JPH0596254A - 超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽 - Google Patents
超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽Info
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- JPH0596254A JPH0596254A JP13057691A JP13057691A JPH0596254A JP H0596254 A JPH0596254 A JP H0596254A JP 13057691 A JP13057691 A JP 13057691A JP 13057691 A JP13057691 A JP 13057691A JP H0596254 A JPH0596254 A JP H0596254A
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- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract description 19
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 158
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 61
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 13
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 精密機械部品や電子機器部品等のワークの超
音波洗浄を自動的に、かつ、確実に行ない得る超音波洗
浄装置を提供する。 【構成】 洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)、脱水室
(3c)(3h)、乾燥室(4)を一連に並設し、これらの
上方にトラバース機構(6)を配置する。洗浄液(8)
を貯留した各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)内に
は、ワークを収容したキャリア(18)を回転させる回転
体(17)、超音波振動源(12)及び噴流管(13)を配置
し、洗浄液(8)中に浸漬したキャリア(18)の超音波
噴流洗浄を行なう。脱水室(3c)(3h)内では回転体
(17)上に載置されたキャリア(18)を高速回転させ、
ワークの脱水を行なう。トラバース機構(6)はキャリ
ア(18)を各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)、脱水
室(3c)(3h)、乾燥室(4)に順送りする。
音波洗浄を自動的に、かつ、確実に行ない得る超音波洗
浄装置を提供する。 【構成】 洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)、脱水室
(3c)(3h)、乾燥室(4)を一連に並設し、これらの
上方にトラバース機構(6)を配置する。洗浄液(8)
を貯留した各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)内に
は、ワークを収容したキャリア(18)を回転させる回転
体(17)、超音波振動源(12)及び噴流管(13)を配置
し、洗浄液(8)中に浸漬したキャリア(18)の超音波
噴流洗浄を行なう。脱水室(3c)(3h)内では回転体
(17)上に載置されたキャリア(18)を高速回転させ、
ワークの脱水を行なう。トラバース機構(6)はキャリ
ア(18)を各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)、脱水
室(3c)(3h)、乾燥室(4)に順送りする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、精密機械部品や電子機
器部品等のワークの洗浄工程に使用される超音波振動を
利用した超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄室に
関するものである。
器部品等のワークの洗浄工程に使用される超音波振動を
利用した超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄室に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、精密機械部品や電子機器部品等
の製造における洗浄工程では、並設された多数の洗浄槽
にワークを順送りして各洗浄槽内に満たされている各種
洗浄液中にそれぞれ浸漬し、洗浄液中で起こした超音波
振動によってワークの表面から不純物を遊離させて洗浄
を行うようにしている。
の製造における洗浄工程では、並設された多数の洗浄槽
にワークを順送りして各洗浄槽内に満たされている各種
洗浄液中にそれぞれ浸漬し、洗浄液中で起こした超音波
振動によってワークの表面から不純物を遊離させて洗浄
を行うようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の洗浄
工程においては、多数の洗浄槽にワークを順送りする
際、人手により手送りしている。ところが、槽には人体
に有害な有機溶剤が洗浄液として満たされているため、
作業には非常に危険が伴う。そこで、人手を介さずに自
動的にワークの洗浄を行なうことのできる装置の開発が
要望されていた。しかし、安全性、生産性及び耐久性等
の面で要望を充分に満足する装置が提供されていないの
が現状であった。
工程においては、多数の洗浄槽にワークを順送りする
際、人手により手送りしている。ところが、槽には人体
に有害な有機溶剤が洗浄液として満たされているため、
作業には非常に危険が伴う。そこで、人手を介さずに自
動的にワークの洗浄を行なうことのできる装置の開発が
要望されていた。しかし、安全性、生産性及び耐久性等
の面で要望を充分に満足する装置が提供されていないの
が現状であった。
【0004】本発明は上記現状に鑑みて提案されたもの
