JPH0596279A - 超純水の製造方法 - Google Patents
超純水の製造方法Info
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- JPH0596279A JPH0596279A JP3287216A JP28721691A JPH0596279A JP H0596279 A JPH0596279 A JP H0596279A JP 3287216 A JP3287216 A JP 3287216A JP 28721691 A JP28721691 A JP 28721691A JP H0596279 A JPH0596279 A JP H0596279A
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Landscapes
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 一次系純水製造装置と二次系純水製造装置と
で超純水を製造する方法において、一次系純水製造装置
に用いる膜分離装置の通水ライフを延長させ、超純水の
製造コストを低減させる。 【構成】 少なくともイオン交換装置および透過膜を内
蔵する膜分離装置を含む一次系純水製造装置と、二次系
純水製造装置とで超純水を製造する方法において、一次
系純水製造装置の膜分離装置の前段に荷電濾過体を内蔵
する濾過器を設置し、当該濾過器の濾過水を膜分離装置
で処理する。
で超純水を製造する方法において、一次系純水製造装置
に用いる膜分離装置の通水ライフを延長させ、超純水の
製造コストを低減させる。 【構成】 少なくともイオン交換装置および透過膜を内
蔵する膜分離装置を含む一次系純水製造装置と、二次系
純水製造装置とで超純水を製造する方法において、一次
系純水製造装置の膜分離装置の前段に荷電濾過体を内蔵
する濾過器を設置し、当該濾過器の濾過水を膜分離装置
で処理する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体洗浄用あるいは
医薬品製造用等に用いられる超純水の製造方法に関する
ものであり、特に一次系純水製造装置に用いられる精密
濾過装置（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（ＵＦ膜装
置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の透過膜を用いる
膜分離装置の圧力損失の上昇を低減する方法に関するも
のである。
医薬品製造用等に用いられる超純水の製造方法に関する
ものであり、特に一次系純水製造装置に用いられる精密
濾過装置（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（ＵＦ膜装
置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の透過膜を用いる
膜分離装置の圧力損失の上昇を低減する方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】半導体洗浄あるいは医薬品製造に用いら
れる水には電解質，微粒子，有機炭素，生菌等が極めて
少ない高度に精製された超高度純水、いわゆる超純水が
必要とされている。
れる水には電解質，微粒子，有機炭素，生菌等が極めて
少ない高度に精製された超高度純水、いわゆる超純水が
必要とされている。
【０００３】近年、これらの工業技術が高度化されるに
従い、要求される水質も高くなってきており、更に高度
に精製した超純水の製造が必要になっている。超純水は
従来から種々の単位装置の組み合わせで製造されるのが
一般的であり、たとえば半導体洗浄用の超純水の製造フ
ローの一例は図３の通りである。
従い、要求される水質も高くなってきており、更に高度
に精製した超純水の製造が必要になっている。超純水は
従来から種々の単位装置の組み合わせで製造されるのが
一般的であり、たとえば半導体洗浄用の超純水の製造フ
ローの一例は図３の通りである。
【０００４】すなわち上水，工業用水等の原水（イ）を
まず凝集沈殿，砂濾過，活性炭濾過などの前処理装置
（ロ）で処理した後、２床３塔式純水製造装置（ハ）で
処理し、次いで混床式純水製造装置（ニ）で処理し、次
いでＭＦ膜装置やＵＦ膜装置やＲＯ膜装置等の透過膜を
