JPH0597768A - アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体 - Google Patents

アルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体の製造法およびそれに用いる中間体

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JPH0597768A
JPH0597768A JP3257513A JP25751391A JPH0597768A JP H0597768 A JPH0597768 A JP H0597768A JP 3257513 A JP3257513 A JP 3257513A JP 25751391 A JP25751391 A JP 25751391A JP H0597768 A JPH0597768 A JP H0597768A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 殺菌剤として有用なアルコキシイミノアセト
アミド化合物の製造用中間体の製造法およびそれに用い
る中間体を提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） で表されるハロゲン化物とＭｇを反応させて得られるグ
リニャール試薬に、式(ＣＯＥ)2［式中Ｅはハロゲン］
を反応させて一般式（III） で表されるα−ケト酸ハライドを得、これと式ＨＮＲ1
Ｒ2で表されるアミンを反応させることを特徴とする一
般式（Ｖ） で表される化合物、例えばＮ−メチル−２−［２−（ビ
フェニル−４−イルオキシメチル）フェニル］−２−オ
キソアセトアミドの製造法および該α−ケト酸ハライ
ド。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、殺菌剤として有用な一
般式（VI）：
【化７】 ［式中、Ａは、水素、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
ゲン化アルケニル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロ
アルキル基、シクロアルケニル基または置換されていて
もよいフェニル基もしくはヘテロ環残基、Ｚは、-ＣＨ
2-、-Ｏ-、-Ｓ-、-ＣＨ(ＯＨ)-、-ＣＯ-、-ＮＲ-（ここ
に、Ｒは水素原子またはアルキル基である)、-ＣＨ2Ｃ
Ｈ2-、-ＣＨ=ＣＨ-、-ＣＨ2Ｏ-、-ＣＨ2Ｓ-、-ＣＨ2Ｓ
(Ｏ)-、-ＯＣＨ2-、-ＳＣＨ2-、-Ｓ(Ｏ)ＣＨ2-またはエ
ポキシ、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基、Ｒ3は、アル
キル基またはシクロアルキル基、〜は、Ｅ体、Ｚ体また
はＥ体とＺ体の混合物のいずれかの配置を示す］で表さ
れるアルコキシイミノアセトアミド類製造用中間体であ
る一般式（V）：
【化８】 ［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ1およびＲ2は前記と同意義］で表さ
れるα−ケトアミドの製造法およびそれに用いる中間体
に関する。
【０００２】
【従来技術および課題】ある種のアルコキシイミノ化合
物は、イネいもち病菌、イネ紋枯病菌、キュウリべと病
菌等に対して優れた殺菌効果を有することで注目されて
おり、その幾つかの化合物およびその製造法がすでに公
知である（特開昭６３−２３８５２号、特開昭６３−３
０４６３号）。本発明者らもすでに、前記式（VI）で示
されるアルコキシイミノアセトアミドおよびその製造法
について特許出願した（特願平２−１２７４４１号、特
願平２−２００６９６号、特願平２−３１２５１９号
等）。なかでも、前記式（V）のα−ケトアミド（ＥＰ
−Ａ３９８６９２号に記載）は、アルコキシイミノアセ
トアミド（VI）の種々の化合物の共通の製造用中間体と
して重要であり、その効率的製造法が望まれている。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、共通中間
体としての前記式（V）のα−ケトアミドの有用性に注
目してその製造法に関し鋭意研究を重ねた結果、該ケト
アミドは、対応するハロゲン化物とＭｇを反応させて得
られるグリニャール試薬に、オキサリル化合物を反応さ
せ、ついで、得られたα−ケト酸ハライドにアミンを反
応させることにより効率よく得られることを見いだし本
発明を完成した。
【０００４】すなわち本発明は、（１）一般式（III)：
【化９】 ［式中、ＡおよびＺは前記と同意義、Ｅはハロゲン原子
を示す］で表されるα−ケト酸ハライドを一般式（I
V）： ＨＮＲ1Ｒ2 (IV) ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基を示す］で表さ
れるアミンとを反応させることを特徴とする一般式
（V)：
【化１０】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、ＡおよびＺは前記と同意義］で表さ
れるα−ケトアミドの製造法、（２）一般式（I）：
【化１１】 ［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、ＡおよびＺは前記と
同意義］で表されるハロゲン化物とＭｇとを反応させて
グリニャール試薬を得、これと一般式（II）： (ＣＯＥ)2 （ＩＩ） ［式中、Ｅはハロゲン原子を示す］で表されるオキサリ
ル化合物とを反応させて一般式（ＩＩＩ）：
【化１２】 ［式中、Ａ、ＥおよびＺは、前記と同意義］で表される
α−ケト酸ハライドを得、これと一般式（IV）： ＨＮＲ1Ｒ2 (IV) ［式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同意義］で表されるアミ
ンとを反応させることを特徴とする一般式（V）：
【化１３】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、ＡおよびＺは前記と同意義］で表さ
れるα−ケトアミドの製造法、および（３）一般式（II
I'）：
【化１４】 ［式中、ＡおよびＺは前記と同意義］で表されるα−ケ
ト酸ハライドを提供するものである。