で、危険を伴う有機溶剤を使用しての洗浄、乾燥作業を
自動的に行いつつワークの確実な洗浄が可能な超音波洗
浄装置を提供することを目的とするものである。
で、危険を伴う有機溶剤を使用しての洗浄、乾燥作業を
自動的に行いつつワークの確実な洗浄が可能な超音波洗
浄装置を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、本発明に係る超音波洗浄装置は、処理槽を有する洗
浄室と遠心脱水槽を有する脱水室とを搬入コンベヤと搬
出コンベヤの間に一連に並設して洗浄ユニットを構成
し、この洗浄ユニット一端部と上記搬出コンベヤとの間
に乾燥機を有する乾燥室を配設すると共に、上記洗浄
室、脱水室、及び、乾燥室の上方にトラバース機構を配
設したものであって、上記処理槽は、ワークを収容した
キャリアを回転させる回転体と、内部に貯留した洗浄液
中に超音波振動を生じさせる超音波振動源と、内部に噴
流を生じさせる噴流管とを具備し、上記遠心脱水槽は、
キャリアを回転させる回転体を具備し、上記乾燥機は、
キャリアに収容されたワークに清浄度の高い熱風を吹き
付けて当該ワークを乾燥させ、上記トラバース機構は、
昇降自在に配設された昇降フレームと昇降フレームに連
結した水平方向に移動自在の走行フレームとを有し、該
走行フレームにキャリアを吊り下げ支持する複数のチャ
ッカーを配設してキャリアを水平方向に順送りさせる。
め、本発明に係る超音波洗浄装置は、処理槽を有する洗
浄室と遠心脱水槽を有する脱水室とを搬入コンベヤと搬
出コンベヤの間に一連に並設して洗浄ユニットを構成
し、この洗浄ユニット一端部と上記搬出コンベヤとの間
に乾燥機を有する乾燥室を配設すると共に、上記洗浄
室、脱水室、及び、乾燥室の上方にトラバース機構を配
設したものであって、上記処理槽は、ワークを収容した
キャリアを回転させる回転体と、内部に貯留した洗浄液
中に超音波振動を生じさせる超音波振動源と、内部に噴
流を生じさせる噴流管とを具備し、上記遠心脱水槽は、
キャリアを回転させる回転体を具備し、上記乾燥機は、
キャリアに収容されたワークに清浄度の高い熱風を吹き
付けて当該ワークを乾燥させ、上記トラバース機構は、
昇降自在に配設された昇降フレームと昇降フレームに連
結した水平方向に移動自在の走行フレームとを有し、該
走行フレームにキャリアを吊り下げ支持する複数のチャ
ッカーを配設してキャリアを水平方向に順送りさせる。
【0006】また、処理槽を有する洗浄室と遠心脱水槽
を有する脱水室とを搬入コンベヤと搬出コンベヤの間に
一連に並設して洗浄ユニットを構成し、この洗浄ユニッ
ト一端部と上記搬出コンベヤとの間に乾燥機を有する乾
燥室を配設すると共に、上記洗浄室、脱水室、及び、乾
燥室の上方にトラバース機構を配設したものであって、
上記処理槽は、ワークを収容したキャリアを回転させる
回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動を生じ
させる超音波振動源と、内部に噴流を生じさせる噴流管
とを具備し、上記遠心脱水槽は、キャリアを回転させる
回転体を具備し、上記乾燥機は、キャリアに収容された
ワークに清浄度の高い熱風を吹き付けて当該ワークを乾
燥させ、上記トラバース機構は、昇降自在に配設された
昇降フレームと昇降フレームに連結した水平方向に移動
自在の走行フレームとを有し、該走行フレームにキャリ
アを吊り下げ支持する複数のチャッカーを配設してキャ
リアを水平方向に順送りさせる超音波洗浄装置におい
て、上記複数の洗浄室を、その処理槽内に同種の洗浄液
を貯留している洗浄室毎に隣接配置してユニット化し、
このユニット化した洗浄室の間に脱水室を配設して上記
洗浄ユニットを構成する。
を有する脱水室とを搬入コンベヤと搬出コンベヤの間に
一連に並設して洗浄ユニットを構成し、この洗浄ユニッ
ト一端部と上記搬出コンベヤとの間に乾燥機を有する乾
燥室を配設すると共に、上記洗浄室、脱水室、及び、乾
燥室の上方にトラバース機構を配設したものであって、
上記処理槽は、ワークを収容したキャリアを回転させる
回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動を生じ
させる超音波振動源と、内部に噴流を生じさせる噴流管
とを具備し、上記遠心脱水槽は、キャリアを回転させる
回転体を具備し、上記乾燥機は、キャリアに収容された
ワークに清浄度の高い熱風を吹き付けて当該ワークを乾
燥させ、上記トラバース機構は、昇降自在に配設された
昇降フレームと昇降フレームに連結した水平方向に移動
自在の走行フレームとを有し、該走行フレームにキャリ
アを吊り下げ支持する複数のチャッカーを配設してキャ
リアを水平方向に順送りさせる超音波洗浄装置におい
て、上記複数の洗浄室を、その処理槽内に同種の洗浄液
を貯留している洗浄室毎に隣接配置してユニット化し、
このユニット化した洗浄室の間に脱水室を配設して上記
洗浄ユニットを構成する。
【0007】ところで、このような超音波洗浄装置に使
用する洗浄室は、ワークを収容したキャリアを回転させ
る回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動を生
じさせる超音波振動源と、内部に貯留した洗浄液中に噴
流を生じさせる噴流管とを具備する処理槽と、
用する洗浄室は、ワークを収容したキャリアを回転させ
る回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動を生
じさせる超音波振動源と、内部に貯留した洗浄液中に噴
流を生じさせる噴流管とを具備する処理槽と、
【0008】内部に濾過材を有するリザーブ槽と、前記
処理槽の周囲に構成し、処理槽の上端からオーバーフロ
ーする洗浄液を回収する集液通路と、前記集液通路とリ
ザーブ槽内の濾過材とを連通する連通管と、前記リザー
ブ槽内の濾過材を通過した洗浄液をポンプを介して処理
槽に還流させる還流管とを具備する。
処理槽の周囲に構成し、処理槽の上端からオーバーフロ
ーする洗浄液を回収する集液通路と、前記集液通路とリ
ザーブ槽内の濾過材とを連通する連通管と、前記リザー
ブ槽内の濾過材を通過した洗浄液をポンプを介して処理
槽に還流させる還流管とを具備する。
【0009】