内蔵した膜分離装置（ホ）で処理して原水中に含まれる
大半の電解質，微粒子，有機炭素等の除去を行い、この
ような一次系純水製造装置（Ａ）から得られる一次純水
を貯槽（ヘ）に一旦貯留する。なお２床３塔式純水製造
装置（ハ）に用いる脱炭酸塔としては炭酸ガスとともに
溶存酸素も除去し得る真空脱気塔が用いられることが多
い。
まず凝集沈殿，砂濾過，活性炭濾過などの前処理装置
（ロ）で処理した後、２床３塔式純水製造装置（ハ）で
処理し、次いで混床式純水製造装置（ニ）で処理し、次
いでＭＦ膜装置やＵＦ膜装置やＲＯ膜装置等の透過膜を
内蔵した膜分離装置（ホ）で処理して原水中に含まれる
大半の電解質，微粒子，有機炭素等の除去を行い、この
ような一次系純水製造装置（Ａ）から得られる一次純水
を貯槽（ヘ）に一旦貯留する。なお２床３塔式純水製造
装置（ハ）に用いる脱炭酸塔としては炭酸ガスとともに
溶存酸素も除去し得る真空脱気塔が用いられることが多
い。
【０００５】貯槽（ヘ）に貯留した一次純水は更に紫外
線照射装置（ト），混床式ポリシャー（チ），ＵＦ膜装
置（リ）から構成される二次系純水製造装置（Ｂ）で処
理され、得られた超純水は循環配管（ヌ）を用いて前記
貯槽（ヘ）に循環され、また循環配管（ヌ）の途中に付
設したユースポイント（ル）から必要に応じて超純水が
採水される。またユースポイント（ル）より採用した超
純水を半導体の洗浄等に用いた後、その洗浄廃水（ヲ）
が水質的に良質なものは、紫外線酸化装置，活性炭濾過
装置，イオン交換装置，膜分離装置等を適当に組み合わ
せた回収装置（ワ）で処理され、一次系純水製造装置
（Ａ）に用いる原水の一部として回収される場合が多
い。
線照射装置（ト），混床式ポリシャー（チ），ＵＦ膜装
置（リ）から構成される二次系純水製造装置（Ｂ）で処
理され、得られた超純水は循環配管（ヌ）を用いて前記
貯槽（ヘ）に循環され、また循環配管（ヌ）の途中に付
設したユースポイント（ル）から必要に応じて超純水が
採水される。またユースポイント（ル）より採用した超
純水を半導体の洗浄等に用いた後、その洗浄廃水（ヲ）
が水質的に良質なものは、紫外線酸化装置，活性炭濾過
装置，イオン交換装置，膜分離装置等を適当に組み合わ
せた回収装置（ワ）で処理され、一次系純水製造装置
（Ａ）に用いる原水の一部として回収される場合が多
い。
【０００６】上記一次系純水製造装置（Ａ）で用いられ
る膜分離装置（ホ）は、圧力損失が増大した場合、薬品
等を用いる洗浄を用いその圧力損失の増大を回復した
り、あるいは上記洗浄によって膜が劣化したり、あるい
は上記洗浄による効果がなくなった場合、新しい透過膜
と交換される。よって膜分離装置（ホ）の洗浄の頻度、
あるいは透過膜の交換頻度が少なくなればなる程、その
ランニングコストは低減される。従来から膜分離装置
（ホ）の前段に、その膜分離装置に用いる透過膜の孔径
より大きい孔径を有する濾過体を内蔵した濾過器を設置
し、膜分離装置の圧力損失が増大するのを防止し、通水
ライフの延長を計ることが行われている。
る膜分離装置（ホ）は、圧力損失が増大した場合、薬品
等を用いる洗浄を用いその圧力損失の増大を回復した
り、あるいは上記洗浄によって膜が劣化したり、あるい
は上記洗浄による効果がなくなった場合、新しい透過膜
と交換される。よって膜分離装置（ホ）の洗浄の頻度、
あるいは透過膜の交換頻度が少なくなればなる程、その
ランニングコストは低減される。従来から膜分離装置
（ホ）の前段に、その膜分離装置に用いる透過膜の孔径
より大きい孔径を有する濾過体を内蔵した濾過器を設置
し、膜分離装置の圧力損失が増大するのを防止し、通水
ライフの延長を計ることが行われている。
【０００７】この場合、前段に用いる濾過体の孔径が後
段の膜分離装置に用いる透過膜の孔径に接近すればする
程、後段の膜分離装置の通水ライフは長くなるが、前段
濾過体の閉塞が早くなり、前段濾過体の交換頻度が多く
なり全体的なランニングコストの低減にはならない。一
方、前段に用いる濾過体の孔径を後段の膜分離装置に用
いる透過膜の孔径と比較して大きくすればする程、当然
なこととして前段濾過体の通水ライフは長くなる。しか
しこの場合は、後段の膜分離装置に用いる透過膜の通水
ライフの延長には効果がない。上述のような現象は透過
膜がＭＦ膜，ＵＦ膜，ＲＯ膜共に同様にあらわれる。
段の膜分離装置に用いる透過膜の孔径に接近すればする