【０００５】前記式中、Ａ、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3で
示されるアルキル基としては、炭素数１〜６、好ましく
は１〜４のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル
等が挙げられる。Ａで示されるアルケニル基としては、
炭素数１〜６、好ましくは１〜４のアルケニル基、例え
ば、ビニル、アリル、クロチル等が挙げられる。Ａで示
されるアルキニル基としては、炭素数１〜６、好ましく
は１〜４のアルキニル基、例えば、プロピルギル、エチ
ニル、ブチル等が挙げられる。Ａで示されるアルコキシ
基としては、炭素数１〜６、好ましくは１〜４のアルコ
キシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ等が挙げられる。Ａ、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3
で示されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げ
られる。Ａで示されるシクロアルケニル基としては、例
えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等が挙げら
れる。
【０００６】Ａで示されるヘテロ環残基としては、例え
ば、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオ
キサゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、イ
ミダゾール環、キノリン環等が挙げられる。Ａで示され
るベンゼン環および前記ヘテロ環残基は、非置換であっ
てもよいし、前記アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン
化アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
基および置換されていてもよいベンゼン環またはヘテロ
環残基から選択される置換基で置換されていてもよい。
該置換基は、該環の置換可能ないずれの位置で置換され
ていてもよい。該環が置換されている場合、置換基は好
ましくは、１〜３個であり、これらは同一であっても異
なっていてもよい。ＥおよびＸで示されるハロゲン原子
としては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が
挙げられる。「ハロゲン化」とは、少なくとも１個の前
記ハロゲン原子で置換されていることを意味する。
【０００７】式（V）で示されるα−ケトアミドは、例
えば、反応式１：
【化１５】 ［式中、Ｙは、ＳまたはＯ、他の記号は前記と同意義］
に示す経路に従い製造することができる。まず、ハロゲ
ン化物（I）に、これに対して１〜４当量、好ましくは
２〜３当量のＭｇを反応させてグリニャール試薬を得
る。用いる溶媒としては、乾燥ＴＨＦ、ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル等のようなエーテル系溶媒が挙げ
られ、これを単独で使用してもまたはエーテル系溶媒と
トルエン、トリエチルアミン等の他の溶媒との混合溶媒
として使用してもよい。反応温度は室温〜１５０℃、好
ましくは４０〜７０℃である。反応時間は１０分〜４８
時間、好ましくは３０〜６０分間である。必要ならば、
反応の活性化剤としてヨウ素、ジプロムエタン、エチル
ブロミド等を少量用いた。その量は０.０１〜１.０当
量、好ましくは０.０５〜０.２当量である。式（III）
の化合物への変換においてはまず、得られたグリニャー
ル試薬を適当な溶媒に溶解したオキサリル化合物（II）
の溶液中に滴下する。化合物（II）はグリニャール試薬
に対して１〜３当量、好ましくは１.０〜１.５当量使用
する。滴下は−１００℃〜５０℃、好ましくは−７０℃
〜２０℃にて、１〜６０分、好ましくは１０〜３０分か
けて行う。ついで、−１００℃〜５０℃、好ましくは−
７５〜２０℃にて、１０〜１２０分間、好ましくは３０
〜６０分間反応させる。溶媒としては、トルエン、ジエ
チルエーテル、ＴＨＦ等の不活性溶媒が挙げられる。オ
キサリル化合物（II）としては、オキサリルクロリド、
オキサリルブロミド等が挙げられる。また逆に、得られ
たグリニャール試薬にオキサリル化合物（II）を溶媒で
希釈せず、または適当な溶媒で希釈して滴下し、反応さ
せてもよい。該溶媒および反応条件は、前記と同一とす
ることができる。このようにして得られた式（III）の
化合物は、単離してもよいが、分離精製することなく次
工程で使用してもよい。
【０００８】次に、前記反応式１に示すように、アミン
（IV）を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈して
式（III）の化合物に滴下するか気体で導入する。滴下
または導入は、−７５〜５０℃、好ましくは−３０〜３
０℃にて、１〜６０分、好ましくは５〜１０分かけて行
う。アミン（IV）は（III）に対して２.０〜１０当量、
好ましくは２.０〜４.０当量ついで−２０〜７０℃、好
ましくは０〜３０℃にて、１０〜１２０分間、好ましく
は３０〜６０分間反応させてα−ケトアミド（V）を得
る。また、前記反応式２に示すように、式（III）の化
合物をアミン（IV）と前記反応式１と同様に反応させて
α−ケトアミド（V）を得る。
【０００９】また、α−ケトアミド（V）は前記反応式
１に示すように、化合物（VII）を経由して得ることも
できる。すなわち、まず前記のとおり得られたα−ケト
酸クロリド（III）の反応系中に、無水アルコールまた
は無水チオール（VIII）を−７５〜５０℃、好ましくは
−３０〜３０℃にて加える。ついで−５０〜７０℃、好
ましくは０〜３０℃にて１０〜１２０分間、好ましく
は、２０〜６０分間反応させて化合物（V）を得る。化
合物（VIII）は、（III）に対して１.０〜１０.０当
量、好ましくは１.０〜４.０当量使用する。ついで得ら
れた化合物（VII）から化合物（V）への変換は、化合物
（VII）に化合物（IV）を滴下、反応させることにより
行う。化合物（VII）は生成後単離することなく、また
は単離して、ＴＨＦ、メタノール、トルエン等の適当な
溶媒に溶解して使用できる。これに、（VII）対して１.
