JPH0597746A - ビスフエノールａ・フエノール結晶アダクト粉末の製造方法 - Google Patents
ビスフエノールａ・フエノール結晶アダクト粉末の製造方法Info
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- JPH0597746A JPH0597746A JP29221491A JP29221491A JPH0597746A JP H0597746 A JPH0597746 A JP H0597746A JP 29221491 A JP29221491 A JP 29221491A JP 29221491 A JP29221491 A JP 29221491A JP H0597746 A JPH0597746 A JP H0597746A
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- Japan
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- phenol
- crystal adduct
- bisphenol
- organic solvent
- wet cake
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高純度でかつ色相にすぐれるとともに、取扱
いの容易な高品質の結晶アダクト粉末を製造する方法を
提供する。 【構成】 ビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクト
を含むフェノール溶液を固液分離して得られた湿潤ケー
キを、フェノールに対して可溶性を示す、沸点６０〜１
２０℃の有機溶剤で洗浄した後、該ケーキに付着する有
機溶剤を除去し、乾燥することを特徴とするビスフェノ
ールＡ・フェノール結晶アダクト粉末の製造方法。
いの容易な高品質の結晶アダクト粉末を製造する方法を
提供する。 【構成】 ビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクト
を含むフェノール溶液を固液分離して得られた湿潤ケー
キを、フェノールに対して可溶性を示す、沸点６０〜１
２０℃の有機溶剤で洗浄した後、該ケーキに付着する有
機溶剤を除去し、乾燥することを特徴とするビスフェノ
ールＡ・フェノール結晶アダクト粉末の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールＡ・フ
ェノール結晶アダクト粉末の製造方法に関するものであ
る。
ェノール結晶アダクト粉末の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】ビスフェノールＡ〔２，２
−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン〕を製造
するために、酸触媒の存在下、過剰のフェノールにアセ
トンを反応させることは知られている。また、この反応
生成物から高純度ビスフェノールＡを分離回収するため
に、反応生成物を冷却してビスフェノールＡとフェノー
ルとの結晶アダクト（以下、単に結晶アダクトとも言
う）を析出させ、得られた結晶アダクトからフェノール
を除去することも知られている。このようなビスフェノ
ールＡの製造方法において、製品として回収されるビス
フェノールＡの純度及び色相は、その結晶アダクトの純
度及び色相に大きく依存し、高純度で色相の良い結晶ア
ダクトの製造方法が要望される。過剰のフェノールにア
セトンを反応させて得られるビスフェノールＡを含むフ
ェノール溶液から高純度結晶アダクトを得るために、そ
のフェノール溶液を、複数段の晶析工程をその中間に必
要に応じて結晶アダクトの分離工程と溶解工程を介して
結合した一連の晶析工程によって処理する方法は知られ
ている。このような複数段の晶析工程により晶析処理し
て得られる結晶アダクトは比較的高純度のものである
が、その純度は未だ不十分であり、特に着色原因物質を
含むため、色相の点でも未だ不満足のものであった。
−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン〕を製造
するために、酸触媒の存在下、過剰のフェノールにアセ
トンを反応させることは知られている。また、この反応
生成物から高純度ビスフェノールＡを分離回収するため
に、反応生成物を冷却してビスフェノールＡとフェノー
ルとの結晶アダクト（以下、単に結晶アダクトとも言
う）を析出させ、得られた結晶アダクトからフェノール
を除去することも知られている。このようなビスフェノ
