。

【００３３】さらに、スクラッチ（クラックを伴うキズ
と、伴わないキズの両者を含む）のの検査は、ガラス基
板１に透過光をあて、顕微鏡でガラス基板１の全領域中
に残存するスクラッチの数を数えることによって行っ
た。

【００３４】そして、これらの結果の評価基準として
は、まず、磁気ヘッドによるフライングが４回以上でき
なかった場合は不適とした。また、スクラッチの数が１
１個以上観測されたものについても不適とした。図３で
は、この評価結果を下記の符号で示した。

【００３５】「適」の評価 ◎……１０回全てフライング可スクラッチなし ○……１０回全てフライング可スクラッチ１〜５個あり △₂……１０回全てフライング可スクラッチ５〜１０個あり △₁……１０回中１〜３回フライング不可スクラッチなし「不適」の評価 ×₁……１０回中４回以上フライング不可スクラッチなし ×₂……１０回全てフライング可スクラッチ１１個以上あり図３から、明らかなように、Ｐｔの値が１０００＜Ｐｔ
＜１５０００であれば、フライングに多少の不安が残
り、また、ガラス基板主表面にスクラッチが多少残存す
るが、実用的に問題ない範囲にあり、また、Ｐｔの値が
３０００＜Ｐｔ＜１００００（◎の場合）のときは、ス
キージャンプの値が０．３μｍ以下で、ロールオフの値
も０．５μｍとなり、スキージャンプの値が十分に低い
とともに、ロールオフの値が小さいことからそのスキー
ジャンプの頂点の位置も外周端部寄りに位置することに
なるので、フライングに支障をきたすおそれがさらに完
全になくなる。さらに、この場合には、スクラッチもほ
ぼ完全に除去されているので、高密度の記録を高品質で
行うことが可能となる。

【００３６】（磁気ディスクの製造方法の一実施例）次
に、上述の一実施例にかかる磁気ディスク用ガラス基板
の製造方法によって得られたガラス基板を用いて磁気デ
ィスクを製造する方法の一実施例を説明する。まず、
上述の一実施例にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製
造方法によって得られたガラス基板の表面を、イオン交
換によって表面部にあるＮａイオンをＫイオンに置換
し、化学強化する。

【００３７】次に、上記ガラス基板の一主表面に、Ｃｒ
膜（厚さ；１８００オングストローム）、ＣｒーＣｏー
Ｎｉ合金膜（同１０００オングストローム）、ＳｉＯ₂
膜（同１０００オングストローム）を順次スパッタリン
グにより成膜して磁気ディスクを得る。

【００３８】こうして得られた磁気ディスクにおいて、
ＣｒーＣｏーＮｉ合金膜が磁性膜であり、その下地層た
るＣｒ膜は磁性膜の磁気特性を向上させる下地膜であ
り、さらに、ＳｉＯ₂膜は保護膜である。

【００３９】この磁気ディスクについて、上述の実施例
の場合と同様の磁気ヘッドのフライングテストを行った
ところ、磁気ヘッドと保護膜との接触は全く認められな
かった。

【００４０】また、この実施例による磁気ディスクと、
図１０に示されるような、従来の方法で製造した磁気デ
ィスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクとでは、磁気
ヘッドがフライングできる距離が約１ｍｍ異なることに
なる。これによる記憶容量の違いは約４％程度に相当す
る。さらに、磁性膜の下地となるガラス基板の主表面の
スクラッチが少ないので、情報の記録または読み出しの
際に誤差が生ずるおそれを防止できる。

【００４１】なお、上述の各実施例においては、ガラス
基板を構成するガラス素材としてアルミノシリケートガ
ラスを用いた例をかかげたが、これは、ソーライムガラ
ス、石英ガラス等の他のガラス素材を用いてもよい。

【００４２】また、磁気ディスクを製造する際の化学強
化は必ずしも施さなくてもよい。

【００４３】さらに、第１研磨工程で使用する硬質ポリ
シャの硬度は８０〜９５（ＪＩＳＫ６３０１Ａ型）で
あり、第２研磨で使用する軟質ポリシャの硬度は６０〜
８０（ＪＩＳＫ６３０１Ａ型）程度が目安であり、
軟質ポリシャとしては、スウェード、ベロアを素材とす
るものが、また、硬質ポリシャとしては、硬質ベロア、
ウレタン発砲、ピッチ含浸スウェード等を使用すること
ができる。