０〜１０.０当量、好ましくは１.０〜４.０当量のアミ
ン（IV）を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈し
て滴下するか気体で導入する。滴下または導入は−２０
〜７０℃、好ましくは０〜３０℃にて、１〜６０分、好
ましくは５〜１０分かけて行う。ついで−２０〜７０
℃、好ましくは０〜３０℃にて、１０〜２４０分間、好
ましくは２０〜６０分間反応させてα−ケトアミド
（V）を得る。
【００１０】前記反応式１により得られたα−ケトアミ
ド（V）は、通常の分離精製手段を用いて粗製または精
製した後、以下の反応式３または４に示す方法により化
合物（VI）に導くことができる。まず、反応式３：
【化１６】 ［式中、各記号は前記と同意義］に示すように、α−ケ
トアミド（V）に、アルコキシアミン（IX）を反応させ
てアルコキシム化することにより化合物（VI）を得るこ
とができる。
【００１１】また、別法として、反応式４：
【化１７】 ［式中、Ｌはハロゲン原子または-ＯＳＯ2ＯＲ3を示
し、他の記号は前記と同意義］に示すように、α−ケト
アミド（V）にヒドロキシルアミン塩酸塩を反応させて
オキシム（X）を得、ついで、これにアルキル化剤（X
I）を反応させてアルキル化することにより化合物（V
I）に変換することもできる。α−ケトアミド（V）を製
造中間体として得たオキシム体（VI）およびアルコキシ
イミノ体（X）におけるＥ／Ｚ比は、従来の製造経路で
あるα−ケトエステル（VII）のオキシム化により得ら
れるオキシム体のＥ／Ｚ比と比較して、より活性物質で
あるＥ体の生成比が大きいことが判明した。
【００１２】こうして得られた化合物（VI）はさらに、
例えば、反応式５：
【化１８】 ［式中、各記号は前記と同意義］に示すように、ベンゼ
ン環等の置換基を修飾することができる。すなわち、
（VIa）のベンゼン環のメチル基は、α,α'−アゾイソ
ブチリロニトリルの存在下、ＮＢＳ、ＮＣＳ等のハロゲ
ン化剤でハロゲン化してハロゲン化メチル基とし、化合
物（XII）を得ることができる。得られた化合物（XII）
と、アルコールまたはチオール（XIII）を塩基の存在下
に反応させて化合物（VIb）に変換することができる。
塩基としては、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。化
合物（XIII）としては、置換フェノール、置換チオフェ
ノール、ヒドロキシ置換ピリジン等が挙げられる。ま
た、化合物（XII）のハロゲン化メチル基は、酢酸カリ
ウムと反応させ次に加水分解することによりヒドロキシ
メチル基に変換することができる。得られた化合物（XI
V）にハロゲン化物（XV）を反応させてエーテル体（VI
b）（ここに、Ｙは酸素である）に変換することができ
る。（XV）としては、置換複素環式クロリド（たとえ
ば、置換クロロピリジン）、置換クロロベンゼン等が挙
げられる。このようにして得られたアルコキシイミノア
セトアミド化合物（VI）は公知の方法により殺菌剤とし
て使用することができる。
【００１３】
【実施例】つぎに、実施例および参考例を挙げて本発明
をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。 実施例１ Ｎ−メチル−２−[２−(ビフェニル−４−イルオキシメ
チル)フェニル]−２−オキソアセトアミドの製造 アルゴン気流下でマグネシウム４.８６g(０.２mol)に、
乾燥ＴＨＦ２０ミリリットルとジブロモエタン０.２ミ
リリットルを加えた溶液に１−ブロム−２−(ビフェニ
ル−４−イルオキシメチル)ベンゼン３３.９２g(０.１m
ol)と乾燥ＴＨＦ１４０ミリリットルの混合液を５０〜
６０℃で４０分間にわたって滴下した。滴下後、６５℃
で１時間撹拌したのち乾燥ＴＨＦ９０ミリリットルを加
え２０℃以下に冷却した。冷却後、オキサリルクロリド
１５.２３g(０.１２mol)と乾燥ＴＨＦ２５０ミリリット
ルの混合溶液に−５０℃以下で１５分間にわたって滴下
したのち−７５℃で１時間撹拌後、−２０℃以下で４０
％メチルアミンメタノール溶液４６.５９g(０.６mol)加
えて室温で１時間撹拌した。反応後、水１０００ミリリ
ットル加え、濃塩酸でpＨ２以下に調整したのち酢酸エ
チル６００ミリリットルで抽出した。抽出液を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮後、得られた残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル／n−ヘキ
サン)で精製を行い、Ｎ−メチル−２−[２−(ビフェニ
ル−４−イルオキシメチル)フェニル]−２−オキソアセ
トアミド２４.５２g(収率７１.０％)を無色結晶として
得た。 mp１４４〜１４５℃(酢酸エチル／n−ヘキサン)1 Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:２.７８(d,３Ｈ,Ｊ＝５.
