JPH0592534A

JPH0592534A - 積層二軸配向ポリエステルフイルム

Info

Publication number: JPH0592534A
Application number: JP27633791A
Authority: JP
Inventors: Sumio Kato; 純生加藤; Makoto Iida; 真飯田; Shigeyoshi Masuda; 重嘉升田
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1991-09-30
Filing date: 1991-09-30
Publication date: 1993-04-16
Anticipated expiration: 2012-08-20
Also published as: JP2642549B2

Abstract

(57)【要約】【目的】耐削れ性に優れ、過酷な磁気テープ製造条件で
も優れた電磁変換特性を有する積層二軸配向ポリエステ
ルフイルムを提供する。【構成】二軸配向されたポリエステルフイルムの少なく
とも片面に、面積円相当径の平均粒径が０．１〜２μｍ
であり、粒径比（長径／短径）が１．５〜１０でありか
つ相対標準偏差が０．５以下である紡錘状炭酸カルシウ
ム粒子を０．２〜８重量％含有するポリエステルよりな
り、そして層の厚みが前記粒径の０．１〜２倍である層
を積層させていることを特徴とする積層二軸配向ポリエ
ステルフイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は二軸配向ポリエステルフ
イルムに関し、更に詳しくはフイルム表面の微細突起が
揃って表面粗れが均一であり、滑り性、耐削れ性、耐ス
クラッチ性に優れ、特に磁気記録媒体のベースフイルム
として有用な積層二軸配向ポリエステルフイルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレンテレフタレートフイルムに
代表される二軸配向ポリエステルフイルムは、その優れ
た物理的、化学的特性の故に、磁気記録媒体例えば磁気
テープ、フロッピーディスク等のベースフイルムとして
用いられている。

【０００３】かかる二軸配向ポリエステルフイルムにお
いては、その滑り性や耐削れ性がフイルムの製造工程お
よび各用途における加工工程の作業性の良否、さらには
その製品品質の良否を左右する大きな要因となってい
る。これらが不足すると、例えばポリエステルフイルム
表面に磁性層を塗布し、磁気テープとして用いる場合に
は、磁性層塗布時におけるコーティングとフイルム表面
との摩擦が激しく、またこれによるフイルム表面の摩耗
も激しく、極端な場合にはフイルム表面へのしわ、擦り
傷等が発生する。

【０００４】また磁性層塗布後のフイルムをスリットし
てオーディオ、ビデオまたはコンピュータ用テープ等に
加工した後でも、リールやカセット等からの引き出し、
巻き上げその他の操作の際に、多くのガイド部、再生ヘ
ッド等との間で摩耗が著しく生じ、擦り傷、歪の発生、
さらにはポリエステルフイルム表面削れ等による白粉状
物質を析出させる結果、磁気記録信号の欠落、即ちドロ
ップアウトの大きな原因となることが多い。

【０００５】一般にフイルムの滑り性の改良には、フイ
ルム表面凹凸を付与することによりガイドロール等との
間の接触面積を減少せしめる方法が採用されており、大
別して(i) 原料ポリマー中にその製造過程で触媒残渣か
ら不活性の微粒子を析出せしめる方法と、(ii)不活性の
無機微粒子を添加せしめる方法が用いられている。これ
ら原料ポリマー中の微粒子は、その大きさが大きい程、
滑り性の改良が大であるのが一般的である。

【０００６】一方、磁気記録媒体特に高密度磁気記録テ
ープあるいは高感度フロッピーディスクにおいては、電
磁変換特性の向上の点から、ベースフイルムの表面はで
きるだけ平坦であることが求められている。しかし、フ
イルム表面が平坦になると、上述のように、フイルムの
滑り性が悪くなり、種々のトラブルを惹起するようにな
る。

【０００７】そこで、磁気記録媒体用フイルムには、こ
れら相反する特性を同時に満足すべき要求がなされてい
る。

【０００８】かかる要求を同時に満足させる目的で、片
面が平坦、他の片面が粗面で易滑というような表面粗さ
が表裏で異る表裏異面フイルムを用いる方法が提案され
ている。そして、このフイルムの平坦面に磁性層を設
け、粗面をフイルム走行面とすると、電磁変換特性の向
上の点から平坦性、フイルム走行性の点からの滑り性を
兼ね備えることが可能となり、磁気記録媒体用フイルム
としてより良い方向のものが得られるようになる。