程、後段の膜分離装置の通水ライフは長くなるが、前段
濾過体の閉塞が早くなり、前段濾過体の交換頻度が多く
なり全体的なランニングコストの低減にはならない。一
方、前段に用いる濾過体の孔径を後段の膜分離装置に用
いる透過膜の孔径と比較して大きくすればする程、当然
なこととして前段濾過体の通水ライフは長くなる。しか
しこの場合は、後段の膜分離装置に用いる透過膜の通水
ライフの延長には効果がない。上述のような現象は透過
膜がＭＦ膜，ＵＦ膜，ＲＯ膜共に同様にあらわれる。
【０００８】したがって膜分離装置の前段に濾過体を内
蔵する濾過器を設置した場合、両者共に通水ライフが延
び全体的なランニングコストが低減できることが強く望
まれている。
蔵する濾過器を設置した場合、両者共に通水ライフが延
び全体的なランニングコストが低減できることが強く望
まれている。
【０００９】
【発明が解決しようとする問題点】本発明はかかる問題
点に鑑みてなされたものであり、ＭＦ膜やＵＦ膜やＲＯ
膜等の透過膜を用いる膜分離装置の前段に、当該透過膜
の孔径より大きな孔径を有する濾過体を内蔵する濾過器
を設置する場合において、前段濾過器として通水ライフ
の長い比較的孔径の大きい濾過体を用い、しかも後段膜
分離装置の通水ライフを大幅に延長できる超純水の製造
方法を提供することを目的とする。
点に鑑みてなされたものであり、ＭＦ膜やＵＦ膜やＲＯ
膜等の透過膜を用いる膜分離装置の前段に、当該透過膜
の孔径より大きな孔径を有する濾過体を内蔵する濾過器
を設置する場合において、前段濾過器として通水ライフ
の長い比較的孔径の大きい濾過体を用い、しかも後段膜
分離装置の通水ライフを大幅に延長できる超純水の製造
方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【問題点を解決するための手段】上記目的を達成するた
めになされた本発明よりなる超純水の製造方法は、原水
を少なくともイオン交換装置および透過膜を内蔵する膜
分離装置を含む一次系純水製造装置で処理し、当該一次
系純水製造装置から得られる一次純水を二次系純水製造
装置で更に処理して超純水を製造する方法において、一
次系純水製造装置に用いる膜分離装置の前段に荷電濾過
体を内蔵する濾過器を設置し、当該濾過器の濾過水を膜
分離装置で処理することを特徴とするものである。
めになされた本発明よりなる超純水の製造方法は、原水
を少なくともイオン交換装置および透過膜を内蔵する膜
分離装置を含む一次系純水製造装置で処理し、当該一次
系純水製造装置から得られる一次純水を二次系純水製造
装置で更に処理して超純水を製造する方法において、一
次系純水製造装置に用いる膜分離装置の前段に荷電濾過
体を内蔵する濾過器を設置し、当該濾過器の濾過水を膜
分離装置で処理することを特徴とするものである。
【００１１】図１は本発明の実施態様の一例である半導
体洗浄用の超純水を製造するフローを示す説明図であ
る。上水，工業用水等の原水１をまず凝集沈殿装置，砂
濾過器あるいはマイクロフロック濾過器等の前処理装置
２で処理して原水中の懸濁物質等を除く。次いで真空脱
気塔を脱炭酸塔として用いる２床３塔式純水製造装置３
で処理して純水を製造し、当該純水を混床式純水製造装
置４で更に処理して比較的比抵抗率の高い純水を製造す
る。次いで荷電濾過体を内蔵する濾過器５で純水を処理
して、当該純水中に存在する微粒子を除去した後、当該
荷電濾過体の孔径より小さい孔径を有する透過膜を用い
る精密濾過器（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（ＵＦ膜
装置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の膜分離装置６
で処理して残留する微粒子，ＴＯＣ等を除去する。
体洗浄用の超純水を製造するフローを示す説明図であ
る。上水，工業用水等の原水１をまず凝集沈殿装置，砂
濾過器あるいはマイクロフロック濾過器等の前処理装置
２で処理して原水中の懸濁物質等を除く。次いで真空脱
気塔を脱炭酸塔として用いる２床３塔式純水製造装置３
で処理して純水を製造し、当該純水を混床式純水製造装
置４で更に処理して比較的比抵抗率の高い純水を製造す
る。次いで荷電濾過体を内蔵する濾過器５で純水を処理
して、当該純水中に存在する微粒子を除去した後、当該
荷電濾過体の孔径より小さい孔径を有する透過膜を用い