９Ｈz),５.３５(s,２Ｈ)、６.９６〜７.９５(m,１４
Ｈ).
【００１４】下式の化合物（V)も前記と同様にして製造
した。
【化１９】 ［式中、Ｒ1は水素原子、Ｒ2はメチル基を示し、他の記
号は前記と同意義］ Ａ Ｚ 収率(％) mp(℃) 1Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm H CH2 64.1 油状物 2.49(s,3H),2.98(d,3H,J=5.9Hz), 7.06(br,1H),7.26-7.95(m,4H), Ph* O 78.0 94-95 2.87(d,3H,J=4.9Hz),6.63(br,1H), 6.86-7.78(m,9H), 2.5-Me2Ph OCH2 69.9 129-130 2.16(s,3H),2.31(s,3H),2.80 (d,3H,J=4.9Hz),5.29(s,2H), 6.69-7.99(m,8H). 3-BzlOPh O 49.3 油状物 2.87(d,3H,J=4.9Hz),5.03(s,2H), 6.64-7.78(m,13H). * 原料にクロル体を使用
【００１５】実施例２ Ｎ−メチル−２−（２−フェノキシフェニル）−２−オ
キソアセトアミドの製造 窒素気流下でマグネシウム１.３４ｇ（０.０５５mol）
に乾燥ＴＨＦ１５ミリリットルと臭化エチル０.１９ミ
リリットルを加えた溶液に２−クロロジフェニルエーテ
ル１０.２３ｇ（０.０５mol）と乾燥ＴＨＦ２０ミリリ
ットルの混合液を還流しながら３０分間にわたって滴下
した。滴下後、６時間還流した後、乾燥ＴＨＦ１５ミリ
リットルを加え２０℃以下に冷却した。冷却後、オキサ
リルクロリド７.６２ｇ（０.０６mol）と乾燥ＴＨＦ１
００ミリリットルの混合溶液に−１０〜０℃で１５分間
にわたって滴下したのち、−１０〜０℃で撹拌後、メチ
ルアミンガスを導入し、導入後、室温で１５分間撹拌し
た。反応後、１Ｎ塩酸１００ミリリットルを加えトルエ
ン３００ミリリットルで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下で濃縮後、得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶し、Ｎ−メチル−２−（２−フェノキシフェニ
ル）−２−オキソアセトアミド８.０７ｇを無色結晶と
して得た。さらに母液をシリカゲルクロマトグラフィー
（酢酸エチル−ヘキサン）で精製し、目的物１.４２ｇ
を得た。合計収量９.４９ｇ（収率７４％）
【００１６】実施例３ ２−（２−メチルフェニル）グリオキシロイルクロリド
の製造 アルゴン気流下でマグネシウム２.４３ｇ（０.１mol）
に乾燥ＴＨＦ１０ミリリットルとジブロモエタン０.１
ミリリットルを加えた溶液に２−ブロモトルエン８.５
５ｇ（０.０５mol）と乾燥ＴＨＦ６０ミリリットルの混
合液を５０〜６０℃で１３分間にわたって滴下した。滴
下後、６０〜６５℃で１時間撹拌したのち乾燥ＴＨＦ３
０ミリリットルを加え２０℃以下に冷却した。冷却後、
オキサリルクロリド７.６２ｇ（０.０６mol）と乾燥エ
ーテル１５０ミリリットルの混合溶液に−５０℃以下で
８分間にわたって滴下したのち−７５℃で１時間撹拌
後、室温でアルゴン気流下濾過し、濾液を室温で減圧濃
縮した。析出結晶を再びアルゴン気流下で濾別し、乾燥
エーテルで洗浄した。濾液と洗液を合わせて室温で減圧
留去し、粗製の２−（２−メチルフェニル）グリオキシ
ロイルクロリド８.７５ｇ（収率９５.８％）を淡褐色油
状物として得た。 ＩＲν max （neat）：１７９５、１６９６cm-1
【００１７】下式の化合物も前記と同様にして製造し
た。
【化２０】 ［式中、各記号は前記と同意義］ A Z 収率(%) IRνmax(neat) ───────────────────────────── Ph O 99.7 1780,1680 2,5-Me2Ph OCH2 99.0 1770,1680 4-Ph-Ph OCH2 99.8 1770,1695 ─────────────────────────────
【００１８】実施例４ Ｎ-メチル-２-(２-メチルフェニル)-２-オキソアセトア
ミドの製造 粗製の２-(２-メチルフェニル)グリオキシロイルクロリ
ド０.９１ｇ（５mmol）を乾燥ＴＨＦ１０ミリリットル
に溶解し、−１０℃以下で４０％メチルアミンメタノー
ル溶液１.５５ｇ（２０mmol）を加えて室温で１時間撹
拌した。反応後、水１００ミリリットルを加え、濃塩酸
でｐＨ２以下に調整した後、酢酸エチル１００ミリリッ
トルで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で濃縮後、得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製を行
い、Ｎ−メチル−２−（２−メチルフェニル）−２−オ
キソアセトアミド０.４５ｇ（収率５０.８％）を無色油
状物として得た。1 Ｈ-ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ｐｐｍ：２.４９（ｓ,３
Ｈ），２.９８（ｄ,３Ｈ,Ｊ＝５.９Ｈｚ），７.０６
（ｂｒ,１Ｈ），７.２６〜７.９５（ｍ,４Ｈ）
