JPH0590132A - Ｘ線露光装置 - Google Patents
Ｘ線露光装置Info
- Publication number
- JPH0590132A JPH0590132A JP3248828A JP24882891A JPH0590132A JP H0590132 A JPH0590132 A JP H0590132A JP 3248828 A JP3248828 A JP 3248828A JP 24882891 A JP24882891 A JP 24882891A JP H0590132 A JPH0590132 A JP H0590132A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- load lock
- temperature
- wafer
- lock chamber
- exposure apparatus
- Prior art date
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
-
- G—PHYSICS
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- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精度かつ高スループットが得られるＸ線露
光装置を提供することを目的としている。 【構成】 Ｘ線露光装置本体とこの露光装置にウェハを
供給するウェハ供給部分に雰囲気に置換するロードロッ
ク室において、ロードロック室内の温度変化を測定する
温度検出素子１と、ロードロック室内の圧力を計る圧力
検出素子２とロードロック室に任意な温度のＨｅを供給
することのできる温度調節機能の付いたＨｅ供給部３
と、ＰＷＭで動作するＨｅ供給バルブ４と、同じくＰＷ
Ｍで動作する真空バルブ５と備えたことにより高精度か
つ高スループットが得られる。
光装置を提供することを目的としている。 【構成】 Ｘ線露光装置本体とこの露光装置にウェハを
供給するウェハ供給部分に雰囲気に置換するロードロッ
ク室において、ロードロック室内の温度変化を測定する
温度検出素子１と、ロードロック室内の圧力を計る圧力
検出素子２とロードロック室に任意な温度のＨｅを供給
することのできる温度調節機能の付いたＨｅ供給部３
と、ＰＷＭで動作するＨｅ供給バルブ４と、同じくＰＷ
Ｍで動作する真空バルブ５と備えたことにより高精度か
つ高スループットが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばシンクロトロン
放射光（以下ＳＲと略する）等のＸ線を用いて露光を行
うＸ線露光装置に関するものである。
放射光（以下ＳＲと略する）等のＸ線を用いて露光を行
うＸ線露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体露光装置の光源としてＳＲ
等のＸ線を利用することが注目されている。露光に用い
られるＸ線はふつう波長が１ｎｍ程度の軟Ｘ線である
が、この波長領域の軟Ｘ線は非常に激しく減衰するた
め、Ｘ線露光装置においてはＸ線の光路近傍あるいは装
置全体を密閉容器で密閉し、密閉容器内をＨｅ等Ｘ線を
通しやすい気体で満たして露光を行うことが一般的とな
っている。このためウェハの供給はロードロック方式を
採用し、ウェハをいれたカセットをロードロック室にセ
ットし、室内を一旦真空にした後、Ｈｅを供給するよう
な方法が取られている。ここでロードロック室を一旦真
空にする際、室内は断熱膨張がおこり、温度が低下す
る。ロードロック室中にあるウェハの温度も同じく低下
しするが、マスクに対して１：１のプロキシミティー露
光でマスクとウェハの相対位置を精密に合わせるために
は、ウェハの温度変化による熱変形を極力防ぐか、熱変
形したウェハが元に戻るまで十分な安定時間をとるかす
る必要がある。このため、図２に示すように、従来はロ
ードロック室内にヒータ２１を配し、断熱膨張によって
奪われる熱ヒータによって供給する方法が取られてい
た。
等のＸ線を利用することが注目されている。露光に用い
られるＸ線はふつう波長が１ｎｍ程度の軟Ｘ線である
が、この波長領域の軟Ｘ線は非常に激しく減衰するた
め、Ｘ線露光装置においてはＸ線の光路近傍あるいは装
置全体を密閉容器で密閉し、密閉容器内をＨｅ等Ｘ線を
通しやすい気体で満たして露光を行うことが一般的とな
っている。このためウェハの供給はロードロック方式を
採用し、ウェハをいれたカセットをロードロック室にセ
ットし、室内を一旦真空にした後、Ｈｅを供給するよう