【０００９】しかしながら、これらの手段にも解決すべ
き問題があり、そのままでは磁気記録媒体の高級グレー
ド化、高密度化等の要求に応じることが難しい。

【００１０】上述した不活性微粒子を用いて粗面化する
方法の問題は、該微粒子の個々の大きさにバラツキがあ
り、粒子径に分布のあることが主たる要因と考えられ
る。そしてこの粒径分布が大きく（広く）なると大粒子
に基ずく粗大突起がフイルム面上に存在するようにな
り、これが加工時に削れを引き起したり、また加工後の
磁気テープとしての走行時にも擦り傷、削れ粉を発生さ
せたりしてドロップアウトが多くなり、また電磁変換特
性も悪くなり、望ましくない。

【００１１】そこで、かかる点を改善する目的で、二軸
配向フイルムの少なくとも片面に、粒子径のバラツキの
小さい不活性球状粒子を含有する熱可塑性ポリマーより
なる薄層を積層させてなる積層二軸配向フイルムが提案
されている（特開平２―２１４６５７号）。この積層二
軸配向フイルムは電磁変換特性に優れ、滑り性や、ビデ
オ、オーディオ用テープとした時、金属ピン、プラスチ
ックピンとの繰返し走行後の摩擦の上昇が少なく、かつ
ドロップアウトも増加せず良好な特性を示す。しかし、
近年のテープ製造工程の高速化の中でカレンダーやコー
ターの条件が厳しくなり、前記積層二軸配向フイルムで
は薄層中の球状粒子が工程内で脱落し、結果として製品
のドロップアウトが多くなるという問題が生じてきた。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、この問
題を解決すべく鋭意研究を進めた結果、この問題の解決
には薄層中の粒子形状及び該粒子形状に起因する突起形
状を適性化する事が肝要であることを見出し、本発明に
到達した。

【００１３】従って、本発明の目的は、薄層中の粒子形
状に起因する特定の突起形状を持ち、かつ突起高さが揃
っており、滑り性、耐削れ性に優れ、磁気記録媒体用と
して用いた時電磁変換特性に優れ、ドロップアウトの少
ない製品を製造することができる積層二軸配向ポリエス
テルフイルムを提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、次の構成をとる。

【００１５】二軸配向されたポリエステルフイルムの少
なくとも片面に、面積円相当径の平均粒径が０．１〜２
μｍであり、粒径比（長径／短径）が１．５〜１０であ
りかつ下記式で表わされる相対標準偏差が０．５以下で
ある紡錘状炭酸カルシウム粒子を０．２〜８重量％含有
するポリエステルよりなり、そして層の厚みが前記粒径
の０．１〜２倍である層を積層させていることを特徴と
する積層二軸配向ポリエステルフイルム。

【００１６】

【数２】

【００１７】本発明におけるポリエステルとは、芳香族
ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを
主たるグリコール成分とするポリエステルである。かか
るポリエステルは実質的に線状であり、そしてフイルム
形成性特に溶融成形によるフイルム形成性を有する。芳
香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフ
タレンジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェノキシエタ
ンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニル
エーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカ
ルボン酸等を挙げることができる。脂肪族グリコールと
しては、例えばエチレングリコール、トリメチレングリ
コール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレング
リコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレング
リコール等の如き炭素数２〜１０のポリメチレングリコ
ールあるいはシクロヘキサンジメタノールの如き脂環族
ジオール等を挙げることができる。

【００１８】本発明において、ポリエステルとしては例
えばアルキレンテレフタレートおよび／又はアルキレン
ナフタレートを主たる構成成分とするものが好ましく用
いられる。

【００１９】かかるポリエステルのうちでも特にポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタ
レートはもちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の
８０モル％以上がテレフタル酸および／又は２，６―ナ
フタレンジカルボン酸であり、全グリコール成分の８０
モル％以上がエチレングリコールである共重合体が好ま
しい。その際全酸成分の２０モル％以下はテレフタル酸
および／又は２，６―ナフタレンジカルボン酸以外の上
記芳香族ジカルボン酸であることができ、また例えばア
ジピン酸、セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シ
クロヘキサン―１，４―ジカルボン酸の如き脂環族ジカ
ルボン酸等であることができる。また、全グリコール成
分の２０モル％以下は、エチレングリコール以外の上記
グリコールであることができ、あるいは例えばハイドロ
キノン、レゾルシン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフ
ェニル）プロパン等の如き芳香族ジオール；１，４―ジ
ヒドロキシジメチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪
族ジオール；ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリテトラメチレングリコール等の如きポ
リアルキレングリコール（ポリオキシアルキレングリコ
ール）等であることもできる。