【作用】ワークを収容したキャリアは、搬入コンベヤで
搬入され、一連に並設した複数の洗浄室及び脱水室内に
順送りされる。そして、キャリアは、各洗浄室の処理槽
内で回転体上に載置されて洗浄液中に浸漬され、回転体
の回転に伴って回転しながら超音波振動源或いは噴流管
が起こした超音波振動或いは噴流で洗浄される。また、
このキャリアは、同様に各脱水室の遠心脱水槽内で回転
体上に載置され、この回転体の回転に伴って回転しなが
ら脱水される。各洗浄室及び脱水室に順次搬送されたキ
ャリアは、乾燥機に送られて熱風乾燥され、搬出コンベ
ヤで装置外部に排出される。この時、各洗浄室、脱水
室、乾燥室へのキャリアの順送りは、これらの上方に配
設されたトラバース機構が行なう。このトラバース機構
によるキャリアの順送りは、昇降フレームの上昇動作と
共にチャッカーがキャリアを掴んで上方に引き上げ、次
に走行フレームが一定量水平移動してキャリアを掴んだ
チャッカーを隣接する洗浄室、脱水室等の上方に移送
し、さらに昇降フレームが降下してチャッカーがキャリ
アを解放し、回転体上にキャリアを載置することによっ
て行なわれる。
搬入され、一連に並設した複数の洗浄室及び脱水室内に
順送りされる。そして、キャリアは、各洗浄室の処理槽
内で回転体上に載置されて洗浄液中に浸漬され、回転体
の回転に伴って回転しながら超音波振動源或いは噴流管
が起こした超音波振動或いは噴流で洗浄される。また、
このキャリアは、同様に各脱水室の遠心脱水槽内で回転
体上に載置され、この回転体の回転に伴って回転しなが
ら脱水される。各洗浄室及び脱水室に順次搬送されたキ
ャリアは、乾燥機に送られて熱風乾燥され、搬出コンベ
ヤで装置外部に排出される。この時、各洗浄室、脱水
室、乾燥室へのキャリアの順送りは、これらの上方に配
設されたトラバース機構が行なう。このトラバース機構
によるキャリアの順送りは、昇降フレームの上昇動作と
共にチャッカーがキャリアを掴んで上方に引き上げ、次
に走行フレームが一定量水平移動してキャリアを掴んだ
チャッカーを隣接する洗浄室、脱水室等の上方に移送
し、さらに昇降フレームが降下してチャッカーがキャリ
アを解放し、回転体上にキャリアを載置することによっ
て行なわれる。
【0010】また、洗浄室を、同種の洗浄液を処理槽内
に貯留している洗浄室毎に隣接配置してユニット化し、
このユニット化した洗浄室の間に脱水室を配設すること
によって、一方のユニット化した洗浄室で、洗浄液によ
り洗浄されたワークは、一旦脱水室で付着した洗浄液を
脱水されてから、他の洗浄液を貯留するユニット化され
た洗浄室に移送されることになる。
に貯留している洗浄室毎に隣接配置してユニット化し、
このユニット化した洗浄室の間に脱水室を配設すること
によって、一方のユニット化した洗浄室で、洗浄液によ
り洗浄されたワークは、一旦脱水室で付着した洗浄液を
脱水されてから、他の洗浄液を貯留するユニット化され
た洗浄室に移送されることになる。
【0011】また、処理槽からオーバーフローした洗浄
液は集液通路で回収されてリザーブ槽内の濾過材に流入
し、濾過材で濾過されたのちに還流管からポンプを介し
て処理槽に還流される。
液は集液通路で回収されてリザーブ槽内の濾過材に流入
し、濾過材で濾過されたのちに還流管からポンプを介し
て処理槽に還流される。
【0012】
【実施例】以下、本発明に係る超音波洗浄装置並びに該
装置で用いる洗浄室の一実施例を図1乃至図5(a)
(b)に基づいて説明する。
装置で用いる洗浄室の一実施例を図1乃至図5(a)
(b)に基づいて説明する。
【0013】図1乃至図3は本発明装置の正面図、平面
図、側面図を示している。同図において、(1st)〜
(13st)は、作業ステーションを示し、この作業ステー
ション(1st)〜(13st)では、第1ステーション(1
st)に搬入コンベア(2)の終端部を連結し、第2ステ
ーション(2st)〜第9ステーション(9st)に洗浄室
或いは脱水室(3a)〜(3h)で構成した洗浄ユニット
(1)を配置し、第10ステーション(10st)〜第12ステ
ーション(12st)に乾燥室(4)を配置し、第13ステー
ション(13st)に搬出コンベア(5)の始端部を連結し
ている。一方、これらの上方にはトラバース機構(6)
を配置している。また、上記洗浄ユニット(1)のう
ち、(3a)(3b)(3d)〜(3g)は洗浄室を示し、(3
c)(3h)は脱水室を示す。本発明装置はこのような構
成により、搬入コンベヤ(2)で搬入したワークをトラ
バース機構(6)で洗浄室、或いは、脱水室(3a)〜
(3h)を順次経由して乾燥室(4)に移送し、最後に乾
燥機(4)から搬出コンベヤ(5)にワークを搬送して
外部に搬出し、ワークの洗浄・乾燥を行なうものであ
る。以下夫々の構成要素について詳述する。
図、側面図を示している。同図において、(1st)〜
(13st)は、作業ステーションを示し、この作業ステー
ション(1st)〜(13st)では、第1ステーション(1
st)に搬入コンベア(2)の終端部を連結し、第2ステ
ーション(2st)〜第9ステーション(9st)に洗浄室
或いは脱水室(3a)〜(3h)で構成した洗浄ユニット
(1)を配置し、第10ステーション(10st)〜第12ステ
ーション(12st)に乾燥室(4)を配置し、第13ステー
ション(13st)に搬出コンベア(5)の始端部を連結し
ている。一方、これらの上方にはトラバース機構(6)
を配置している。また、上記洗浄ユニット(1)のう
ち、(3a)(3b)(3d)〜(3g)は洗浄室を示し、(3
c)(3h)は脱水室を示す。本発明装置はこのような構
成により、搬入コンベヤ(2)で搬入したワークをトラ
バース機構(6)で洗浄室、或いは、脱水室(3a)〜
(3h)を順次経由して乾燥室(4)に移送し、最後に乾
燥機(4)から搬出コンベヤ(5)にワークを搬送して
外部に搬出し、ワークの洗浄・乾燥を行なうものであ
る。以下夫々の構成要素について詳述する。
【0014】上記洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)の
構造を図4に示す。同図において、(7)は洗浄液
(8)が貯溜される処理槽で、その周囲には集液通路
(40)が構成されている。この集液通路(40)は連通管