ールＡの製造方法において、製品として回収されるビス
フェノールＡの純度及び色相は、その結晶アダクトの純
度及び色相に大きく依存し、高純度で色相の良い結晶ア
ダクトの製造方法が要望される。過剰のフェノールにア
セトンを反応させて得られるビスフェノールＡを含むフ
ェノール溶液から高純度結晶アダクトを得るために、そ
のフェノール溶液を、複数段の晶析工程をその中間に必
要に応じて結晶アダクトの分離工程と溶解工程を介して
結合した一連の晶析工程によって処理する方法は知られ
ている。このような複数段の晶析工程により晶析処理し
て得られる結晶アダクトは比較的高純度のものである
が、その純度は未だ不十分であり、特に着色原因物質を
含むため、色相の点でも未だ不満足のものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高純度でか
つ色相にすぐれるとともに、取扱いの容易な高品質の結
晶アダクト粉末を製造する方法を提供することをその課
題とする。
つ色相にすぐれるとともに、取扱いの容易な高品質の結
晶アダクト粉末を製造する方法を提供することをその課
題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、ビスフェノールＡ・
フェノール結晶アダクトを含むフェノール溶液を固液分
離して得られた湿潤ケーキを、フェノールに対して可溶
性を示す、沸点６０〜１２０℃の有機溶剤で洗浄した
後、該ケーキに付着する有機溶剤を除去し、乾燥するこ
とを特徴とするビスフェノールＡ・フェノール結晶アダ
クト粉末の製造方法が提供される。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、ビスフェノールＡ・
フェノール結晶アダクトを含むフェノール溶液を固液分
離して得られた湿潤ケーキを、フェノールに対して可溶
性を示す、沸点６０〜１２０℃の有機溶剤で洗浄した
後、該ケーキに付着する有機溶剤を除去し、乾燥するこ
とを特徴とするビスフェノールＡ・フェノール結晶アダ
クト粉末の製造方法が提供される。
【０００５】本発明で用いる結晶アダクトの湿潤ケーキ
は、従来公知の方法に従って製造される。即ち、過剰の
フェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノ
ールＡを含むフェノール溶液を、複数段の晶析工程に付
して、ビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトを含
むフェノール溶液（結晶アダクトスラリー）を製造し、
次いでこのスラリーを固液分離することにより湿潤ケー
キを得ることができる。本発明で用いる湿潤結晶アダク
トケーキは、遊離フェノールを２０〜３０重量％含有す
るもので、その溶融物の色相ＡＰＨＡは１００〜２００
程度である。
は、従来公知の方法に従って製造される。即ち、過剰の
フェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノ
ールＡを含むフェノール溶液を、複数段の晶析工程に付
して、ビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトを含
むフェノール溶液（結晶アダクトスラリー）を製造し、
次いでこのスラリーを固液分離することにより湿潤ケー
キを得ることができる。本発明で用いる湿潤結晶アダク
トケーキは、遊離フェノールを２０〜３０重量％含有す
るもので、その溶融物の色相ＡＰＨＡは１００〜２００
程度である。
【０００６】本発明においては、前記湿潤ケーキを有機
溶剤で洗浄する。有機溶剤としては、フェノールに対し
て溶解性を示すもので、アダクトに対しては低い溶解性
を示すものでその沸点が６０〜１２０℃の範囲にあるも
のが用いられる。このようなものとしては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、等の芳香族炭化水素や、シクロヘキ
サン等の脂環式炭化水素、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化
水素を挙げることができる。これらの有機溶剤は、単独
又は混合物の形で用いることができる。湿潤ケーキを有
機溶剤で洗浄する方法としては、有機溶剤を湿潤ケーキ
の表面にスプレーする方法や、湿潤ケーキを、有機溶剤
中に分散・撹拌させて再濾過する等の方法がある。洗浄
操作は、複数回にわたって繰返し行うことができる。有
機溶剤の使用量は、湿潤ケーキ１００重量部に対して、
少くとも５０重量部、好ましくは１００重量部以上であ
る。潤湿ケーキを前記のようにして洗浄処理することに
