JPH059707A - 二硫化モリブデン膜の製造方法 - Google Patents
二硫化モリブデン膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH059707A JPH059707A JP18514791A JP18514791A JPH059707A JP H059707 A JPH059707 A JP H059707A JP 18514791 A JP18514791 A JP 18514791A JP 18514791 A JP18514791 A JP 18514791A JP H059707 A JPH059707 A JP H059707A
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- JP
- Japan
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- target
- sample
- rotary table
- molybdenum disulfide
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 真空チャンバ１の中に二硫化モリブデンから
なるターゲット２とターゲット２に間隔を置いて対向す
る回転テーブル３を設け、回転テーブル３上にターゲッ
ト２に対向するように試料４を載置し、ターゲット２と
試料４の間に回転テーブル３と試料４を覆うカバー６を
設け、カバー６のターゲット２に対向する位置にターゲ
ット２とほぼ同じ外径の貫通穴６１を設けて、回転テー
ブルを回転しながら貫通穴６１を通してスパッタを行う
二硫化モリブデン膜の製造方法である。 【効果】 試料がターゲット直下近辺以外にある時はカ
バーによってスパッタ粒子の付着が防止されるので、試
料の表面に均一なスパッタ膜が得られる。
なるターゲット２とターゲット２に間隔を置いて対向す
る回転テーブル３を設け、回転テーブル３上にターゲッ
ト２に対向するように試料４を載置し、ターゲット２と
試料４の間に回転テーブル３と試料４を覆うカバー６を
設け、カバー６のターゲット２に対向する位置にターゲ
ット２とほぼ同じ外径の貫通穴６１を設けて、回転テー
ブルを回転しながら貫通穴６１を通してスパッタを行う
二硫化モリブデン膜の製造方法である。 【効果】 試料がターゲット直下近辺以外にある時はカ
バーによってスパッタ粒子の付着が防止されるので、試
料の表面に均一なスパッタ膜が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固体潤滑膜などに使用
される二硫化モリブデン膜の製造方法に関する。
される二硫化モリブデン膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、二硫化モリブデン膜をスパッタリ
ング法によって試料に形成する場合、スパッタ装置は図
２に示すように、真空チャンバー１の中の上部に二硫化
モリブデンからなるターゲット２を設け、下方の真空チ
ャンバー１のベース１１には回転テーブル３を設けてタ
ーゲット２に対向する位置に試料４を載置する。ターゲ
ット２と試料４との間には回転シャッタ５を設け、スパ
ッタ時間を調節している。多数個の試料をスパッタする
ためには、回転テーブル３のターゲット２に対向する円
周上に試料４を多数個取り付け、回転テーブル３を回転
してスパッタを行う。
ング法によって試料に形成する場合、スパッタ装置は図
２に示すように、真空チャンバー１の中の上部に二硫化
モリブデンからなるターゲット２を設け、下方の真空チ
ャンバー１のベース１１には回転テーブル３を設けてタ
ーゲット２に対向する位置に試料４を載置する。ターゲ
ット２と試料４との間には回転シャッタ５を設け、スパ
ッタ時間を調節している。多数個の試料をスパッタする
ためには、回転テーブル３のターゲット２に対向する円
周上に試料４を多数個取り付け、回転テーブル３を回転
してスパッタを行う。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記構成で
回転テーブル３を回転させてスパッタを行う場合、試料
４がターゲット２の直下にある時と、ターゲット２から
最も遠く離れた時の試料４上に形成されるスパッタ膜の
特性が異なるので、積層された膜は要求される特性が得
られないという問題点があった。本発明は、回転テーブ
ルにより試料を回転させてスパッタする場合でも、要求
される膜特性を得られるようにすることを目的とするも
のである。
回転テーブル３を回転させてスパッタを行う場合、試料
４がターゲット２の直下にある時と、ターゲット２から
最も遠く離れた時の試料４上に形成されるスパッタ膜の
特性が異なるので、積層された膜は要求される特性が得
られないという問題点があった。本発明は、回転テーブ
ルにより試料を回転させてスパッタする場合でも、要求
される膜特性を得られるようにすることを目的とするも
のである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空チャンバ