(41)を介して側方に配置されたリザーブ槽(9)に連
通している。洗浄時にワークから遊離した不純物は、洗
浄液と共に処理槽(7)の上端からオーバーフローし、
集液通路(40)、連通管(41)を介してリザーブ槽
(9)に流入する。この不純物を含む洗浄液は、上記リ
ザーブ槽(9)の仕切板(10a)(10b)により、リザ
ーブ槽(9)内を上下方向に還流し、この時、内蔵され
た濾過材(11a)(11b)(11c)で不純物の濾過が行
なわれる。(13)は処理槽(7)の床部に配した噴流管
である。リザーブ槽(9)内で浄化された洗浄液(8)
は、ポンプ(14)で吸引され、還流管(42)を介して処
理槽(7)内の洗浄液(8)中に噴出される。
構造を図4に示す。同図において、(7)は洗浄液
(8)が貯溜される処理槽で、その周囲には集液通路
(40)が構成されている。この集液通路(40)は連通管
(41)を介して側方に配置されたリザーブ槽(9)に連
通している。洗浄時にワークから遊離した不純物は、洗
浄液と共に処理槽(7)の上端からオーバーフローし、
集液通路(40)、連通管(41)を介してリザーブ槽
(9)に流入する。この不純物を含む洗浄液は、上記リ
ザーブ槽(9)の仕切板(10a)(10b)により、リザ
ーブ槽(9)内を上下方向に還流し、この時、内蔵され
た濾過材(11a)(11b)(11c)で不純物の濾過が行
なわれる。(13)は処理槽(7)の床部に配した噴流管
である。リザーブ槽(9)内で浄化された洗浄液(8)
は、ポンプ(14)で吸引され、還流管(42)を介して処
理槽(7)内の洗浄液(8)中に噴出される。
【0015】(12)は処理槽(7)の側壁に装着した超
音波振動源で、上記処理槽(7)内の洗浄液(8)中に
超音波振動を起こさせるものである。このように、洗浄
液中に超音波振動を生じさせることにより、ワークの洗
浄がより効果的に行なえる。尚、本実施例では、この超
音波振動源(12)を洗浄室(3a)(3b)(3e)(3f)に
のみ配置し、特に必要のない洗浄室(3d)(3g)には配
置していない。しかし、この超音波振動源(12)は、使
用者の必要に応じて洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)
の何れか或いは全てに装着することができる。
音波振動源で、上記処理槽(7)内の洗浄液(8)中に
超音波振動を起こさせるものである。このように、洗浄
液中に超音波振動を生じさせることにより、ワークの洗
浄がより効果的に行なえる。尚、本実施例では、この超
音波振動源(12)を洗浄室(3a)(3b)(3e)(3f)に
のみ配置し、特に必要のない洗浄室(3d)(3g)には配
置していない。しかし、この超音波振動源(12)は、使
用者の必要に応じて洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)
の何れか或いは全てに装着することができる。
【0016】一方、(15)は処理槽(7)の底部中央部
に回転自在に貫通させた回転軸で、この回転軸(15)に
は、処理槽(7)と一体構成したスリーブ(16)が同軸
状に套嵌されている。(17)は回転軸(15)に連結して
支持された回転体であり、この回転体には(17)には多
数のワーク(図示せず)を収容した例えば金網等で製作
されたキャリア(18)を載置保持するテーブル(19)を
一体に設けている。(20)は回転軸(15)を回転させる
駆動モータで、その出力軸と回転軸(15)とを適宜の動
力伝達手段で連結しておく。駆動モータ(20)が起動す
ると、動力伝達手段を介して回転軸(15)が回転し、更
に、回転体(17)が回転して当該回転体(17)のテーブ
ル(19)上に載置されているキャリア(18)も回転す
る。
に回転自在に貫通させた回転軸で、この回転軸(15)に
は、処理槽(7)と一体構成したスリーブ(16)が同軸
状に套嵌されている。(17)は回転軸(15)に連結して
支持された回転体であり、この回転体には(17)には多
数のワーク(図示せず)を収容した例えば金網等で製作
されたキャリア(18)を載置保持するテーブル(19)を
一体に設けている。(20)は回転軸(15)を回転させる
駆動モータで、その出力軸と回転軸(15)とを適宜の動
力伝達手段で連結しておく。駆動モータ(20)が起動す
ると、動力伝達手段を介して回転軸(15)が回転し、更
に、回転体(17)が回転して当該回転体(17)のテーブ
ル(19)上に載置されているキャリア(18)も回転す
る。
【0017】また、(48)は処理槽(7)の下方に配置
したドレン回収装置で、ドレン受け(49)、ドレン管
(50)、ドレンタンク(51)で構成している。処理槽
(7)で気化した洗浄液(8)は、回転体(17)の上方
の回転軸(15)との間の隙間から回転軸(15)とスリー
ブ(16)との間に侵入して凝結する。このようにして生
じたドレンをドレン受け(49)で回収し、ドレン管(5
0)を介してドレンタンク(51)に集液して駆動モータ
(20)、動力伝達手段の水濡れを防止する。
したドレン回収装置で、ドレン受け(49)、ドレン管
(50)、ドレンタンク(51)で構成している。処理槽
(7)で気化した洗浄液(8)は、回転体(17)の上方
の回転軸(15)との間の隙間から回転軸(15)とスリー
ブ(16)との間に侵入して凝結する。このようにして生
じたドレンをドレン受け(49)で回収し、ドレン管(5
0)を介してドレンタンク(51)に集液して駆動モータ
(20)、動力伝達手段の水濡れを防止する。
【0018】尚、本実施例では特に、洗浄室(3a)(3
b)の処理槽(7)内に有機溶剤を貯留し、これらの洗
浄室(3a)(3b)で溶剤洗浄ユニット(A)を構成す
る。また、洗浄室(3d)〜(3f)の処理槽(7)内には
市水、或いは純水を貯留し、これらの洗浄室(3d)〜
(3f)で水性洗浄ユニット(B)を構成する。そして、
水性洗浄ユニット(B)を構成する洗浄室(3d)の処理
槽(7)内には市水を貯留し、搬入されたワークの市水
洗浄を行なう。また、洗浄室(3e)(3f)の処理槽
(7)内には純粋を貯留して搬入されたワークの純水洗
浄を行ない、洗浄室(3g)の処理槽(7)内には純粋リ
ンス液を貯留して搬入されたワークの純水リンスを行な