より、湿潤ケーキ中に含まれていた遊離フェノールは実
質上完全に溶解除去され、さらに、表面に付着させてい
る不純物も除去され、湿潤ケーキは高純度化される。次
に、潤湿ケーキ表面に付着する有機溶剤を除去し、乾燥
させて粉末化する。湿潤ケーキからの有機溶剤の除去と
湿潤ケーキの乾燥は、同時又は別々に行うことができ
る。一般的には、湿潤ケーキを減圧下に保持してその表
面に付着する有機溶剤の大部分を蒸発除去した後、温度
４０〜６０℃の条件下、好ましくは減圧下あるいは不活
性ガス流通下において、加熱乾燥する。
溶剤で洗浄する。有機溶剤としては、フェノールに対し
て溶解性を示すもので、アダクトに対しては低い溶解性
を示すものでその沸点が６０〜１２０℃の範囲にあるも
のが用いられる。このようなものとしては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、等の芳香族炭化水素や、シクロヘキ
サン等の脂環式炭化水素、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化
水素を挙げることができる。これらの有機溶剤は、単独
又は混合物の形で用いることができる。湿潤ケーキを有
機溶剤で洗浄する方法としては、有機溶剤を湿潤ケーキ
の表面にスプレーする方法や、湿潤ケーキを、有機溶剤
中に分散・撹拌させて再濾過する等の方法がある。洗浄
操作は、複数回にわたって繰返し行うことができる。有
機溶剤の使用量は、湿潤ケーキ１００重量部に対して、
少くとも５０重量部、好ましくは１００重量部以上であ
る。潤湿ケーキを前記のようにして洗浄処理することに
より、湿潤ケーキ中に含まれていた遊離フェノールは実
質上完全に溶解除去され、さらに、表面に付着させてい
る不純物も除去され、湿潤ケーキは高純度化される。次
に、潤湿ケーキ表面に付着する有機溶剤を除去し、乾燥
させて粉末化する。湿潤ケーキからの有機溶剤の除去と
湿潤ケーキの乾燥は、同時又は別々に行うことができ
る。一般的には、湿潤ケーキを減圧下に保持してその表
面に付着する有機溶剤の大部分を蒸発除去した後、温度
４０〜６０℃の条件下、好ましくは減圧下あるいは不活
性ガス流通下において、加熱乾燥する。
【０００７】本発明を好ましく実施するには、湿潤ケー
キに対しては、その有機溶剤による洗浄に先立ち、あら
かじめ精製フェノールで洗浄処理し、その後に有機溶剤
で洗浄処理を行うのが好ましい。この場合、洗浄温度
は、固液分離時のスラリーの温度と同じ温度である。精
製フェノールとしては、結晶アダクトの着色原因となら
ない、不純物含有率の少ないものであればどのようなも
のでもよいが、本発明では、精製フェノールとしては、
通常、その溶融色ＡＰＨＡが１０以下、好ましくは５以
下のものが好ましく用いられる。本発明で好ましく用い
ることのできる精製フェノールとしては、例えば、（i)
フェノールとアセトンとの反応生成物から分離されたフ
ェノール、(ii)ビスフェノールを含むフェノールの晶析
生成物から分離されたフェノール、(iii)結晶アダクト
を洗浄した後の使用済みフェノール及び工業用フェノー
ルの中から選ばれる少なくとも一種のフェノールの精製
物が用いられる。フェノールとアセトンとの反応により
得られる反応生成物は、それに含まれる生成ビスフェノ
ールＡを濃縮するために、その反応生成物からフェノー
ルが分離されるが、本発明では、このフェノールの精製
物を洗浄液として用いることができる。また、ビスフェ
ノールＡを含むフェノールを晶析処理して結晶アダクト
を析出させる場合、通常、複数段の晶析工程と晶析生成
物の固液分離工程が採用され、それに応じて複数種の母
液（フェノール溶液）が得られるが、本発明ではこれら
の母液を形成するフェノールの精製物を洗浄液として用
いることができる。本発明で用いるフェノール精製物
は、それら母液のいずれの母液を形成するフェノールの
精製物でも良いが、好ましくは最前段の晶析工程で得ら
れた晶析生成物から分離された母液を形成するフェノー
ルの精製物を用いるのがよい。本発明においては、結晶
アダクトを洗浄した後には使用済みのフェノールが得ら
れるが、本発明では、この使用済みフェノールの精製物
も洗浄液として有利に用いることができる。本発明で用
いる前記フェノール精製物を得るための原料フェノール
としては、その純度が９９重量％以上、好ましくは９
９．５重量％以上のものの使用が好ましい。また、本発
明では、工業用フェノールの精製物を洗浄液として用い
ることができる。この場合、工業用フェノールとして
は、フェノール純度９９．５重量％以上、好ましくは９
９．９３重量％以上のものが用いられる。次に、前記フ