の中に二硫化モリブデンからなるターゲットと前記ター
ゲットに間隔を置いて対向する回転テーブルを設け、前
記回転テーブル上に前記ターゲットに対向するように試
料を載置し、前記回転テーブルを回転させてスパッタを
行う二硫化モリブデン膜の製造方法において、前記ター
ゲットと前記試料の間に前記回転テーブルと前記試料を
覆うカバーを設け、前記カバーの前記ターゲットに対向
する位置に貫通穴を設けて、前記貫通穴を通してスパッ
タを行う方法である。
の中に二硫化モリブデンからなるターゲットと前記ター
ゲットに間隔を置いて対向する回転テーブルを設け、前
記回転テーブル上に前記ターゲットに対向するように試
料を載置し、前記回転テーブルを回転させてスパッタを
行う二硫化モリブデン膜の製造方法において、前記ター
ゲットと前記試料の間に前記回転テーブルと前記試料を
覆うカバーを設け、前記カバーの前記ターゲットに対向
する位置に貫通穴を設けて、前記貫通穴を通してスパッ
タを行う方法である。
【０００５】
【作用】上記手段により、試料に付着するターゲットか
らの粒子の特性は、試料とターゲットの間の距離により
影響を受けるが、試料がターゲット直下近辺以外にある
時はカバーによってスパッタ粒子の付着が防止されるの
で、試料には常に試料とターゲット間の距離が一定の状
態でスパッタされるため、特性が均一のスパッタ膜を作
ることができる。
らの粒子の特性は、試料とターゲットの間の距離により
影響を受けるが、試料がターゲット直下近辺以外にある
時はカバーによってスパッタ粒子の付着が防止されるの
で、試料には常に試料とターゲット間の距離が一定の状
態でスパッタされるため、特性が均一のスパッタ膜を作
ることができる。
【０００６】
【実施例】本発明を図に示す実施例について説明する。
図１は本発明の実施例を示す側断面図で、真空チャンバ
ー１の中の上部に二硫化モリブデンからなるターゲット
２を設け、下方には回転テーブル３を設けてターゲット
２に対向する位置に試料４を載置し、ターゲット２と試
料４との間に回転シャッタ５を設けた構成は従来と同じ
である。従来例と異なるのは、回転シャッタ５と試料４
との間に試料４および回転テーブル３を覆うカバー６を
ベース１１に固定してある。カバー６のターゲット２の
直下にはターゲット２の外径とほぼ同じ大きさの径の貫
通穴６１を設けてある。ここで、ＭｏＳ2 からなるター
ゲット２でＳＵＳ４４０Ｃからなる円盤状の試料４に潤
滑効果を持たせるためにＭｏＳ2 スパッタ膜を形成した
例を説明する。潤滑効果の評価には、Ｐｉｎ−Ｏｎ−Ｄ
ｉｓｋすべり摩擦試験機を用い、以下の試験条件で試験
を行った時、摩擦係数が０．４に達するまでの総回転数
で評価した。 （１）試験条件 試料円盤の材質…ＳＵＳ４４０Ｃ ボールの材質 …ＳＵＳ４４０Ｃ 面圧 …９８Ｋｇｆ／ｍｍ2 すべり速度 …０．１ｍ／ｓ 温度 …室温 湿度 …９０％Ｒ・Ｈ （２）試験結果 摩擦係数が０．４に達するまでの総回転数は次のとお
り。 以上の結果より、回転テーブルを静止した状態でスパ
ッタした場合の総回転数２３３０に対して、従来例で回
転テーブルを回転させると、総回転数が８００回転に低
下する。しかし、本発明の実施例では、総回転数が３３
００回となり、回転テーブルを回転することによるＭｏ
Ｓ2 スパッタ膜の潤滑効果の低下を防止できることがわ
かる
図１は本発明の実施例を示す側断面図で、真空チャンバ
ー１の中の上部に二硫化モリブデンからなるターゲット
２を設け、下方には回転テーブル３を設けてターゲット
２に対向する位置に試料４を載置し、ターゲット２と試
料４との間に回転シャッタ５を設けた構成は従来と同じ
である。従来例と異なるのは、回転シャッタ５と試料４
との間に試料４および回転テーブル３を覆うカバー６を
ベース１１に固定してある。カバー６のターゲット２の
直下にはターゲット２の外径とほぼ同じ大きさの径の貫
通穴６１を設けてある。ここで、ＭｏＳ2 からなるター
ゲット２でＳＵＳ４４０Ｃからなる円盤状の試料４に潤
滑効果を持たせるためにＭｏＳ2 スパッタ膜を形成した
例を説明する。潤滑効果の評価には、Ｐｉｎ−Ｏｎ−Ｄ
ｉｓｋすべり摩擦試験機を用い、以下の試験条件で試験
を行った時、摩擦係数が０．４に達するまでの総回転数
で評価した。 （１）試験条件 試料円盤の材質…ＳＵＳ４４０Ｃ ボールの材質 …ＳＵＳ４４０Ｃ 面圧 …９８Ｋｇｆ／ｍｍ2 すべり速度 …０．１ｍ／ｓ 温度 …室温 湿度 …９０％Ｒ・Ｈ （２）試験結果 摩擦係数が０．４に達するまでの総回転数は次のとお
り。 以上の結果より、回転テーブルを静止した状態でスパ
ッタした場合の総回転数２３３０に対して、従来例で回
転テーブルを回転させると、総回転数が８００回転に低
下する。しかし、本発明の実施例では、総回転数が３３
００回となり、回転テーブルを回転することによるＭｏ
Ｓ2 スパッタ膜の潤滑効果の低下を防止できることがわ
かる
【０００７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、試
料がターゲット直下近辺以外にある時はカバーによって
スパッタ粒子の付着が防止されるので、均一な特性のス