う。このような構成から、搬入されたワークは、最初に
溶剤洗浄ユニット(A)で有機系の溶剤に洗浄されてか
ら、水性洗浄ユニット(B)に移送され、市水、或いは
純水で洗浄された後、純水リンスされることになる。
b)の処理槽(7)内に有機溶剤を貯留し、これらの洗
浄室(3a)(3b)で溶剤洗浄ユニット(A)を構成す
る。また、洗浄室(3d)〜(3f)の処理槽(7)内には
市水、或いは純水を貯留し、これらの洗浄室(3d)〜
(3f)で水性洗浄ユニット(B)を構成する。そして、
水性洗浄ユニット(B)を構成する洗浄室(3d)の処理
槽(7)内には市水を貯留し、搬入されたワークの市水
洗浄を行なう。また、洗浄室(3e)(3f)の処理槽
(7)内には純粋を貯留して搬入されたワークの純水洗
浄を行ない、洗浄室(3g)の処理槽(7)内には純粋リ
ンス液を貯留して搬入されたワークの純水リンスを行な
う。このような構成から、搬入されたワークは、最初に
溶剤洗浄ユニット(A)で有機系の溶剤に洗浄されてか
ら、水性洗浄ユニット(B)に移送され、市水、或いは
純水で洗浄された後、純水リンスされることになる。
【0019】一方、脱水室(3c)(3h)は、遠心脱水槽
(45)内に上述と同様の構成の回転体(17)を配置して
構成する。この回転体(17)のテーブル(19)上にキャ
リア(18)を配置し、駆動モータ(20)で該テーブル
(19)を高速回転させると、キャリア(18)が高速回転
し、この時に生じる遠心力によって、キャリア(18)内
の多数のワーク表面から洗浄液(8)が離脱してワーク
の脱水が行われる。
(45)内に上述と同様の構成の回転体(17)を配置して
構成する。この回転体(17)のテーブル(19)上にキャ
リア(18)を配置し、駆動モータ(20)で該テーブル
(19)を高速回転させると、キャリア(18)が高速回転
し、この時に生じる遠心力によって、キャリア(18)内
の多数のワーク表面から洗浄液(8)が離脱してワーク
の脱水が行われる。
【0020】上記構成の脱水室(3c)(3h)のうち、脱
水室(3c)は、有機洗浄ユニット(A)と水性洗浄ユニ
ット(B)の間に配置する。このように配置することに
より、洗浄室(3b)で有機溶材による洗浄が完了したキ
ャリア(18)は、一旦有機溶材を遠心脱水されてから洗
浄室(3d)に搬送される。また、他方の脱水室(3h)
は、水性洗浄ユニット(B)の終端部に配置し、水性洗
浄ユニット(B)で洗浄の終了したワークを一旦脱水し
てから後述の乾燥室(4)に搬送するように構成する。
この結果、乾燥室(4)内でのワークの乾燥工程が確実
に行なわれる。尚、上記脱水室(3c)(3h)で脱水した
洗浄液は、図2に示すような還流管(47)(47)で夫々
洗浄室(3b)及び(3g)のリザーブ槽(9)(9)内に
還流させる。この構成により、有機溶材、或いは、市水
及び純水から成る洗浄液の有効利用が図れる。
水室(3c)は、有機洗浄ユニット(A)と水性洗浄ユニ
ット(B)の間に配置する。このように配置することに
より、洗浄室(3b)で有機溶材による洗浄が完了したキ
ャリア(18)は、一旦有機溶材を遠心脱水されてから洗
浄室(3d)に搬送される。また、他方の脱水室(3h)
は、水性洗浄ユニット(B)の終端部に配置し、水性洗
浄ユニット(B)で洗浄の終了したワークを一旦脱水し
てから後述の乾燥室(4)に搬送するように構成する。
この結果、乾燥室(4)内でのワークの乾燥工程が確実
に行なわれる。尚、上記脱水室(3c)(3h)で脱水した
洗浄液は、図2に示すような還流管(47)(47)で夫々
洗浄室(3b)及び(3g)のリザーブ槽(9)(9)内に
還流させる。この構成により、有機溶材、或いは、市水
及び純水から成る洗浄液の有効利用が図れる。
【0021】乾燥室(4)は、洗浄ユニット(1)と搬
出コンベヤ(5)の間に配設する。この乾燥室(4)に
配置する乾燥機(46)は、筐型の乾燥室(21)内に熱風
ブロアー(22)(22)、HEPAフィルター(23)(2
3)及び空気循環機構(図示せず)を有するものであ
り、熱風ブロアー(22)(22)によって所定温度に加熱
された空気をキャリア(18)に吹き付けて当該キャリア
(18)内に収容されたワークの熱風乾燥を行なうもので
ある。ワークに吹き付けられた後の空気は空気循環機構
(図示省略)によって熱風ブロアー(22)(22)に還流
されるが、その還流途中でHEPAフィルター(23)
(23)によって空気清浄されて高い清浄度に維持され
る。
出コンベヤ(5)の間に配設する。この乾燥室(4)に
配置する乾燥機(46)は、筐型の乾燥室(21)内に熱風
ブロアー(22)(22)、HEPAフィルター(23)(2
3)及び空気循環機構(図示せず)を有するものであ
り、熱風ブロアー(22)(22)によって所定温度に加熱
された空気をキャリア(18)に吹き付けて当該キャリア
(18)内に収容されたワークの熱風乾燥を行なうもので
ある。ワークに吹き付けられた後の空気は空気循環機構
(図示省略)によって熱風ブロアー(22)(22)に還流
されるが、その還流途中でHEPAフィルター(23)
(23)によって空気清浄されて高い清浄度に維持され
る。
【0022】トラバース機構(6)は第1ステーション
(1st)〜第12ステーション(12st)にある各キャリア
(18)(18)・・・・を一度に順送りさせるもので、昇降自
在に配された昇降フレーム(24)と、この昇降フレーム
(24)に複数の車輪(25)(25)・・・・を介して連結し、
かつ、水平方向に移動自在に配された走行フレーム(2
6)と、この走行フレーム(26)の上記第1ステーショ
ン(1st)〜第12ステーション(12st)と対向する位置
に一連に吊下げ支持された12個のチャッカー(27a)〜
(27l)とで構成されている。
(1st)〜第12ステーション(12st)にある各キャリア
(18)(18)・・・・を一度に順送りさせるもので、昇降自
在に配された昇降フレーム(24)と、この昇降フレーム
(24)に複数の車輪(25)(25)・・・・を介して連結し、
かつ、水平方向に移動自在に配された走行フレーム(2
6)と、この走行フレーム(26)の上記第1ステーショ
ン(1st)〜第12ステーション(12st)と対向する位置
に一連に吊下げ支持された12個のチャッカー(27a)〜