ェノールから精製フェノールを得るための好ましい方法
について詳述すると、先ず、フェノールを強酸型イオン
交換樹脂と接触させて処理する。強酸型イオン交換樹脂
としては、スルホン基を有するものが用いられ、このよ
うな強酸型イオン交換樹脂は、従来良く知られているも
のである。例えば、ロームアンドハース社から入手し得
るアンバーライト及びアンバーリストや、三菱化成社か
ら入手し得るダイヤイオン等のゲル型のものを好ましく
用いることができる。この強酸型イオン交換樹脂を用い
るフェノールの処理は、強酸型イオン交換樹脂を含む充
填塔にフェノールを流通させる方法や、強酸型イオン交
換樹脂を入れた撹拌槽にフェノールを入れて撹拌する方
法等により実施することができる。処理温度は４５〜１
５０℃、好ましくは５０〜１００℃である。強酸型イオ
ン交換樹脂とフェノールの接触時間は、５〜２００分、
好ましくは１５〜６０分程度である。この強酸型イオン
交換樹脂を用いてフェノールの処理を行う場合、フェノ
ール中の水分は、０．５重量％以下、好ましくは０．１
重量％以下にする。これより水分が多くなると、強酸型
イオン交換樹脂による不純物除去効果が悪化する。フェ
ノール中からの０．５重量％以下までの水分の除去は、
フェノール中に公知の共沸剤を加え共沸させることによ
って行うことができる。前記強酸型イオン交換樹脂と接
触処理されたフェノールは、高沸点不純物を含むもの
で、蒸留処理することにより、その高沸点不純物を蒸留
残渣として分離する。蒸留塔の運転条件はフェノールと
高沸点不純物が分離できればよいが、留出フェノール中
に高沸点不純物が混入しない条件で行う必要があり、留
意すべきポイントとして蒸留処理温度を１８５℃以下に
することである。１８５℃以下の温度であれば運転圧力
は任意に設定されるが、通常５０Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏ
ｒｒの減圧下で行われる。運転温度が１８５℃をこえる
と高沸点不純物等の分解がおこり精製フェノールの品質
を低下させるので好ましくない。前記処理によって得ら
れた精製フェノールは、ＡＰＨＡ基準の色相が１０以下
のものであり、結晶アダクトに付着しても、その色相を
特に悪化させることはない。
キに対しては、その有機溶剤による洗浄に先立ち、あら
かじめ精製フェノールで洗浄処理し、その後に有機溶剤
で洗浄処理を行うのが好ましい。この場合、洗浄温度
は、固液分離時のスラリーの温度と同じ温度である。精
製フェノールとしては、結晶アダクトの着色原因となら
ない、不純物含有率の少ないものであればどのようなも
のでもよいが、本発明では、精製フェノールとしては、
通常、その溶融色ＡＰＨＡが１０以下、好ましくは５以
下のものが好ましく用いられる。本発明で好ましく用い
ることのできる精製フェノールとしては、例えば、（i)
フェノールとアセトンとの反応生成物から分離されたフ
ェノール、(ii)ビスフェノールを含むフェノールの晶析
生成物から分離されたフェノール、(iii)結晶アダクト
を洗浄した後の使用済みフェノール及び工業用フェノー
ルの中から選ばれる少なくとも一種のフェノールの精製
物が用いられる。フェノールとアセトンとの反応により
得られる反応生成物は、それに含まれる生成ビスフェノ
ールＡを濃縮するために、その反応生成物からフェノー
ルが分離されるが、本発明では、このフェノールの精製
物を洗浄液として用いることができる。また、ビスフェ
ノールＡを含むフェノールを晶析処理して結晶アダクト
を析出させる場合、通常、複数段の晶析工程と晶析生成
物の固液分離工程が採用され、それに応じて複数種の母
液（フェノール溶液）が得られるが、本発明ではこれら
の母液を形成するフェノールの精製物を洗浄液として用
いることができる。本発明で用いるフェノール精製物
は、それら母液のいずれの母液を形成するフェノールの
精製物でも良いが、好ましくは最前段の晶析工程で得ら
れた晶析生成物から分離された母液を形成するフェノー
ルの精製物を用いるのがよい。本発明においては、結晶
アダクトを洗浄した後には使用済みのフェノールが得ら
れるが、本発明では、この使用済みフェノールの精製物
も洗浄液として有利に用いることができる。本発明で用
いる前記フェノール精製物を得るための原料フェノール
としては、その純度が９９重量％以上、好ましくは９
９．５重量％以上のものの使用が好ましい。また、本発
明では、工業用フェノールの精製物を洗浄液として用い
ることができる。この場合、工業用フェノールとして
は、フェノール純度９９．５重量％以上、好ましくは９
９．９３重量％以上のものが用いられる。次に、前記フ