【００１９】参考例１ Ｎ−メチル−２−(２−メチルフェニル)−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミドの製造 Ｎ−メチル−２−(２−メチルフェニル)−２−オキソア
セトアミド５.３１g(０.０３mol)にメタノール３０ミリ
リットルと塩酸ヒドロキシルアミン４.１７g(０.０６mo
l)を加え、５時間加熱還流した。反応後、水１５０ミリ
リットルを加え塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル／n−
ヘキサン)で精製を行い、Ｎ−メチル−２−(２−メチル
フェニル)−２−ヒドロキシイミノアセトアミドのＥ体
４.７９g(収率８３.１％)とＺ体０.５０g(収率８.７％)
を無色結晶として得た。 Ｅ体 mp １６０〜１６１℃(酢酸エチル／n−ヘキサ
ン)1 Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3）δppm:２.２２(s,３Ｈ)，２.９
３(d,３Ｈ,Ｊ＝４.９Ｈz),６.６９(br,１Ｈ),７.１１〜
７.３６(m,４Ｈ). Ｚ体 mp １６６〜１７１℃(酢酸エチル／n−ヘキサ
ン),1 Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:２.３０(s,３Ｈ)，２.８
６(d,３Ｈ,Ｊ＝４.９Ｈz),５.６９(br,１Ｈ),７.２６〜
７.４０(m,４Ｈ).
【００２０】下式の化合物（X）も前記と同様にして製
造した。
【化２１】 ［式中、Ｒ1は水素原子、Ｒ2はメチル基を示し、他の記
号は前記と同意義］ Ａ Ｚ 溶媒 収率(％) mp(℃) 1H-NMR(CDCl3)δppm 2.5-Me2Ph OCH2 EtOH E 73.4 154-155.5 2.17(s,3H),2.29(s,3H),2.86 (d,3H,J=4.9Hz),4.96(s,2H), 6.64-7.61(m,8H). Z 26.0 139-141 2.15(s,3H),2.31(s,3H), 2.77(d,3H,J=4.9Hz),5.06(s,2H) 5.79(br,1H),6.69-7.68(m,7H) 4-Ph-Ph OCH2 EtOH E 73.4 162-163 2.90(d,3H,J=4.9Hz),5.03(s,2H) 6.65(br,1H),6.95-7.58(m,13H) Z 25.5 173-179 2.81(d,3H,J=4.9Hz),5.13(s,2H) 5.84(br,1H),6.95-7.63(m,13H). Ph O MeOH E 97.8 183-184.5 2.84(d,3H,J=4.9Hz),6.77(br,1H) 6.88-7.37(m,9H).
【００２１】参考例２ (Ｅ)−２−[２−(ビフェニル−４−イルオキシメチル)
フェニル]−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトア
ミドの製造 (Ｅ)−２−[２−(ビフェニル−４−イルオキシメチル)
フェニル]−２−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルアセト
アミド９.７３g(０.０２７mol)に、乾燥アセトン１００
ミリリットル、炭酸カリウム１１.２０g(０.０８１mol)
とジメチル硫酸６.８１g(０.０５４mol)を加えて室温で
一夜撹拌した。撹拌後、不溶物を除去し、減圧下で濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル／n−ヘキサン)で精製を行い、(Ｅ)−２−[２
−(ビフェニル−４−イルオキシメチル)フェニル]−２
−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミド９.８５g
(収率９７.４％)を無色結晶として得た。 mp １３５.５〜１３７℃(酢酸エチル／n−ヘキサン)、1 Ｈ-ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:２.９０(d,３Ｈ,Ｊ＝５.９
Ｈz),３.９４(s,３Ｈ),４.９９(s,２Ｈ),６.７１(br,１
Ｈ),６.９４〜７.５５(m,１３Ｈ)
【００２２】下式の化合物も前記と同様にして製造し
た。
【化２２】 ［式中、Ｒ1は水素原子、Ｒ2およびＲ3は共にメチル基
を示し、他の記号は前記と同意義］ Ａ Ｚ 収率(％) mp(℃) 1Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm H CH2 97.0 85.5-86.5 2.18(s,3H),2.93(d,3H,J=5.9Hz), 3.96(s,3H),6.76(br,1H), 7.08-7.29(m,4H). 2.5-Me2Ph OCH2 93.7 136-137 2.18(s,3H),2.29(s,3H), 2.88(d,3H,J=4.9Hz),3.95(s,3H), 4.92(s,2H),6.62-7.57(m,8H). Ph O 94.7 83-84 2.87(d,3H,J=4.9Hz),3.91(s,3H), 6.63(br,1H),6.88-7.36(m,9H).