な方法が取られている。ここでロードロック室を一旦真
空にする際、室内は断熱膨張がおこり、温度が低下す
る。ロードロック室中にあるウェハの温度も同じく低下
しするが、マスクに対して１：１のプロキシミティー露
光でマスクとウェハの相対位置を精密に合わせるために
は、ウェハの温度変化による熱変形を極力防ぐか、熱変
形したウェハが元に戻るまで十分な安定時間をとるかす
る必要がある。このため、図２に示すように、従来はロ
ードロック室内にヒータ２１を配し、断熱膨張によって
奪われる熱ヒータによって供給する方法が取られてい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図２に
示すような機構では、次のような問題点が生じていた。
すなわちまず、ロードロック室内が真空に近くなったと
き、熱を伝える媒体としての雰囲気がなくなり、ヒータ
から発生する熱はほとんどが伝熱の形で周囲の部材に影
響を与える。つまりロードロックのカセット内にセット
されたウェハは、ヒータからカセットを経てようやく伝
わることになる。したがってウェハ上にはなかなか熱が
伝わらず、伝わっても、温度の分布のむらが生じること
になる。また、ローダー，カセット，ウェハなど熱伝導
率が異なり、単にヒータを露光機本体の温度から決定さ
れる温度にしても、ウェハ上での温度は解からないとい
う問題があった。したがってマスクとウェハの重ね合わ
せ精度が上がらない、また温度安定のための時間が必要
になるなどの影響を与えていた。
示すような機構では、次のような問題点が生じていた。
すなわちまず、ロードロック室内が真空に近くなったと
き、熱を伝える媒体としての雰囲気がなくなり、ヒータ
から発生する熱はほとんどが伝熱の形で周囲の部材に影
響を与える。つまりロードロックのカセット内にセット
されたウェハは、ヒータからカセットを経てようやく伝
わることになる。したがってウェハ上にはなかなか熱が
伝わらず、伝わっても、温度の分布のむらが生じること
になる。また、ローダー，カセット，ウェハなど熱伝導
率が異なり、単にヒータを露光機本体の温度から決定さ
れる温度にしても、ウェハ上での温度は解からないとい
う問題があった。したがってマスクとウェハの重ね合わ
せ精度が上がらない、また温度安定のための時間が必要
になるなどの影響を与えていた。
【０００４】上記課題を解決するために、本発明はまず
熱の供給をＨｅからおこなう方法に変え、ロードロック
室内の温度と圧力によって、真空バルブおよびＨｅ導入
バルブの開閉を自在にし、ロードロック室内のウェハの
温度変化を極力抑える機能を持つＸ線露光装置のロード
ロック室を提供するものである。
熱の供給をＨｅからおこなう方法に変え、ロードロック
室内の温度と圧力によって、真空バルブおよびＨｅ導入
バルブの開閉を自在にし、ロードロック室内のウェハの
温度変化を極力抑える機能を持つＸ線露光装置のロード
ロック室を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のＸ線露光装置のロードロック室は、温度検
出素子と、圧力検出素子と、温度調節機能の付いたＨｅ
供給部と、Ｈｅを前記Ｈｅ供給部からロードロック室に
導入する、ＰＷＭで動作可能なバルブと、同じくＰＷＭ
で動作可能な真空バルブとを備えたことを特徴としてい
る。
に、本発明のＸ線露光装置のロードロック室は、温度検
出素子と、圧力検出素子と、温度調節機能の付いたＨｅ
供給部と、Ｈｅを前記Ｈｅ供給部からロードロック室に
導入する、ＰＷＭで動作可能なバルブと、同じくＰＷＭ
で動作可能な真空バルブとを備えたことを特徴としてい
る。
【０００６】
【作用】以下、図３を用いてこの作用を説明する。図３
は本発明のＸ線露光装置のロードロック部分の簡略図で
あり、３０がロードロックチャンバ、３１はロードロッ
ク圧力検出素子、３２がローダ、３３がカセット、３４
がウェハである。さらに３５は温度検出用に装着したダ
ミーウェハ、３６はダミーウェハ上につけられた温度検
出素子である。また３７はロードロック室に任意な温度
のＨｅを供給する部分であり、３８はそのためのＰＷＭ
で駆動されるバルブ、３９は同じくＰＷＭで駆動される
真空バルブである。真空引きをおこなうと、室内は断熱
膨張によって温度が低下するが、このとき、３９の真空
バルブのＰＷＭのデューティー比をさげ、代わりに３８
のＨｅ供給バルブのデューティー比を上げることによ
り、真空引きされるよりも流量は少なく、高温のＨｅを
供給することができ、これにより、断熱膨張による温度
低下が軽減される。バルブ３８から供給されるＨｅの熱