ェノールから精製フェノールを得るための好ましい方法
について詳述すると、先ず、フェノールを強酸型イオン
交換樹脂と接触させて処理する。強酸型イオン交換樹脂
としては、スルホン基を有するものが用いられ、このよ
うな強酸型イオン交換樹脂は、従来良く知られているも
のである。例えば、ロームアンドハース社から入手し得
るアンバーライト及びアンバーリストや、三菱化成社か
ら入手し得るダイヤイオン等のゲル型のものを好ましく
用いることができる。この強酸型イオン交換樹脂を用い
るフェノールの処理は、強酸型イオン交換樹脂を含む充
填塔にフェノールを流通させる方法や、強酸型イオン交
換樹脂を入れた撹拌槽にフェノールを入れて撹拌する方
法等により実施することができる。処理温度は４５〜１
５０℃、好ましくは５０〜１００℃である。強酸型イオ
ン交換樹脂とフェノールの接触時間は、５〜２００分、
好ましくは１５〜６０分程度である。この強酸型イオン
交換樹脂を用いてフェノールの処理を行う場合、フェノ
ール中の水分は、０．５重量％以下、好ましくは０．１
重量％以下にする。これより水分が多くなると、強酸型
イオン交換樹脂による不純物除去効果が悪化する。フェ
ノール中からの０．５重量％以下までの水分の除去は、
フェノール中に公知の共沸剤を加え共沸させることによ
って行うことができる。前記強酸型イオン交換樹脂と接
触処理されたフェノールは、高沸点不純物を含むもの
で、蒸留処理することにより、その高沸点不純物を蒸留
残渣として分離する。蒸留塔の運転条件はフェノールと
高沸点不純物が分離できればよいが、留出フェノール中
に高沸点不純物が混入しない条件で行う必要があり、留
意すべきポイントとして蒸留処理温度を１８５℃以下に
することである。１８５℃以下の温度であれば運転圧力
は任意に設定されるが、通常５０Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏ
ｒｒの減圧下で行われる。運転温度が１８５℃をこえる
と高沸点不純物等の分解がおこり精製フェノールの品質
を低下させるので好ましくない。前記処理によって得ら
れた精製フェノールは、ＡＰＨＡ基準の色相が１０以下
のものであり、結晶アダクトに付着しても、その色相を
特に悪化させることはない。
【０００８】
【発明の効果】本発明により得られる結晶アダクト粉末
において、遊離フェノールを実質上含まず、その溶融物
の色相ＡＰＨＡは４０以下、通常、１０〜３０の範囲で
ある。
において、遊離フェノールを実質上含まず、その溶融物
の色相ＡＰＨＡは４０以下、通常、１０〜３０の範囲で
ある。
【０００９】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
【００１０】実施例１ ビスフェノールＡを２２重量％含有するフェノール溶液
３リットルを、撹拌しながら、温度５０℃に冷却して結
晶アダクトを析出させ、得られたスラリーを５０℃に保
温されたブフナロートにて減圧濾過して結晶アダクトの
湿潤ケーキ８５０ｇを得た。この湿潤ケーキの溶融物の
色相ＡＰＨＡは、５０であった。次に、前記のようにし
てロート上に得られた湿潤ケーキに対し、５０℃の精製
フェノール４００ｃｃをそのケーキ表面にスプレーして
洗浄した後減圧濾過する洗浄濾過操作を２回行った。こ
の場合、精製フェノールとしては、工業フェノールを強
酸型イオン交換樹脂で処理した後、蒸留処理して得た、
色相ＡＰＨＡ５のものを用いた。次に、精製フェノール
で洗浄したケーキに対し、室温トルエン／ｎ−ヘキサン
混合溶剤（混合体積比：１／１）４００ｃｃを室温にて
そのケーキ表面にスプレーして洗浄した後減圧濾過する
洗浄濾過操作を２回行った後、得られた洗浄ケーキに対
し、ｎ−ヘキサン４００ｃｃを用いる洗浄濾過操作を前
記と同様にして２回行った。この場合、最後の減圧濾過
操作を３０分間持続してケーキ内に残存するｎ−ヘキサ
ンをできるかぎり多く除去した。次いで、ロート状の洗
浄結晶アダクトをバットに回収し、４５℃のオーブン中
にて２時間乾燥し、結晶アダクト粉末を得た。この結晶
アダクト粉末は、さらさらしてハンドリングの容易なも
のであった。この結晶アダクトの溶融物の色相ＡＰＨＡ
は１０であり、また、この結晶アダクトからフェノール
を分離除去した後のビスフェノールＡの溶融物の色相Ａ
ＰＨＡは１５であった。
３リットルを、撹拌しながら、温度５０℃に冷却して結
晶アダクトを析出させ、得られたスラリーを５０℃に保
温されたブフナロートにて減圧濾過して結晶アダクトの
湿潤ケーキ８５０ｇを得た。この湿潤ケーキの溶融物の
色相ＡＰＨＡは、５０であった。次に、前記のようにし
てロート上に得られた湿潤ケーキに対し、５０℃の精製