る精密濾過器（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（ＵＦ膜
装置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の膜分離装置６
で処理して残留する微粒子，ＴＯＣ等を除去する。
【００１２】このような一次系純水製造装置（Ａ）で得
た一次純水を貯槽７で受け、次いで紫外線照射装置８，
混床式ポリシャー９，ＵＦ膜装置１０からなる二次系純
水製造装置（Ｂ）で処理して超純水を得る。得られた超
純水は循環配管１１を用いて貯槽７に循環し、循環配管
１１の途中に設けたユースポイント１２により必要に応
じて採水し、半導体の洗浄に供する。なお半導体を洗浄
することにより得られる洗浄廃水の内、比較的水質が良
好な洗浄廃水は図３に示したと同様に、これを回収処理
し、一次系純水製造装置の原水の一部として用いること
もできる。図１では２床３塔式純水製造装置３，混床式
純水製造装置４等のイオン交換装置の後段に膜分離装置
６を設置したが、膜分離装置６の設置位置はこれに限定
されず、イオン交換装置の前段に設置することもでき
る。但し、荷電濾過体を内蔵する濾過器５は必ず膜分離
装置６の前段に設置する。
た一次純水を貯槽７で受け、次いで紫外線照射装置８，
混床式ポリシャー９，ＵＦ膜装置１０からなる二次系純
水製造装置（Ｂ）で処理して超純水を得る。得られた超
純水は循環配管１１を用いて貯槽７に循環し、循環配管
１１の途中に設けたユースポイント１２により必要に応
じて採水し、半導体の洗浄に供する。なお半導体を洗浄
することにより得られる洗浄廃水の内、比較的水質が良
好な洗浄廃水は図３に示したと同様に、これを回収処理
し、一次系純水製造装置の原水の一部として用いること
もできる。図１では２床３塔式純水製造装置３，混床式
純水製造装置４等のイオン交換装置の後段に膜分離装置
６を設置したが、膜分離装置６の設置位置はこれに限定
されず、イオン交換装置の前段に設置することもでき
る。但し、荷電濾過体を内蔵する濾過器５は必ず膜分離
装置６の前段に設置する。
【００１３】本発明に用いる濾過器５はプラス荷電ある
いはマイナス荷電を有する荷電濾過体を内蔵するもので
あって、またその孔径は後段に設置する膜分離装置６に
用いる透過膜の孔径よりかなり大きいものを用いる。荷
電濾過体の形状はプリー状，平膜状，中空糸状，スパイ
ラル状等のいかなる形状のものも使用でき、またその材
質はポリスルフォン，ナイロン，ポリプロピレン，ポリ
エステル等あらゆるものを使用することができる。この
ような荷電濾過体を内蔵する濾過器５を膜分離装置６の
前段に設置することにより、膜分離装置６の通水ライフ
を飛躍的に延長させることができる。
いはマイナス荷電を有する荷電濾過体を内蔵するもので
あって、またその孔径は後段に設置する膜分離装置６に
用いる透過膜の孔径よりかなり大きいものを用いる。荷
電濾過体の形状はプリー状，平膜状，中空糸状，スパイ
ラル状等のいかなる形状のものも使用でき、またその材
質はポリスルフォン，ナイロン，ポリプロピレン，ポリ
エステル等あらゆるものを使用することができる。この
ような荷電濾過体を内蔵する濾過器５を膜分離装置６の
前段に設置することにより、膜分離装置６の通水ライフ
を飛躍的に延長させることができる。
【００１４】なお当該濾過器５として孔径が同じである
が荷電を有しない濾過体を用いた場合、被処理水中の微
粒子が漏洩するため後段の膜分離装置６の通水ライフの
延長にはあまり効果がない。荷電を有しない濾過体を用
いて、荷電を有した濾過体を用いたと同様な効果を得る
ためには、当該濾過体の孔径をかなり小さいものとしな
ければならず、その結果濾過器５の通水ライフが短くな
り全体的なランニングコストの低減にはならない。
が荷電を有しない濾過体を用いた場合、被処理水中の微
粒子が漏洩するため後段の膜分離装置６の通水ライフの
延長にはあまり効果がない。荷電を有しない濾過体を用
いて、荷電を有した濾過体を用いたと同様な効果を得る
ためには、当該濾過体の孔径をかなり小さいものとしな
ければならず、その結果濾過器５の通水ライフが短くな
り全体的なランニングコストの低減にはならない。
【００１５】
【作用】水中に存在する微粒子は通常マイナスかあるい
はプラスの荷電を有しているが、たとえばマイナス荷電