【００４４】また、第１及び第２研磨工程で使用できる
研磨剤としては、他に、酸化ジルコン、コロイダルシリ
カ等が使用できる。

【００４５】研磨方法は、両面研磨でなく、片面研磨で
もよく、ピッチポリシングあるいはフロートポリシング
等の手法を用いてもよい。

【００４６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明にかかる磁
気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造方法並
びに磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、研
磨加工工程におけるファイナル研磨たる第２研磨を施す
際の研磨加工圧力Ｐ（ｇ／ｃｍ²）と研磨加工時間ｔ
（ｍｉｎ）との積Ｐｔの値が、１０００＜Ｐｔ＜１５０
００の範囲になるようにこれら研磨加工圧力Ｐと研磨加
工時間ｔとを選定したことを特徴とするもので、これに
より、高密度記録が可能な程度に十分な平滑度を有し、
かつ、記録エリアを周縁にまで拡大することを可能とす
る磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得るこ
とを可能としたものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１及び第２研磨工程説明図である。

【図２】砂掛け加工工程説明図である。

【図３】研磨加工後の測定値及び評価示す図である。

【図４】研磨加工後の主表面のプロフィールの側定例を
示す図である。

【図５】研磨加工後の主表面のプロフィールの側定例を
示す図である。

【図６】スキージャンプと加工圧力及び加工時間との関
係を示す図である。

【図７】ロールオフと加工圧力及び加工時間との関係を
示す図である。

【図８】磁気ヘッドとの接触状態測定説明図である。

【図９】ガラス基板の直径方向の真直精度測定説明図で
ある。

【図１０】従来の第２研磨工程後のガラス基板の周縁部
の測定結果を示す図である。

【図１１】従来の第１研磨工程後のガラス基板の周縁部
の測定結果を示す図である。

【符号の説明】

１…ガラス基板、２…キャリア、３…下側定盤、４…上
側定盤、５…ポリシャ、６…内側ギア、７…外側ギア、
９…アルミナ砥粒、９ａ…研磨液、１０，１１…ラップ
盤。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円板状ガラス基板の主表面に、研削、硬
質ポリシャを使用する第１研磨及び軟質ポリシャを使用
する第２研磨を順次施して前記主表面を鏡面にする磁気
ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記第２研磨を施す際の研磨加工圧力Ｐ（ｇ／ｃｍ²）
と研磨加工時間ｔ（ｍｉｎ）との積Ｐｔの値が、１００
０＜Ｐｔ＜１５０００の範囲になるようにこれら研磨加
工圧力Ｐと研磨加工時間ｔとを選定したことを特徴とす
る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス
基板の製造方法において、前記第２研磨を施す際の研磨加工圧力Ｐ（ｇ／ｃｍ²）
の値がＰ＜３００であり、と研磨加工時間ｔ（ｍｉｎ）
の値が１５＜ｔ＜７５であるとともに、Ｐとｔとの積Ｐ
ｔの値が、３０００＜Ｐｔ＜１００００の範囲になるよ
うにこれら研磨加工圧力Ｐと研磨加工時間ｔとを選定し
たことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方
法。
【請求項３】請求項１または２に記載の磁気ディスク
用ガラス基板の製造方法によって製造した磁気ディスク
用ガラス基板であって、主表面の周縁部に形成された隆起部の最大高さが、該主
表面の他の平坦部を基準にして０．３５μｍ未満である
ことを特徴とした磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項４】請求項１または２に記載の磁気ディスク
用ガラス基板の製造方法によって製造した磁気ディスク
用ガラス基板の主表面に磁性膜を形成する工程を含む工
程を行うことにより、磁気ディスクを製造することを特
徴とした磁気ディスクの製造方法。
【請求項５】請求項３に記載の磁気ディスク用ガラス
基板の主表面上に磁性膜を含む膜が形成されてなること
を特徴とした磁気ディスク。