【００２３】参考例３ ２−[２−(２,５−ジメチルフェノキシ)メチルフェニ
ル]−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミドの
製造 ２−[２−(２,５−ジメチルフェノキシ)メチルフェニ
ル]−Ｎ−メチル−２−オキソアセトアミド０.２７g
(０.９mmol)にメタノール２.０ミリリットルと塩酸メト
キシルアミン０.１５g(１.８mmol)を加えて４時間加熱
還流した。反応後、水１００ミリリットルを加え、塩化
メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥後、減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー(酢酸エチル／n−ヘキサン)で精製を
行い、２−[２−(２,５−ジメチルフェノキシ)メチルフ
ェニル]−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミ
ド０.２８g(収率９８.９％)をＥ／Ｚ体の混合物として
得た。1 Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:３.９５(s,１.５Ｈ),４.
０１(s,１.５Ｈ),４.９２(s,１Ｈ),５.１７(s,１Ｈ).
【００２４】参考例４ (Ｅ)−２−(２−ブロモメチルフェニル)−２−メトキシ
イミノ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 (Ｅ)−２−メトキシイミノ−２−(２−メチルフェニル)
−Ｎ−メチルアセトアミド２.６６g(０.０１mol)に四塩
化炭素２０ミリリットル、ＮＢＳ１.９６g(０.011mol)
とα,α'−アゾイソブチリロニトリル０.１６g(０.００
１mol)を加えて１時間加熱還流した。反応後、不溶物を
除去し、減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー(酢酸エチル／トルエン)で精製を行
い、(Ｅ)−２−(２−ブロモメチルフェニル)−２−メト
キシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミド１.０８g(収率３
７.７％)を油状物として得た。1 Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:２.９３(d,３Ｈ,Ｊ＝４.
９Ｈz),３.９９(s,３Ｈ),４.３６(s,２Ｈ),６.８１(br,
１Ｈ),７.１５〜７.５０(m,４Ｈ).
【００２５】参考例５ (Ｅ)−２−[２−(２,５−ジメチルフェノキシ)メチルフ
ェニル]−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミ
ドの製造 (Ｅ)−２−(２−ブロモメチルフェニル)−２−メトキシ
イミノ−Ｎ−メチルアセトアミド０.７２g(２.５mmol)
に乾燥ＤＭＦ５.０ミリリットル、２,５−ジメチルフェ
ノール０.４６g(３.７５mmol)と炭酸カリウム０.６９g
(５.０mmol)を加え室温で４時間撹拌した。撹拌後、水
１００ミリリットルを加え、酢酸エチル１００ミリリッ
トルで抽出し、水１００ミリリットルで水洗したのち無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル／n−ヘキサン)で精製を行い、(Ｅ)−２−[２
−(２,５−ジメチルフェノキシ)メチルフェニル]−２−
メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミド０.５７g(収
率６９.８％)を無色結晶として得た。
【００２６】参考例６ ２−[２−(ビフェニル−４−イルオキシメチル)フェニ
ル]−２−オキソ酢酸メチルの製造 アルゴン気流下でマグネシウム２.４３g(０.１mol)に、
乾燥ＴＨＦ１０ミリリットルとジブロムエタン０.１ミ
リリットルを加えた溶液に１−ブロム−２−(ビフェニ
ル−４−イルオキシメチル)ベンゼン１６.９６g(０.０
５mol)と乾燥ＴＨＦ７０ミリリットルの混合液を５０〜
６０℃で２０分間にわたって滴下した。滴下後、６５℃
で１時間撹拌したのち乾燥ＴＨＦ２０ミリリットルを加
え２０℃以下に冷却した。冷却後、オキサリルクロリド
７.６１g(０.０６mol)と乾燥ＴＨＦ１５０ミリリットル