を有する微粒子をプラス荷電を有する濾過体で濾過した
場合、いわゆる孔径による濾過作用だけでなく静電気的
な吸着作用によっても微粒子が除去される。本発明の場
合、比較的大きい孔径を有する濾過体を内蔵する濾過器
を用いても後段に設置する膜分離装置の通水ライフを延
長させることができるのは、本来であれば濾過体を通過
してしまうような比較的小さい微粒子が静電気的な吸着
作用によって除去されるためと考えられる。このように
濾過器５に用いる濾過体として荷電濾過体を用いること
により、濾過器５および膜分離装置６の両者共にその通
水ライフを延長させることができるが、処理する水によ
ってプラス荷電を有する濾過体が効果的な場合と、マイ
ナス荷電を有する濾過体が効果的な場合がある。
はプラスの荷電を有しているが、たとえばマイナス荷電
を有する微粒子をプラス荷電を有する濾過体で濾過した
場合、いわゆる孔径による濾過作用だけでなく静電気的
な吸着作用によっても微粒子が除去される。本発明の場
合、比較的大きい孔径を有する濾過体を内蔵する濾過器
を用いても後段に設置する膜分離装置の通水ライフを延
長させることができるのは、本来であれば濾過体を通過
してしまうような比較的小さい微粒子が静電気的な吸着
作用によって除去されるためと考えられる。このように
濾過器５に用いる濾過体として荷電濾過体を用いること
により、濾過器５および膜分離装置６の両者共にその通
水ライフを延長させることができるが、処理する水によ
ってプラス荷電を有する濾過体が効果的な場合と、マイ
ナス荷電を有する濾過体が効果的な場合がある。
【００１６】したがって処理する水によってどちらかを
選定することが必要となるが、ほとんどの水はプラス荷
電を有する濾過体が効果的である。この理由は水中に含
まれる微粒子がほとんどの場合、マイナス荷電となって
いるためと考えられる。しかし時として微粒子がプラス
荷電となっている被処理水も存在するので、このような
場合マイナス荷電を有する濾過体を用いるとよい。
選定することが必要となるが、ほとんどの水はプラス荷
電を有する濾過体が効果的である。この理由は水中に含
まれる微粒子がほとんどの場合、マイナス荷電となって
いるためと考えられる。しかし時として微粒子がプラス
荷電となっている被処理水も存在するので、このような
場合マイナス荷電を有する濾過体を用いるとよい。
【００１７】
【効果】以上説明したごとく本発明によって一次系純水
製造装置に用いられるＭＦ膜装置，ＵＦ膜装置，ＲＯ膜
装置等の透過膜を用いる膜分離装置の通水ライフを延長
することができる。また膜分離装置の前段に設置する濾
過器は孔径の大きな濾過体を用いることができるので濾
過器の通水ライフも長く、したがって超純水の全体的な
製造コストを低減させることができる。
製造装置に用いられるＭＦ膜装置，ＵＦ膜装置，ＲＯ膜
装置等の透過膜を用いる膜分離装置の通水ライフを延長
することができる。また膜分離装置の前段に設置する濾
過器は孔径の大きな濾過体を用いることができるので濾
過器の通水ライフも長く、したがって超純水の全体的な
製造コストを低減させることができる。
【００１８】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明するが、本発明
は以下の実施例に限定されるものではない。上水を前処
理装置およびイオン交換装置で処理することにより得た
比抵抗率１０ＭΩ−ｃｍの純水をＵＦ膜（ＦＩＴ３０１
６、旭化成（株）製）を内蔵した膜分離装置で処理する
にあたり、前段でプラス荷電を有する孔径１０μのナイ
ロン製の濾過体を内蔵する濾過器で処理し、その濾過水
を前記膜分離装置で処理した。その際の処理日数と膜分
離装置の圧力損失の上昇の関係を図２のＡに示した。一
方比較のため同じ純水を濾過器で処理することなく、そ
のまま同じ膜分離装置で処理した場合の結果を図２のＢ
に示した。また同じ純水を荷電を有していない孔径１０
μの濾過体を内蔵する濾過器で処理し、その濾過水を同
じ膜分離装置で処理した場合の結果を図２のＣに示し
た。
は以下の実施例に限定されるものではない。上水を前処
理装置およびイオン交換装置で処理することにより得た
比抵抗率１０ＭΩ−ｃｍの純水をＵＦ膜（ＦＩＴ３０１
６、旭化成（株）製）を内蔵した膜分離装置で処理する
にあたり、前段でプラス荷電を有する孔径１０μのナイ
ロン製の濾過体を内蔵する濾過器で処理し、その濾過水