パッタ膜が得られる。また、多量の試料を一度にスパッ
タ膜の特性を低下させることなくスパッタ処理できるの
で、スパッタ膜の処理時間が短縮され、スパッタ膜形成
作業のコストダウンを図ることができる効果がある。
料がターゲット直下近辺以外にある時はカバーによって
スパッタ粒子の付着が防止されるので、均一な特性のス
パッタ膜が得られる。また、多量の試料を一度にスパッ
タ膜の特性を低下させることなくスパッタ処理できるの
で、スパッタ膜の処理時間が短縮され、スパッタ膜形成
作業のコストダウンを図ることができる効果がある。
【図１】本発明の実施例を示す側断面図である。
【図２】従来例を示す側断面図である。
１ 真空チャンバー １１ ベース ２ ターゲット ３ 回転テーブル ４ 試料 ５ 回転シャッタ ６ カバー ６１ 貫通穴
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 真空チャンバの中に二硫化モリブデンか
らなるターゲットと前記ターゲットに間隔を置いて対向
する回転テーブルを設け、前記回転テーブル上に前記タ
ーゲットに対向するように試料を載置し、前記回転テー
ブルを回転させてスパッタを行う二硫化モリブデン膜の
製造方法において、前記ターゲットと前記試料の間に前
記回転テーブルと前記試料を覆うカバーを設け、前記カ
バーの前記ターゲットに対向する位置に貫通穴を設け
て、前記貫通穴を通してスパッタを行うことを特徴とす
る二硫化モリブデン膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18514791A JPH059707A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 二硫化モリブデン膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18514791A JPH059707A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 二硫化モリブデン膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059707A true JPH059707A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=16165689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18514791A Pending JPH059707A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 二硫化モリブデン膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH059707A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1043366C (zh) * | 1994-07-14 | 1999-05-12 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种共溅射固体润滑薄膜及其制备方法 |
| US8985359B2 (en) | 2011-03-28 | 2015-03-24 | Corning Incorporated | Container cap with kink-resistant connector |
| DE102007014411B4 (de) | 2006-03-30 | 2019-05-09 | Daido Metal Co., Ltd. | Gleitmaterial und Verfahren zur Herstellung seiner Überzugsschicht |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP18514791A patent/JPH059707A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1043366C (zh) * | 1994-07-14 | 1999-05-12 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种共溅射固体润滑薄膜及其制备方法 |
| DE102007014411B4 (de) | 2006-03-30 | 2019-05-09 | Daido Metal Co., Ltd. | Gleitmaterial und Verfahren zur Herstellung seiner Überzugsschicht |
| US8985359B2 (en) | 2011-03-28 | 2015-03-24 | Corning Incorporated | Container cap with kink-resistant connector |
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