の混合溶液に−５０℃以下で１５分間にわたって滴加し
たのち−７５℃で１時間撹拌後、−５０℃以下で無水メ
タノール１２.８２g(０.４mol)加えて室温で１時間撹拌
した。反応後、塩化アンモニウム水溶液５００ミリリッ
トル加え、エーテル４００ミリリットルで抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮
後、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢
酸エチル／トルエン)で精製を行い、２−[２−(ビフェ
ニル−４−イルオキシメチル)フェニル]−２−オキソ酢
酸メチル１１.７９g(収率６８.１％)を淡黄色結晶とし
て得た。 mp １０６〜１０７℃ 1Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:
３.８６(s,３Ｈ),５.４５(s,２Ｈ),７.０３−７.８３
(m,１３Ｈ)
【００２７】参考例７ Ｎ−メチル−２−[２−(ビフェニル−４−イルオキシメ
チル)フェニル]−２−オキソアセトアミドの製造 ２−[２−(ビフェニル−４−イルオキシメチル)フェニ
ル]−２−オキソ酢酸メチル３.４６g(０.０１mol)に、
無水メタノール１０ミリリットル、乾燥ＴＨＦ１０ミリ
リットルと４０％メチルアミンメタノール溶液２.３３g
(０.０３mol)加えて室温で２時間撹拌した。反応後、水
１５０ミリリットル加え、濃塩酸でpＨ２以下に調整し
たのち酢酸エチル１５０ミリリットルで抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮後、
得られた結晶３.４２g(収率９９.１％)を酢酸エチル／n
−ヘキサンで再結晶して、Ｎ−メチル−２−[２−(ビフ
ェニル−４−イルオキシメチル)フェニル]−２−オキソ
アセトアミド２.８３g(mp１４４〜１４５℃)を無水結晶
として得た。1 Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3)δppm:２.７８(d,３Ｈ,Ｊ＝５.
９Ｈz),５.３５(s,２Ｈ),６.９６〜７.９５(m,１４Ｈ).
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、殺菌剤として有用な種
々のアルコキシイミノアセトアミド化合物の共通の製造
用中間体として有用性の高いα−ケトアミド（V）を容
易に得ることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年１２月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】次に、前記反応式１に示すように、アミン
（IV）を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈して
式（III）の化合物に滴下するか気体で導入する。滴下
または導入は、−７５〜５０℃、好ましくは−３０〜３
０℃にて、１〜６０分、好ましくは５〜１０分かけて行
う。アミン（IV）は（III）に対して２.０〜１０当量、
好ましくは２.０〜４.０当量ついで−２０〜７０℃、好
ましくは０〜３０℃にて、１０〜１２０分間、好ましく
は３０〜６０分間反応させてα−ケトアミド（V）を得
る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】また、α−ケトアミド（V）は前記反応式
１に示すように、化合物（VII）を経由して得ることも
できる。すなわち、まず前記のとおり得られたα−ケト
酸クロリド（III）の反応系中に、無水アルコールまた
は無水チオール（VIII）を−７５〜５０℃、好ましくは
−３０〜３０℃にて加える。ついで−５０〜７０℃、好
ましくは０〜３０℃にて１０〜１２０分間、好ましく
は、２０〜６０分間反応させて化合物（VII）を得る。
化合物（VIII）は、（III）に対して１.０〜１０.０当
量、好ましくは１.０〜４.０当量使用する。ついで得ら
れた化合物（VII）から化合物（V）への変換は、化合物
（VII）に化合物（IV）を滴下、反応させることにより
行う。化合物（VII）は生成後単離することなく、また
は単離して、ＴＨＦ、メタノール、トルエン等の適当な
溶媒に溶解して使用できる。これに、（VII）対して１.