【００２０】また、本発明におけるポリエステルには、
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシ
カルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分および
オキシカルボン酸成分の総量に対し２０モル％以下で共
重合あるいは結合するものも包含される。

【００２１】さらに本発明におけるポリエステルには、
実質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し２
モル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン酸又はポ
リヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエ
リスリトール等を共重合したものも包含される。

【００２２】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。

【００２３】上記ポリエステルとしては、ｏ―クロロフ
ェノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘
度が約０．４〜約０．９のものが好ましい。

【００２４】本発明における積層二軸配向ポリエステル
フイルムは、少なくとも二層より構成される。二層のポ
リエステルは同じものでも違ったものでもよいが、同じ
ものが好ましい。

【００２５】本発明において積層二軸配向ポリエステル
フイルムの少なくとも片面を形成するポリエステル層
は、面積円相当径の平均粒径が０．１〜２μｍであり、
粒径比（長径／短径）が１．５〜１０でありかつ相対標
準偏差が０．５以下である紡錘状炭酸カルシウム粒子を
０．２〜８重量％含有することが必要である。この平均
粒径が０．１μｍ未満では、突起高さが不十分であり、
フイルムの滑り性が不十分で好ましくない。他方この平
均粒径が２μｍを越えると、フイルムの表面が粗くなり
すぎ、磁気記録媒体を製造する時磁性面にこのフイルム
の粗さが転写して電磁変換特性の低下を生じ好ましくな
い。より好ましい平均粒径は０．２〜１．２μｍであ
る。また、前記粒子の粒径比が１．５未満では、フイル
ムの延伸方向に粒子が応力緩和を示さず、粒子周辺にボ
イドが発生しやすくなったり、形成される突起がシャー
プになりすぎ、テープ製造工程で粒子が脱落しやすい等
の問題があり好ましくない。他方、この粒径比が１０を
越えると、フイルムの滑り性が低下し、削れ粉が発生し
やすくなり好ましくない。さらにまた、粒子の粒径の相
対標準偏差は０．５以下、より好ましくは０．４以下で
ある。相対標準偏差が０．５を越えると、突起の高さが
不ぞろいになり、削れ粉が発生しやすくなったり、磁気
記録媒体用として用いた時電磁変換特性の低下につなが
るので好ましくない。さらにまた添加量が０．２重量％
未満では、前記層のフイルム表面に形成される突起数が
不充分になり、滑り性が不足するので好ましくない。他
方、添加量が８重量％より多くなると、該層内での粒子
の重なりが顕著になり、結果としてフイルム表面に形成
される突起が不ぞろいになり好ましくない。好ましい添
加量範囲は０．３〜５重量％、より好ましい添加量範囲
は０．４〜３重量％である。

【００２６】本発明において用いる紡錘状炭酸カルシウ
ムの製法としては、炭酸ガス吹き込み法、塩の複分解
法、アンモニア共存下で塩化カルシウムと炭酸水素ナト
リウムの反応による製法等が挙げられる。例えば、水酸
化カルシウムスラリーに炭酸ガスを吹き込み、炭酸化率
が６０〜７０％で該スラリーに水溶性多糖類もしくは硫
酸塩等を添加した後、炭酸化率が実質的に１００％とな
るまで炭酸化を行うことにより得られるが、上記の条件
を満足する紡錘状炭酸カルシウムであれば、その製法に
限定されない。

【００２７】また、紡錘状炭酸カルシウムの結晶形態と
しては、カルサイト、アラゴナイト、バテライト等が挙
げられるが、これらの中でもバテライト炭酸カルシウム
がより好ましく用いられる。

【００２８】これらの紡錘状炭酸カルシウムは、各種の
表面処理剤でその表面が変性されていてもよい。エチレ
ングリコールやポリエステルとの親和性を改良する目的
で用いられる表面処理剤は、一般に、粒子に対して５重
量％以下の量を適用されるが、その例として、例えばシ
ランカップリング剤やチタンカップリング剤、ポリアク
リル酸等を挙げることができる。