を前記膜分離装置で処理した。その際の処理日数と膜分
離装置の圧力損失の上昇の関係を図２のＡに示した。一
方比較のため同じ純水を濾過器で処理することなく、そ
のまま同じ膜分離装置で処理した場合の結果を図２のＢ
に示した。また同じ純水を荷電を有していない孔径１０
μの濾過体を内蔵する濾過器で処理し、その濾過水を同
じ膜分離装置で処理した場合の結果を図２のＣに示し
た。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施態様の一例である半導体洗浄用の
超純水を製造するフローの説明図である。
超純水を製造するフローの説明図である。
【図２】実施例の膜分離装置の通水結果を示すグラフで
ある。
ある。
【図３】従来の半導体洗浄用の超純水の製造フローを示
す説明図である。
す説明図である。
１：原水 ２：前処理装置 ３：２床３塔式純水製造装置 ４：混床式純水製造装置 ５：濾過器 ６：膜分離装置 ７：貯槽 ８：紫外線照射装置 ９：混床式ポリシャー １０：ＵＦ膜装置 １１：循環配管 １２：ユースポイント
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年９月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体洗浄用あるいは
医薬品製造用等に用いられる超純水の製造方法に関する
ものであり、特に一次系純水製造装置に用いられる精密
濾過膜装置（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（ＵＦ膜装
置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の透過膜を用いる
膜分離装置の圧力損失の上昇を低減する方法に関するも
のである。
医薬品製造用等に用いられる超純水の製造方法に関する
ものであり、特に一次系純水製造装置に用いられる精密
濾過膜装置（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（ＵＦ膜装
置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の透過膜を用いる
膜分離装置の圧力損失の上昇を低減する方法に関するも
のである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】貯槽（へ）に貯留した一次純水は更に紫外
線照射装置（ト），混床式ポリシャー（チ），ＵＦ膜装
置（リ）から構成される二次系純水製造装置（Ｂ）で処
理され、得られた超純水は循環配管（ヌ）を用いて前記
貯槽（ヘ）に循環され、また循環配管（ヌ）の途中に付
設したユースポイント（ル）から必要に応じて超純水が
採水される。またユースポイント（ル）より採水した超
純水を半導体の洗浄等に用いた後、その洗浄廃水（ヲ）
が水質的に良質なものは、紫外線酸化装置，活性炭濾過
装置，イオン交換装置，膜分離装置等を適当に組み合わ
せた回収装置（ワ）で処理され、一次系純水製造装置
（Ａ）に用いる原水の一部として回収される場合が多
い。
線照射装置（ト），混床式ポリシャー（チ），ＵＦ膜装
置（リ）から構成される二次系純水製造装置（Ｂ）で処
理され、得られた超純水は循環配管（ヌ）を用いて前記
貯槽（ヘ）に循環され、また循環配管（ヌ）の途中に付
設したユースポイント（ル）から必要に応じて超純水が
採水される。またユースポイント（ル）より採水した超
純水を半導体の洗浄等に用いた後、その洗浄廃水（ヲ）
が水質的に良質なものは、紫外線酸化装置，活性炭濾過
装置，イオン交換装置，膜分離装置等を適当に組み合わ
せた回収装置（ワ）で処理され、一次系純水製造装置
（Ａ）に用いる原水の一部として回収される場合が多
い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】上記一次系純水製造装置（Ａ）で用いられ
る膜分離装置（ホ）は、圧力損失が増大した場合、薬品
等を用いる洗浄を行いその圧力損失の増大を回復した
り、あるいは上記洗浄によって膜が劣化したり、あるい
は上記洗浄による効果がなくなった場合、新しい透過膜
と交換される。よって膜分離装置（ホ）の洗浄の頻度、
あるいは透過膜の交換頻度が少なくなればなる程、その
ランニングコストは低減される。従来から膜分離装置