フェノール４００ｃｃをそのケーキ表面にスプレーして
洗浄した後減圧濾過する洗浄濾過操作を２回行った。こ
の場合、精製フェノールとしては、工業フェノールを強
酸型イオン交換樹脂で処理した後、蒸留処理して得た、
色相ＡＰＨＡ５のものを用いた。次に、精製フェノール
で洗浄したケーキに対し、室温トルエン／ｎ−ヘキサン
混合溶剤（混合体積比：１／１）４００ｃｃを室温にて
そのケーキ表面にスプレーして洗浄した後減圧濾過する
洗浄濾過操作を２回行った後、得られた洗浄ケーキに対
し、ｎ−ヘキサン４００ｃｃを用いる洗浄濾過操作を前
記と同様にして２回行った。この場合、最後の減圧濾過
操作を３０分間持続してケーキ内に残存するｎ−ヘキサ
ンをできるかぎり多く除去した。次いで、ロート状の洗
浄結晶アダクトをバットに回収し、４５℃のオーブン中
にて２時間乾燥し、結晶アダクト粉末を得た。この結晶
アダクト粉末は、さらさらしてハンドリングの容易なも
のであった。この結晶アダクトの溶融物の色相ＡＰＨＡ
は１０であり、また、この結晶アダクトからフェノール
を分離除去した後のビスフェノールＡの溶融物の色相Ａ
ＰＨＡは１５であった。
Claims (2)
- 【請求項１】 ビスフェノールＡ・フェノール結晶アダ
クトを含むフェノール溶液を固液分離して得られた湿潤
ケーキを、フェノールに対して可溶性を示す、沸点６０
〜１２０℃の有機溶剤で洗浄した後、該ケーキに付着す
る有機溶剤を除去し、乾燥することを特徴とするビスフ
ェノールＡ・フェノール結晶アダクト粉末の製造方法。 - 【請求項２】 湿潤ケーキを精製フェノールであらかじ
め洗浄した後、有機溶剤で洗浄する請求項１の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29221491A JPH0597746A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | ビスフエノールａ・フエノール結晶アダクト粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29221491A JPH0597746A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | ビスフエノールａ・フエノール結晶アダクト粉末の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597746A true JPH0597746A (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=17778991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29221491A Pending JPH0597746A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | ビスフエノールａ・フエノール結晶アダクト粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0597746A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0694517A1 (en) | 1994-07-28 | 1996-01-31 | General Electric Company | Purification of bisphenol-A |
| EP1491520A4 (en) * | 2002-03-29 | 2006-06-07 | Idemitsu Kosan Co | PROCESS FOR PREPARING BISPHENOL A |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP29221491A patent/JPH0597746A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0694517A1 (en) | 1994-07-28 | 1996-01-31 | General Electric Company | Purification of bisphenol-A |
| EP1491520A4 (en) * | 2002-03-29 | 2006-06-07 | Idemitsu Kosan Co | PROCESS FOR PREPARING BISPHENOL A |
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