【００２９】本発明においては、上述の紡錘状炭酸カル
シウム粒子以外に他の不活性粒子を紡錘状炭酸カルシウ
ム粒子の特性を損わない範囲内で含有させることができ
る。但し、紡錘状炭酸カルシウム粒子以外の他の不活性
粒子の量が多くなると耐削れ性が悪くなり好ましくな
い。この意味から、他の不活性粒子の量は、粒子総量に
対し、好ましくは２５重量％以下、特に好ましくは１０
重量％以下である。

【００３０】かかる不活性粒子としては、(1) 二酸化ケ
イ素（水和物，ケイ藻土，ケイ砂，石英等を含む）；
(2) アルミナ；(3) ＳｉＯ₂分を３０重量％以上含有す
るケイ酸塩（例えば非晶質あるいは結晶質の粘土鉱物，
アルミノシリケート（焼成物や水和物を含む），温石
綿，ジルコン，フライアッシュ等）；(4) Ｍｇ，Ｚｎ，
Ｚｒ，及びＴｉの酸化物；(5) Ｃａ，及びＢａの硫酸
塩；(6) Ｌｉ，Ｂａ，及びＣａのリン酸塩（１水素塩や
２水素塩を含む）；(7) Ｌｉ，Ｎａ，及びＫの安息香酸
塩；(8) ；Ｃａ，Ｂａ，Ｚｎ，及びＭｎのテレフタル酸
塩；(9) Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｐｂ，Ｓｒ，
Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，及びＮｉのチタン酸塩；(10)Ｂａ，
及びＰｂのクロム酸塩；(11)炭素（例えばカーボンブラ
ック，グラファイト等）；(12)ガラス（例えばガラス
粉，ガラスビーズ等）；(13)Ｍｇの炭酸塩；(14)Ｃａの
炭酸塩（但し、紡錘状のものを除く）；(15)ホタル石；
(16)ＺｎＳ；及び(17)耐熱性高分子粒子（例えば、シリ
コーン樹脂粒子，架橋アクリル粒子，架橋ポリスチレン
粒子，架橋ポリエステル粒子，テフロン粒子，ポリイミ
ド粒子，メラミン樹脂粒子等）；等が例示される。

【００３１】本発明の積層二軸配向ポリエステルフイル
ムは二層以上の積層構造をとり、最外層の少なくとも一
つは前記紡錘状炭酸カルシウム粒子を含有するポリエス
テルよりなる。この積層二軸配向ポリエステルフイルム
を構成する他のフイルム層には、不活性粒子を含有させ
てもよいし、含有させなくてもよい。ただし、不活性粒
子を含有させる場合、その不活性粒子の粒径、添加量は
紡錘状炭酸カルシウム粒子を含有する層の表面性に対
し、突起高さが低く、平坦になるように選ぶのが好まし
い。

【００３２】積層二軸配向ポリエステルフイルムにおい
て、紡錘状炭酸カルシウム粒子を含有するフイルム層の
厚みは、含有する紡錘状炭酸カルシウム粒子の平均粒径
の０．１〜２倍であることが必要である。該層の厚みが
粒径の０．１倍未満では、含有する粒子が脱落しやすく
なり好ましくない。他方粒径の２倍を越えると、該層に
含まれる粒子の重なりが生じやすくなり、フイルム表面
に形成される突起高さが不ぞろいとなり好ましくない。
好ましい層厚みは含有する粒子の平均粒径の０．２〜
１．５倍、より好ましい層厚みは含有する粒子の平均粒
径の０．３〜１．０倍である。

【００３３】本発明の積層二軸配向ポリエステルフイル
ムは、従来から知られている、あるいは当業界に蓄積さ
れている方法で得ることができる。例えば、先ず積層未
配向フイルムを製造し、次いで該フイルムを二軸配向さ
せることで得ることができる。この積層未配向フイルム
は、従来から蓄積された積層フイルムの製造法で製造す
ることができる。例えば、表面を形成するフイルム層
と、芯層を形成するフイルム層とを、ポリエステルの熔
融状態または冷却固化された状態で積層する方法を用い
ることができる。さらに具体的には、例えば共押出・エ
クストルージョンラミネート等の方法で製造できる。

【００３４】上述の方法で積層されたフイルムは、更に
従来から蓄積された二軸配向フイルムの製造法に準じて
行ない、二軸配向フイルムとすることができる。例え
ば、融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７０）℃の温度で
ポリエステルを溶融・共押出して固有粘度０．３５〜
０．９dl／ｇの積層未延伸フイルムを得、該積層未延伸
フイルムを一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１
０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエス
テルのガラス転移温度）で２．５〜５．０倍の倍率で延
伸し、次いで上記延伸方向と直角方向（一段目延伸が縦
方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）にＴｇ
（℃）−（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜５．０倍の
倍率で延伸することで製造できる。この場合、面積延伸
倍率は９〜２２倍、更には１２〜２２倍にするのが好ま
しい。延伸手段は同時二軸延伸、逐次二軸延伸のいずれ
でも良い。