(27l)とで構成されている。
【0023】昇降フレーム(24)は、図3に示すよう
に、四隅部がチェーン(28)に一体に支持され、昇降モ
ータ(29)によりチェーン(28)を介して昇降運動す
る。走行フレーム(26)は図示されていないがチェーン
を介して駆動源に取り付けられ、水平方向に一定ストロ
ークで往復動する。
に、四隅部がチェーン(28)に一体に支持され、昇降モ
ータ(29)によりチェーン(28)を介して昇降運動す
る。走行フレーム(26)は図示されていないがチェーン
を介して駆動源に取り付けられ、水平方向に一定ストロ
ークで往復動する。
【0024】チャッカー(27a)〜(27l)は、図5
(a)(b)に示す構造から成る。走行フレーム(26)
の下端部に水平四方向に突出した4本の腕(30)を有す
るスライド部材(31)を昇降自在に嵌挿し、このスライ
ド部材(31)の4本の腕(30)にそれぞれL字状のチャ
ック爪(32)の一端をピン(33)を介して回動自在に連
結する。さらに、チャック爪(32)の水平部折曲部近傍
を走行フレーム(26)に突設したブラケット(34)にピ
ン(35)を介して回動自在に連結する。この構成におい
て、図3に示すチャックシリンダ(36)でスライド部材
(31)を下方に押し下げると、4本のチャック爪(32)
が図5(a)の想像線で示すように、外方に開いた状態
になり、スライド部材(31)を上方に引き上げると、図
5(a)の実線で示すように、内方に閉じた状態とな
る。そして、チャッカー(27a)〜(27l)はチャック
爪(32)(32)・・・・が内方に閉じた状態でキャリア(1
8)をチャッキングし、チャック爪(32)(32)・・・・が
外方に開いた状態ではキャリア(18)のチッキングを解
放する。
(a)(b)に示す構造から成る。走行フレーム(26)
の下端部に水平四方向に突出した4本の腕(30)を有す
るスライド部材(31)を昇降自在に嵌挿し、このスライ
ド部材(31)の4本の腕(30)にそれぞれL字状のチャ
ック爪(32)の一端をピン(33)を介して回動自在に連
結する。さらに、チャック爪(32)の水平部折曲部近傍
を走行フレーム(26)に突設したブラケット(34)にピ
ン(35)を介して回動自在に連結する。この構成におい
て、図3に示すチャックシリンダ(36)でスライド部材
(31)を下方に押し下げると、4本のチャック爪(32)
が図5(a)の想像線で示すように、外方に開いた状態
になり、スライド部材(31)を上方に引き上げると、図
5(a)の実線で示すように、内方に閉じた状態とな
る。そして、チャッカー(27a)〜(27l)はチャック
爪(32)(32)・・・・が内方に閉じた状態でキャリア(1
8)をチャッキングし、チャック爪(32)(32)・・・・が
外方に開いた状態ではキャリア(18)のチッキングを解
放する。
【0025】本発明装置は以上の構成からなるが、次
に、本発明装置の動作例を図1乃至図3を参照して説明
する。
に、本発明装置の動作例を図1乃至図3を参照して説明
する。
【0026】精密機器部品や電子機器部品等のワーク
を収容したキャリア(18)が搬入コンベア(2)で第1
ステーション(1st)に搬送される。すると、トラバー
ス機構(6)の昇降フレーム(24)が降下して走行フレ
ーム(26)及びチャッカー(27a)〜(27l)を降下さ
せる。
を収容したキャリア(18)が搬入コンベア(2)で第1
ステーション(1st)に搬送される。すると、トラバー
ス機構(6)の昇降フレーム(24)が降下して走行フレ
ーム(26)及びチャッカー(27a)〜(27l)を降下さ
せる。
【0027】所定位置に降下した後、チャッカー(27
a)〜(27l)のチャック爪(32)が閉じる。すると、
第1チャッカー(27a)のチャック爪(32)の垂直部下
端部が、第1ステーション(1st)に搬送されたキャリ
ア(18)の上端部を引っ掛けてチャッキングする。
a)〜(27l)のチャック爪(32)が閉じる。すると、
第1チャッカー(27a)のチャック爪(32)の垂直部下
端部が、第1ステーション(1st)に搬送されたキャリ
ア(18)の上端部を引っ掛けてチャッキングする。
【0028】昇降フレーム(24)が上昇し、走行フレ
ーム(26)及びチャッカー(27a)〜(27l)を上昇さ
せると共に、走行フレーム(26)が水平方向に一定スト
ローク前進してチャッカー(27a)〜(27l)を水平移
動させる。すると、第1チャッカー(27a)にチャッキ
ングされたキャリア(18)は第2ステーション(2st)
に配置した洗浄室(3a)の真上に移送される。
ーム(26)及びチャッカー(27a)〜(27l)を上昇さ
せると共に、走行フレーム(26)が水平方向に一定スト
ローク前進してチャッカー(27a)〜(27l)を水平移
動させる。すると、第1チャッカー(27a)にチャッキ
ングされたキャリア(18)は第2ステーション(2st)
に配置した洗浄室(3a)の真上に移送される。
【0029】昇降フレーム(24)が降下し、続いて、
チャッカー(27a)〜(27l)のチャック爪(32)が開
く。第1チャッカー(27a)にチャックされていたキャ
リア(18)は、洗浄室(3a)内の洗浄液(8)中に浸漬
されて回転体(17)のテーブル(19)上に載置される。
チャッカー(27a)〜(27l)のチャック爪(32)が開
く。第1チャッカー(27a)にチャックされていたキャ
リア(18)は、洗浄室(3a)内の洗浄液(8)中に浸漬
されて回転体(17)のテーブル(19)上に載置される。
【0030】駆動モータ(20)が起動してキャリア
(18)を洗浄液中で回転させる。そして、ポンプ(14)
及び超音波振動源(12)が起動し、キャリア(18)に噴
流管(13)から洗浄液を噴出させてワークの超音波洗浄
が行なわれる。これと同時に、昇降フレーム(24)が上
昇し、走行フレーム(26)が水平方向に後退して元の位
置に戻る。
(18)を洗浄液中で回転させる。そして、ポンプ(14)
及び超音波振動源(12)が起動し、キャリア(18)に噴
流管(13)から洗浄液を噴出させてワークの超音波洗浄
が行なわれる。これと同時に、昇降フレーム(24)が上
昇し、走行フレーム(26)が水平方向に後退して元の位