量は、真空バルブ３９とＨｅ供給バルブ３８のデューテ
ィー比で決まるが、この値を３１からのロードロック室
の圧力と、３６のダミーウェハ上の温度から決定するこ
とも可能で、この場合、置換動作を等温置換することさ
え可能となる。
は本発明のＸ線露光装置のロードロック部分の簡略図で
あり、３０がロードロックチャンバ、３１はロードロッ
ク圧力検出素子、３２がローダ、３３がカセット、３４
がウェハである。さらに３５は温度検出用に装着したダ
ミーウェハ、３６はダミーウェハ上につけられた温度検
出素子である。また３７はロードロック室に任意な温度
のＨｅを供給する部分であり、３８はそのためのＰＷＭ
で駆動されるバルブ、３９は同じくＰＷＭで駆動される
真空バルブである。真空引きをおこなうと、室内は断熱
膨張によって温度が低下するが、このとき、３９の真空
バルブのＰＷＭのデューティー比をさげ、代わりに３８
のＨｅ供給バルブのデューティー比を上げることによ
り、真空引きされるよりも流量は少なく、高温のＨｅを
供給することができ、これにより、断熱膨張による温度
低下が軽減される。バルブ３８から供給されるＨｅの熱
量は、真空バルブ３９とＨｅ供給バルブ３８のデューテ
ィー比で決まるが、この値を３１からのロードロック室
の圧力と、３６のダミーウェハ上の温度から決定するこ
とも可能で、この場合、置換動作を等温置換することさ
え可能となる。
【０００７】以上のように本発明は上記した構成によっ
て、断熱膨張による温度低下を軽減でき、かつウェハを
均一に温度変化させることがでる。さらにウェハ温度を
正確に計測でき、ウェハ上の温度が本体と異なっていて
もこれを最小の時間で同じにすることも可能である。
て、断熱膨張による温度低下を軽減でき、かつウェハを
均一に温度変化させることがでる。さらにウェハ温度を
正確に計測でき、ウェハ上の温度が本体と異なっていて
もこれを最小の時間で同じにすることも可能である。
【０００８】
【実施例】以下本発明の一実施例のＸ線露光装置のロー
ドロックについて、図面を参照しながら説明する。
ドロックについて、図面を参照しながら説明する。
【０００９】図１は本発明の第１の実施例におけるＸ線
露光装置である。図１において、１は温度測定素子（こ
の場合測温抵抗素子ＰＴ−１００）、２は圧力センサー
である。また３は温度調節が可能なＨｅ供給部であり、
４はＰＷＭで動作可能なＨｅ導入バルブ、５は同じくＰ
ＷＭで動作可能な真空バルブである。さらに６はウェハ
カセット、７はウェハ、８はローダ、９はローダベー
ス、１０はロードロックの外壁である。以上の様に構成
されたロードロック室について、以下、そのＨｅ置換時
の動作について説明する。
露光装置である。図１において、１は温度測定素子（こ
の場合測温抵抗素子ＰＴ−１００）、２は圧力センサー
である。また３は温度調節が可能なＨｅ供給部であり、
４はＰＷＭで動作可能なＨｅ導入バルブ、５は同じくＰ
ＷＭで動作可能な真空バルブである。さらに６はウェハ
カセット、７はウェハ、８はローダ、９はローダベー
ス、１０はロードロックの外壁である。以上の様に構成
されたロードロック室について、以下、そのＨｅ置換時
の動作について説明する。
【００１０】まず、Ｈｅ置換するときは真空バルブ５を
開放する。すなわちＰＷＭのデューティー比を上げる。
するとロードロック室内の圧力は下がり、断熱膨張によ
って温度もさがる。ここで、ロードロック室の温度の低
下に伴い、供給するＨｅの温度を上げ、ロードロック室
の圧力の低下に伴って、Ｈｅ供給バルブのＰＷＭのデュ
ーティー比を上げ、同時に真空バルブのＰＷＭのデュー
ティー比を下げることにすると、ロードロックの室内は
一時的に圧力の減少が緩やかになり、室内の温度も上昇
する。これによって、ロードロック室内のウェハの温度
変化を極力おさえることは可能で、ウェハの温度との差
と供給するＨｅ温度の関係および、バルブを開ける圧
力、デューティー比など実験により最適な条件を求めて
おけば、この置換時の真空引きのときほぼ等温変化をさ
せることも不可能ではない。
開放する。すなわちＰＷＭのデューティー比を上げる。
するとロードロック室内の圧力は下がり、断熱膨張によ
って温度もさがる。ここで、ロードロック室の温度の低
下に伴い、供給するＨｅの温度を上げ、ロードロック室
の圧力の低下に伴って、Ｈｅ供給バルブのＰＷＭのデュ
ーティー比を上げ、同時に真空バルブのＰＷＭのデュー
ティー比を下げることにすると、ロードロックの室内は
一時的に圧力の減少が緩やかになり、室内の温度も上昇
する。これによって、ロードロック室内のウェハの温度
変化を極力おさえることは可能で、ウェハの温度との差