【００３５】更に、二軸配向フイルムは、（Ｔｇ＋７
０）℃〜Ｔｍ（℃）の温度で熱固定することができる。
例えばポリエチレンテレフタレートフイルムについては
１９０〜２３０℃で熱固定することが好ましい。熱固定
時間は例えば１〜６０秒である。本発明の積層二軸配
向ポリエステルフイルムは、従来のものに比べ、フイル
ム表面に高い突起がなく、磁気記録媒体として用いたと
き磁性面を粗すことが少なく、優れた電磁変換特性を有
するとともに、滑り性に優れかつテープ製造工程での過
酷な使用条件にも耐えうる特徴をもっている。

【００３６】なお、本発明における種々の物性値および
特性は、以下の如く測定されたものであり、かつ定義さ
れる。（１）紡錘状炭酸カルシウム粒子の面積円相当径、粒径
比等粒子の面積円相当径、粒径比等の測定には次の手法
がある。１）粉体から、面積円相当径の平均粒径、粒径比等を求
める場合２）フイルム中粒子の面積円相当径の平均粒径、粒径比
等を求める場合。

【００３７】１）粉体からの場合電子顕微鏡試料台上に粉体を個々の粒子ができるだけ重
ならないように散在させ、金スパッター装置により、こ
の表面に金薄膜蒸着層を厚み２００〜３００オングスト
ロームで形成し、走査型電子顕微鏡にて、例えば１００
００〜３００００倍で観察し、日本レギュレーター
（株）製ルーゼックス５００にて、少なくとも１００個
の粒子の長径、短径、及び面積円相当径を求める。そし
て、これらの値から平均粒径、粒径比を算出する。

【００３８】２）フイルム中粒子からの場合試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定
し、日本電子（株）製スパッターリング装置（ＪＦＣ―
１１００型イオンエッチング装置）を用いてフイルム表
面に下記条件にてイオンエッチング処理を施す。条件
は、ベルジャー内に試料を設置し、約１０^-3Ｔｏｒｒの
真空状態まで真空度を上げ、電圧０．２５ｋＶ、電流１
２．５ｍＡにて約１０分間イオンエッチングを実施す
る。更に同装置にてフイルム表面に金スパッターを施
し、走査型電子顕微鏡にて１００００〜３００００倍で
観察し、１）と同様に平均粒径、粒径比を算出する。（２）フイルム表面の平坦性Ｒａ（中心線平均粗さ）をＪＩＳＢ０６０１に準じ
て測定する。東京精密社（株）製の触針式表面粗さ計
（SURFCOM3B ）を用いて、針の半径２μｍ、荷重０．０
７ｇの条件下にチャート（フイルム表面粗さ曲線）をか
かせ、得られるフイルム表面粗さ曲線からその中心線の
方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り部分
の中心線をＸ軸とし、縦倍率の方向をＹ軸として、粗さ
曲線Ｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、次の式で与えられる
値（Ｒａ：μｍ）をフイルム表面の平坦性として定義す
る。

【００３９】

【数３】

【００４０】本発明では、基準長を０．２５mmとして８
個測定し、値の大きい方から３個除いた５個の平均値と
してＲａを表わす。（３）フイルム表面粗さＰＶ1/1 触針式表面粗さ計を用い、基準長方向５０倍、表面粗さ
方向５００００倍に拡大して表面粗さをチャートに書か
せ、その断面曲線から基準長さ１．０mmだけ抜き取った
部分の平均線に平行な直線のうち、高い方から１番目の
山と深い方から１番目の谷底を通るものを選び、この２
直線の間隔を縦倍率で割った値をミクロン（μｍ）単位
で表わし、このＰＶ値１０個の平均値で表わす。（４）親和性前記（１）−２）の方法に従ってフイルム中（表面）の
粒子周辺を暴露し、少なくとも５０個の微粒子の長径と
ボイドの長径を測定し、次式ボイド比＝ボイドの長径／微粒子の長径で表されるボイド比の数平均値を求める。この数平均値
をもって、次のような判定基準で表示している。