置に戻る。
【0031】以下、上記〜の作業が繰り返され、新
たに搬入コンベア(2)でキャリア(18)を搬入しなが
ら、搬入されたキャリア(18)を第2ステーション(2
st)〜第13ステーション(13st)に順次移送し、搬出コ
ンベア(5)で外部へ搬送する。そして、キャリア(1
8)が第2ステーション(2st)〜第13ステーション(1
3st)に順次移送される間に、キャリア(18)内のワー
クは、洗浄室(3a)(3b)で有機溶剤で超音波噴流洗浄
され、脱水室(3c)で有機溶剤が遠心脱水される。次
に、洗浄室(3d)で市水噴流洗浄され、続いて、洗浄室
(3e)(3f)で純水超音波噴流洗浄される。さらに、洗
浄室(3g)で純水リンスされ、次いで、脱水室(3h)で
純水が脱水される。そして、乾燥室(4)で熱風乾燥さ
れ、搬出コンベア(5)により洗浄室(1)外へ搬送さ
れる。
たに搬入コンベア(2)でキャリア(18)を搬入しなが
ら、搬入されたキャリア(18)を第2ステーション(2
st)〜第13ステーション(13st)に順次移送し、搬出コ
ンベア(5)で外部へ搬送する。そして、キャリア(1
8)が第2ステーション(2st)〜第13ステーション(1
3st)に順次移送される間に、キャリア(18)内のワー
クは、洗浄室(3a)(3b)で有機溶剤で超音波噴流洗浄
され、脱水室(3c)で有機溶剤が遠心脱水される。次
に、洗浄室(3d)で市水噴流洗浄され、続いて、洗浄室
(3e)(3f)で純水超音波噴流洗浄される。さらに、洗
浄室(3g)で純水リンスされ、次いで、脱水室(3h)で
純水が脱水される。そして、乾燥室(4)で熱風乾燥さ
れ、搬出コンベア(5)により洗浄室(1)外へ搬送さ
れる。
【0032】このように本発明装置では、ワークを収容
したキャリア(18)を洗浄液(8)内に浸漬して該キャ
リア(18)を回転体(17)と共に回転させ、噴流管(1
3)から洗浄液を噴出しながら超音波振動源(12)で洗
浄液(8)中に超音波振動を生じさせている。従って、
各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)は強力な洗浄力を
有し、このことからワークの確実な洗浄を行なうことが
できる。
したキャリア(18)を洗浄液(8)内に浸漬して該キャ
リア(18)を回転体(17)と共に回転させ、噴流管(1
3)から洗浄液を噴出しながら超音波振動源(12)で洗
浄液(8)中に超音波振動を生じさせている。従って、
各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜(3g)は強力な洗浄力を
有し、このことからワークの確実な洗浄を行なうことが
できる。
【0033】さらに、洗浄室、脱水室を一連に並設して
洗浄ユニット(1)を構成し、この洗浄ユニット(1)
に乾燥室(4)を連結してトラバース機構(6)で各洗
浄室、脱水室、乾燥室にキャリア(18)を順送りしてい
る。従って、搬入コンベヤ(2)で搬入されたワークを
人出を介さずに自動的に洗浄・乾燥し、搬出コンベヤ
(5)で外部に搬出することができる。
洗浄ユニット(1)を構成し、この洗浄ユニット(1)
に乾燥室(4)を連結してトラバース機構(6)で各洗
浄室、脱水室、乾燥室にキャリア(18)を順送りしてい
る。従って、搬入コンベヤ(2)で搬入されたワークを
人出を介さずに自動的に洗浄・乾燥し、搬出コンベヤ
(5)で外部に搬出することができる。
【0034】また、同種の洗浄液を有する洗浄室をユニ
ット化して溶剤洗浄ユニット(A)及び水性洗浄ユニッ
ト(B)を構成し、この両ユニット(A)(B)間に脱
水室(3c)を配置していることから、溶剤洗浄ユニット
(A)で洗浄されたワークは遠心脱水されてから水性洗
浄ユニット(B)に搬送される。従って、溶剤洗浄ユニ
ット(A)の貯留している洗浄液、即ち、有機溶材が、
水性洗浄ユニット(B)の貯留している洗浄液、即ち、
市水或いは純水に混入せず、市水或いは純水の清浄度が
長期的に高い水準で維持される。
ット化して溶剤洗浄ユニット(A)及び水性洗浄ユニッ
ト(B)を構成し、この両ユニット(A)(B)間に脱
水室(3c)を配置していることから、溶剤洗浄ユニット
(A)で洗浄されたワークは遠心脱水されてから水性洗
浄ユニット(B)に搬送される。従って、溶剤洗浄ユニ
ット(A)の貯留している洗浄液、即ち、有機溶材が、
水性洗浄ユニット(B)の貯留している洗浄液、即ち、
市水或いは純水に混入せず、市水或いは純水の清浄度が
長期的に高い水準で維持される。
【0035】さらに、各洗浄室(3a)(3b)(3d)〜
(3g)では、処理槽(7)内の汚れた洗浄液を一旦処理
槽(7)の外部に取り出し、リザーブ槽(9)内で浄化
した後に処理槽(7)内に還流させることから、洗浄液
(8)が汚れにくく、従って、洗浄液(8)の交換頻度
が大幅に減少する。
(3g)では、処理槽(7)内の汚れた洗浄液を一旦処理
槽(7)の外部に取り出し、リザーブ槽(9)内で浄化
した後に処理槽(7)内に還流させることから、洗浄液
(8)が汚れにくく、従って、洗浄液(8)の交換頻度
が大幅に減少する。
【0036】
【発明の効果】本発明に係る超音波洗浄装置によれば、
作業に危険を伴う有機溶剤を使用しての洗浄・乾燥作業
を単一の装置で自動的に行なうことができる。しかも、
ワークを洗浄液中で回転させながら超音波噴流洗浄し、
この作業を複数回行なうのでワークの汚れは確実に洗浄
される。
作業に危険を伴う有機溶剤を使用しての洗浄・乾燥作業
を単一の装置で自動的に行なうことができる。しかも、
ワークを洗浄液中で回転させながら超音波噴流洗浄し、
この作業を複数回行なうのでワークの汚れは確実に洗浄
される。
【0037】また、洗浄室を、その処理槽内に同種の洗
浄液を貯留している洗浄室毎に隣接配置してユニット化
し、このユニット化した洗浄室の間に脱水室を配設して
いることから、一方のユニットに貯留している洗浄液が
他方のユニットに貯留している洗浄液に混入することが
ない。従って、洗浄液の清浄度が長期間維持でき、洗浄
液の交換頻度が減少する。さらに、各洗浄室の処理槽内
に貯留した洗浄液を、リザーブ槽内の濾過材で濾過して
処理槽内に還流させていることから、洗浄液の高い清浄
度が長期間維持できる。