と供給するＨｅ温度の関係および、バルブを開ける圧
力、デューティー比など実験により最適な条件を求めて
おけば、この置換時の真空引きのときほぼ等温変化をさ
せることも不可能ではない。
【００１１】以上のように本実施例によれば、ロードロ
ック室内に、温度検出素子と、圧力検出素子と、任意な
温度にＨｅの温度を設定できる温度調節機能の付いたＨ
ｅ供給部と、ＰＷＭで動作するＨｅ導入バルブと、同じ
くＰＷＭで動作する真空バルブを備え、Ｈｅ導入バルブ
と真空バルブのＰＷＭのデューティー比を、ロードロッ
ク室内の温度と圧力とによって、変えることにより、ロ
ードロック内のウェハ上の温度変化を極力抑えることが
できるロードロックを提供することができる。
ック室内に、温度検出素子と、圧力検出素子と、任意な
温度にＨｅの温度を設定できる温度調節機能の付いたＨ
ｅ供給部と、ＰＷＭで動作するＨｅ導入バルブと、同じ
くＰＷＭで動作する真空バルブを備え、Ｈｅ導入バルブ
と真空バルブのＰＷＭのデューティー比を、ロードロッ
ク室内の温度と圧力とによって、変えることにより、ロ
ードロック内のウェハ上の温度変化を極力抑えることが
できるロードロックを提供することができる。
【００１２】
【発明の効果】以上のように本発明は、ウェハロードロ
ックの置換時にウェハの温度変化を少なく制御できるの
で、温度の変化によるマスクとウェハの重ね合わせ精度
の劣化を防止でき、また温度安定のための時間を少なく
することができるため、Ｘ線露光機として、高精度かつ
高スループットが望める。
ックの置換時にウェハの温度変化を少なく制御できるの
で、温度の変化によるマスクとウェハの重ね合わせ精度
の劣化を防止でき、また温度安定のための時間を少なく
することができるため、Ｘ線露光機として、高精度かつ
高スループットが望める。
【図１】本発明の一実施例におけるロードロック装置の
構成図
構成図
【図２】従来のロードロック装置の構成図
【図３】本発明のロードロック簡略構成図
１ 温度測定素子 ２ 圧力センサ ３ 温度調節が可能なＨｅの供給部 ４ Ｈｅ導入バルブ ５ 真空バルブ ６ ウェハカセット ７ ウェハ ８ ローダ ９ ローダベース １０ ロードロック外壁 ２０ ロードロック外壁 ２１ ヒータ ２２ ウェハカセット ２３ ウェハ ２４ 空気供給部 ２５ Ｈｅ供給部 ２６ 真空引きバルブ ２７ ローダ ２８ ローダベース ２９ メインチャンバ ３０ ロードロック室外壁 ３１ 圧力センサ ３２ ローダ ３３ ウェハカセット ３４ ウェハ ３５ ダミーウェハ ３６ 温度検出素子 ３７ 温度調節付きＨｅ供給部 ３８ Ｈｅ導入バルブ ３９ 真空バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｘ線露光装置本体にウェハを供給するウ
ェハ供給部分として、雰囲気を置換する機能を持つロー
ドロック室を配置したＸ線露光装置において、このロー
ドロック室内に、温度検出素子と、圧力検出素子と、温
度調節機能の付いたＨｅ供給部と、Ｈｅを前記Ｈｅ供給
部からロードロック室に導入する、パルス幅変調（以後
ＰＷＭと略す）で動作可能なバルブと、同じくＰＷＭで
動作可能な真空バルブとを備えたことを特徴とするＸ線
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3248828A JPH0590132A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3248828A JPH0590132A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Ｘ線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0590132A true JPH0590132A (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17184030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3248828A Pending JPH0590132A (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0590132A (ja) |
-
1991
- 1991-09-27 JP JP3248828A patent/JPH0590132A/ja active Pending
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