【００４１】１級：１≦ボイド比＜１．５（即ちボイドが存在しない、もしくは非常に小さい）２級：１．５≦ボイド比＜２．０３級：２．０≦ 〃＜３．０４級：３．０≦ 〃＜４．０（２）ブレード削れ性図１に示した装置を用いて下記のように測定する。図１
中、１は巻出しリール、２はテンションコントローラ
ー、３，５，６，８はフリーローラー、４はテンション
検出機、７はブレード（米国ＧＫＩ製工業用カミソリ試
験機用ブレード）、９はガイドローラー、１０は巻取り
リールをそれぞれ示す。

【００４２】１／２インチ幅にスリットしたサンプルフ
イルムをブレード刃先に６度の角度であたるようにして
張力５０ｇ，走行速度１００ｍ／分で１００ｍ走行さ
せ、ブレード刃先に付着する削れ粉量で削れ性を評価す
る。

【００４３】この評価はフイルム表面に形成される突起
の衝撃強さと関係し、磁気テープ製造工程におけるカレ
ンダーやダイコーターでの削れ粉発生とよく対応してい
る。＜判定＞ ◎：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が０．５mm未
満 ○：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が０．５mm以
上で１．０mm未満 △：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が１．０mm以
上で２．０mm未満 ×：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が２．０mm以
上

【００４４】

【実施例】以下、実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。

【００４５】

【実施例１，２、比較例１〜３】ジメチルテレフタレー
トとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として
酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、
安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す添加
粒子を添加して常法により重合し、固有粘度（オルソク
ロロフェノール、３５℃）０．６２のＡ層用及びＢ層用
ポリエチレンテレフタレートを得た。

【００４６】次いで、Ａ層用及びＢ層用ポリエチレンテ
レフタレートを１７０℃で３時間乾燥後、共押出し製膜
機の別々の押出し機に供給し、Ａ層とＢ層の厚み比が
３：９７となるように二層ダイから共押出して未延伸フ
イルムを得た。

【００４７】このようにして得られた未延伸フイルムを
７５℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間で１５mm
上方より９００℃の表面温度のＩＲヒーター１本にて加
熱して４．０倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに
供給し、１０５℃にて横方向に３．９倍に延伸した。得
られた二軸配向フイルムを２０５℃の温度で５秒間熱固
定し、厚み１０μｍの積層二軸配向フイルムを得た。こ
のようにして得られた積層二軸配向ポリエステルフイル
ムの特性も表１に示す。

【００４８】

【表１】

【００４９】表１から明らかなように、本発明によるも
のはＡ層（粗面層）の表面粗さＲａが比較例として示し
たものとほぼ同等であるにもかかわらず、該層のＰＶ1/
1 値が低くなっている。即ち、高突起が少なく均一な突
起形状を有していることが判る。この結果、磁気記録媒
体用として用いた時、粗面層の磁性面への転写による磁
性面粗化に対する影響が小さくなる。

【００５０】また、Ａ層に添加した粒子の親和性も良好
であり、テープ製造工程における突起の耐脱落性に優れ
ることが判る。更にブレード削れ性も良好であり、過酷
なテープ製造条件に耐えうることが判る。

【００５１】なお、ブレード削れ性の判定において○レ
ベル以上であれば実用上なんら懸念はないが、△レベル
以下になると磁気テープ製造工程で塗布トラブルを生じ
たり、ドロップアウトの増加が懸念される。

【００５２】

【発明の効果】本発明によれば、耐削れ性に優れ、過酷
な磁気テープ製造条件でも最も優れた電磁変換特性を有
する二軸配向ポリエステルフイルムを提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】フイルムのブレード削れ性を測定する装置の模
式図である。

【符号の説明】

１繰出しリール２テンションコントローラー３，５，６，８フリーローラー４テンション検出器（入口）７ブレード９ガイドローラー１０巻取りリール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ２９Ｌ 7:00 4Ｆ 9:00 4Ｆ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】二軸配向されたポリエステルフイルムの少
なくとも片面に、面積円相当径の平均粒径が０．１〜２
μｍであり、粒径比（長径／短径）が１．５〜１０であ
りかつ下記式で表わされる相対標準偏差が０．５以下で
ある紡錘状炭酸カルシウム粒子を０．２〜８重量％含有
するポリエステルよりなり、そして層の厚みが前記粒径
の０．１〜２倍である層を積層させていることを特徴と
する積層二軸配向ポリエステルフイルム。【数１】