浄液を貯留している洗浄室毎に隣接配置してユニット化
し、このユニット化した洗浄室の間に脱水室を配設して
いることから、一方のユニットに貯留している洗浄液が
他方のユニットに貯留している洗浄液に混入することが
ない。従って、洗浄液の清浄度が長期間維持でき、洗浄
液の交換頻度が減少する。さらに、各洗浄室の処理槽内
に貯留した洗浄液を、リザーブ槽内の濾過材で濾過して
処理槽内に還流させていることから、洗浄液の高い清浄
度が長期間維持できる。
【0038】このような点から、本発明装置によれば、
精密機械部品、電子機器部品の洗浄・乾燥作業を長期に
わたって確実に、かつ、経済的に行なうことができる。
精密機械部品、電子機器部品の洗浄・乾燥作業を長期に
わたって確実に、かつ、経済的に行なうことができる。
【図1】本発明に係る超音波洗浄装置の正面図である。
【図2】本発明に係る超音波洗浄装置の平面図である。
【図3】本発明に係る超音波洗浄装置の側面図である。
【図4】洗浄室の断面図である。
【図5】(a)図はチャッカーの正面図であり、(b)
図は(a)図のA−A線での断面図である。
図は(a)図のA−A線での断面図である。
1st〜13st 作業ステーション 2 搬入コンベア 3a・3b 洗浄室(溶剤) 3d〜3g 洗浄室(市水・純水) 3c・3h 脱水室 4 乾燥室 5 搬出コンベヤ 6 トラバース機構 7 処理槽 8 洗浄液 9 リザーブ槽 11 濾過材 12 超音波振動源 13 噴流管 14 ポンプ 17 回転体 18 キャリア 22 熱風ブロアー 24 昇降フレーム 26 走行フレーム 27a〜27l チャッカー 40 集液通路 41 連通管 42 還流管 46 乾燥機
Claims (3)
- 【請求項1】 処理槽を有する洗浄室と遠心脱水槽を有
する脱水室とを搬入コンベヤと搬出コンベヤの間に一連
に並設して洗浄ユニットを構成し、この洗浄ユニット一
端部と上記搬出コンベヤとの間に乾燥機を有する乾燥室
を配設すると共に、上記洗浄室、脱水室、及び、乾燥室
の上方にトラバース機構を配設したものであって、 上記処理槽は、ワークを収容したキャリアを回転させる
回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動及び噴
流を生じさせる超音波振動源及び噴流管とを具備し、 上記遠心脱水槽は、キャリアを回転させる回転体を具備
し、 上記乾燥機は、キャリアに収容されたワークに清浄度の
高い熱風を吹き付けて当該ワークを乾燥させ、 上記トラバース機構は、昇降自在に配設された昇降フレ
ームと昇降フレームに連結した水平方向に移動自在の走
行フレームとを有し、該走行フレームにキャリアを吊り
下げ支持する複数のチャッカーを配設してキャリアを水
平方向に順送りさせることを特徴とする超音波洗浄装
置。 - 【請求項2】 処理槽を有する洗浄室と遠心脱水槽を有
する脱水室とを搬入コンベヤと搬出コンベヤの間に一連
に並設して洗浄ユニットを構成し、この洗浄ユニット一
端部と上記搬出コンベヤとの間に乾燥機を有する乾燥室
を配設すると共に、上記洗浄室、脱水室、及び、乾燥室
の上方にトラバース機構を配設したものであって、 上記処理槽は、ワークを収容したキャリアを回転させる
回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動及び噴
流を生じさせる超音波振動源及び噴流管とを具備し、 上記遠心脱水槽は、キャリアを回転させる回転体を具備
し、 上記乾燥機は、キャリアに収容されたワークに清浄度の
高い熱風を吹き付けて当該ワークを乾燥させ、 上記トラバース機構は、昇降自在に配設された昇降フレ
ームと昇降フレームに連結した水平方向に移動自在の走
行フレームとを有し、該走行フレームにキャリアを吊り
下げ支持する複数のチャッカーを配設してキャリアを水
平方向に順送りさせる超音波洗浄装置において、 上記洗浄室を、その処理槽内に同種の洗浄液を貯留して
いる洗浄室毎に隣接配置してユニット化し、このユニッ
ト化した洗浄室の間に脱水室を配設して上記洗浄ユニッ
トを構成したことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項3】 ワークを収容したキャリアを回転させる
回転体と、内部に貯留した洗浄液中に超音波振動及び噴
流を生じさせる超音波振動源及び噴流管とを具備する処
理槽と、 内部に濾過材を有するリザーブ槽と、 上記処理槽の周囲に構成し、処理槽の上端からオーバー
フローする洗浄液を回収する集液通路と、 上記集液通路とリザーブ槽内の濾過材とを連通する連通
管と、 上記リザーブ槽内の濾過材を通過した洗浄液をポンプを
介して処理槽に還流させる還流管とを有することを特徴
とする洗浄室。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13057691A JPH0596254A (ja) | 1990-05-07 | 1991-05-01 | 超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11797890 | 1990-05-07 | ||
| JP2-117978 | 1990-05-07 | ||
| JP13057691A JPH0596254A (ja) | 1990-05-07 | 1991-05-01 | 超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0596254A true JPH0596254A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=26455999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13057691A Pending JPH0596254A (ja) | 1990-05-07 | 1991-05-01 | 超音波洗浄装置並びに該装置に用いる洗浄槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0596254A (ja) |
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