０〜１０.０当量、好ましくは１.０〜４.０当量のアミ
ン（IV）を溶媒で希釈せず、または適当な溶媒で希釈し
て滴下するか気体で導入する。滴下または導入は−２０
〜７０℃、好ましくは０〜３０℃にて、１〜６０分、好
ましくは５〜１０分かけて行う。ついで−２０〜７０
℃、好ましくは０〜３０℃にて、１０〜２４０分間、好
ましくは２０〜６０分間反応させてα−ケトアミド
（V）を得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】前記反応式１により得られたα−ケトアミ
ド（V）は、通常の分離精製手段を用いて粗製または精
製した後、以下の反応式２または３に示す方法により化
合物（VI）に導くことができる。まず、反応式２：
【化１６】 ［式中、各記号は前記と同意義］に示すように、α−ケ
トアミド（V）に、アルコキシアミン（IX）を反応させ
てアルコキシム化することにより化合物（VI）を得るこ
とができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】また、別法として、反応式３：
【化１７】 ［式中、Ｌはハロゲン原子または-ＯＳＯ2ＯＲ3を示
し、他の記号は前記と同意義］に示すように、α−ケト
アミド（V）にヒドロキシルアミン塩酸塩を反応させて
オキシム（X）を得、ついで、これにアルキル化剤（X
I）を反応させてアルキル化することにより化合物（V
I）に変換することもできる。α−ケトアミド（V）を製
造中間体として得たオキシム体（X）およびアルコキシ
イミノ体（VI）におけるＥ／Ｚ比は、従来の製造経路で
あるα−ケトエステル（VII）のオキシム化により得ら
れるオキシム体のＥ／Ｚ比と比較して、より活性物質で
あるＥ体の生成比が大きいことが判明した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】こうして得られた化合物（VI）はさらに、
例えば、反応式４：
【化１８】 ［式中、各記号は前記と同意義］に示すように、ベンゼ
ン環等の置換基を修飾することができる。すなわち、
（VIa）のベンゼン環のメチル基は、α,α'−アゾイソ
ブチリロニトリルの存在下、ＮＢＳ、ＮＣＳ等のハロゲ
ン化剤でハロゲン化してハロゲン化メチル基とし、化合
物（XII）を得ることができる。得られた化合物（XII）
と、アルコールまたはチオール（XIII）を塩基の存在下
に反応させて化合物（VIb）に変換することができる。
塩基としては、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。化
合物（XIII）としては、置換フェノール、置換チオフェ
ノール、ヒドロキシ置換ピリジン等が挙げられる。ま
た、化合物（XII）のハロゲン化メチル基は、酢酸カリ
ウムと反応させ次に加水分解することによりヒドロキシ
メチル基に変換することができる。得られた化合物（XI
V）にハロゲン化物（XV）を反応させてエーテル体（VI
b）（ここに、Ｙは酸素である）に変換することができ
る。（XV）としては、置換複素環式クロリド（たとえ
ば、置換クロロピリジン）、置換クロロベンゼン等が挙
げられる。このようにして得られたアルコキシイミノア
セトアミド化合物（VI）は公知の方法により殺菌剤とし
て使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 229/42 8930−4Ｈ 231/02 235/72 7106−4Ｈ 237/20 7106−4Ｈ 319/12 319/20 323/62 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 215/12 7019−4Ｃ 215/20 7019−4Ｃ 215/36 7019−4Ｃ 239/26 7038−4Ｃ 239/34 7038−4Ｃ 239/38 7038−4Ｃ 239/42 7038−4Ｃ 261/08 9283−4Ｃ 261/10 9283−4Ｃ 261/12 9283−4Ｃ 261/14 9283−4Ｃ 263/32 9283−4Ｃ 263/36 9283−4Ｃ 263/46 9283−4Ｃ 263/48 9283−4Ｃ 263/56 9283−4Ｃ 263/58 9283−4Ｃ 277/62 7019−4Ｃ 303/38 7822−4Ｃ 413/04 8829−4Ｃ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（III）： 【化１】 ［式中、Ａは、水素、アルキル基、アルケニル基、アル
    キニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロ
    ゲン化アルケニル基、ハロゲン化アルキニル基、シクロ
    アルキル基、シクロアルケニル基または置換されていて
    もよいベンゼン環もしくはヘテロ環残基、Ｚは、-ＣＨ
    2-、-Ｏ-、-Ｓ-、-ＣＨ(ＯＨ)-、-ＣＯ-、-ＮＲ-（ここ
    に、Ｒは水素原子またはアルキル基である)、-ＣＨ2Ｃ
    Ｈ2-、-ＣＨ=ＣＨ-、-ＣＨ2Ｏ-、-ＣＨ2Ｓ-、-ＣＨ2Ｓ
    (Ｏ)-、-ＯＣＨ2-、-ＳＣＨ2-、-Ｓ(Ｏ)ＣＨ2-またはエ
    ポキシ、Ｅは、ハロゲン原子を示す］で表されるα−ケ
    ト酸ハライドを一般式（IV）： ＨＮＲ1Ｒ2 (IV) ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素原
    子、アルキル基またはシクロアルキル基を示す］で表さ
    れるアミンとを反応させることを特徴とする一般式
    （V)： 【化２】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、ＡおよびＺは前記と同意義］で表さ
    れるα−ケトアミドの製造法。
  2. 【請求項２】 一般式（I）： 【化３】 ［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、ＡおよびＺは前記と
    同意義］で表されるハロゲン化物とＭｇとを反応させて
    グリニャール試薬を得、これと一般式（II）： (ＣＯＥ)2 （II) ［式中、Ｅはハロゲン原子を示す］で表されるオキサリ
    ル化合物とを反応させて一般式（III）： 【化４】 ［式中、Ａ、ＥおよびＺは、前記と同意義］で表される
    α−ケト酸ハライドを得、これと一般式（IV）： ＨＮＲ1Ｒ2 (IV) ［式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同意義］で表されるアミ
    ンとを反応させることを特徴とする一般式（V）： 【化５】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、ＡおよびＺは前記と同意義］で表さ
    れるα−ケトアミドの製造法。
  3. 【請求項３】 一般式（III'）： 【化６】 ［式中、ＡおよびＺは前記と同意義］で表されるα−ケ
    ト酸ハライド。
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