（ホ）の前段に、その膜分離装置に用いる透過膜の孔径
より大きい孔径を有する濾過体を内蔵した濾過器を設置
し、膜分離装置の圧力損失が増大するのを防止し、通水
ライフの延長を計ることが行われている。
る膜分離装置（ホ）は、圧力損失が増大した場合、薬品
等を用いる洗浄を行いその圧力損失の増大を回復した
り、あるいは上記洗浄によって膜が劣化したり、あるい
は上記洗浄による効果がなくなった場合、新しい透過膜
と交換される。よって膜分離装置（ホ）の洗浄の頻度、
あるいは透過膜の交換頻度が少なくなればなる程、その
ランニングコストは低減される。従来から膜分離装置
（ホ）の前段に、その膜分離装置に用いる透過膜の孔径
より大きい孔径を有する濾過体を内蔵した濾過器を設置
し、膜分離装置の圧力損失が増大するのを防止し、通水
ライフの延長を計ることが行われている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】図１は本発明の実施態様の一例である半導
体洗浄用の超純水を製造するフローを示す説明図であ
る。上水，工業用水等の原水１をまず凝集沈澱装置，砂
濾過器あるいはマイクロフロック濾過器等の前処理装置
２で処理して原水中の懸濁物質等を除く。次いで真空脱
気塔を脱炭酸塔として用いる２床３塔式純水製造装置３
で処理して純水を製造し、当該純水を混床式純水製造装
置４で更に処理して比較的比抵抗率の高い純水を製造す
る。次いで荷電濾過体を内蔵する濾過器５で純水を処理
して、当該純水中に存在する微粒子を除去した後、当該
荷電濾過体の孔径より小さい孔径を有する透過膜を用い
る精密濾過膜装置（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（Ｕ
Ｆ膜装置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の膜分離装
置６で処理して残留する微粒子，ＴＯＣ等を除去する。
体洗浄用の超純水を製造するフローを示す説明図であ
る。上水，工業用水等の原水１をまず凝集沈澱装置，砂
濾過器あるいはマイクロフロック濾過器等の前処理装置
２で処理して原水中の懸濁物質等を除く。次いで真空脱
気塔を脱炭酸塔として用いる２床３塔式純水製造装置３
で処理して純水を製造し、当該純水を混床式純水製造装
置４で更に処理して比較的比抵抗率の高い純水を製造す
る。次いで荷電濾過体を内蔵する濾過器５で純水を処理
して、当該純水中に存在する微粒子を除去した後、当該
荷電濾過体の孔径より小さい孔径を有する透過膜を用い
る精密濾過膜装置（ＭＦ膜装置）や限外濾過膜装置（Ｕ
Ｆ膜装置）や逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）等の膜分離装
置６で処理して残留する微粒子，ＴＯＣ等を除去する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】本発明に用いる濾過器５はプラス荷電ある
いはマイナス荷電を有する荷電濾過体を内蔵するもので
あって、またその孔径は後段に設置する膜分離装置６に
用いる透過膜の孔径よりかなり大きいものを用いる。荷
電濾過体の形状はプリーツ状，平膜状，中空糸状，スパ
イラル状等のいかなる形状のものも使用でき、またその
材質はポリスルフォン，ナイロン，ポリプロピレン，ポ
リエステル等あらゆるものを使用することができる。こ
のような荷電濾過体を内蔵する濾過器５を膜分離装置６
の前段に設置することにより、膜分離装置６の通水ライ
フを飛躍的に延長させることができる。
いはマイナス荷電を有する荷電濾過体を内蔵するもので
あって、またその孔径は後段に設置する膜分離装置６に
用いる透過膜の孔径よりかなり大きいものを用いる。荷
電濾過体の形状はプリーツ状，平膜状，中空糸状，スパ
イラル状等のいかなる形状のものも使用でき、またその
材質はポリスルフォン，ナイロン，ポリプロピレン，ポ
リエステル等あらゆるものを使用することができる。こ
のような荷電濾過体を内蔵する濾過器５を膜分離装置６
の前段に設置することにより、膜分離装置６の通水ライ
フを飛躍的に延長させることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 原水を少なくともイオン交換装置および
透過膜を内蔵する膜分離装置を含む一次系純水製造装置
で処理し、当該一次系純水製造装置から得られる一次純
水を二次系純水製造装置でさらに処理して超純水を製造
する方法において、一次系純水製造装置に用いる膜分離
装置の前段に荷電濾過体を内蔵する濾過器を設置し、当
該濾過器の濾過水を膜分離装置で処理することを特徴と
する超純水の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の濾過器がプラス荷電を
有する濾過体を内蔵する濾過器である超純水の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3287216A JPH0596279A (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | 超純水の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3287216A JPH0596279A (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | 超純水の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0596279A true JPH0596279A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=17714555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3287216A Pending JPH0596279A (ja) | 1991-10-08 | 1991-10-08 | 超純水の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0596279A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996003350A1 (en) * | 1994-07-22 | 1996-02-08 | Organo Corporation | Method of manufacturing pure water or ultrapure water and apparatus for manufacturing the same |
| JP2014168743A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造方法 |
-
1991
- 1991-10-08 JP JP3287216A patent/JPH0596279A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996003350A1 (en) * | 1994-07-22 | 1996-02-08 | Organo Corporation | Method of manufacturing pure water or ultrapure water and apparatus for manufacturing the same |
| GB2295822A (en) * | 1994-07-22 | 1996-06-12 | Organo Corp | Method of manufacturing pure water or ultrapure water and apparatus for manufacturing the same |
| GB2295822B (en) * | 1994-07-22 | 1998-02-04 | Organo Corp | Purifying water using a boron selective ion exchange resin |
| US5811012A (en) * | 1994-07-22 | 1998-09-22 | Organo Corporation | Deionized water or high purity water producing method and apparatus |
| JP2014168743A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 純水製造方法 |
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