JPH059793B2 - - Google Patents
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- JPH059793B2 JPH059793B2 JP1198096A JP19809689A JPH059793B2 JP H059793 B2 JPH059793 B2 JP H059793B2 JP 1198096 A JP1198096 A JP 1198096A JP 19809689 A JP19809689 A JP 19809689A JP H059793 B2 JPH059793 B2 JP H059793B2
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- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
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- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
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- G03H2250/10—Laminate comprising a hologram layer arranged to be transferred onto a carrier body
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- G03H2260/10—Dichromated gelatine or equivalents
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、一般にホログラフイツク要素の製造
およびもとの基体から別の基体へそれを転写する
方法に関する。特に本発明は、ガラスのような非
常に安定した基体上にホログラフイツク要素を完
全に、また認められるほどの損傷をホログラフイ
ツク要素に与えること無く第２の基体に同様に転
写させる製造方法に関する。ポログラフイツク要
素のための改良された保湿性防壁もまた開示され
ている。
およびもとの基体から別の基体へそれを転写する
方法に関する。特に本発明は、ガラスのような非
常に安定した基体上にホログラフイツク要素を完
全に、また認められるほどの損傷をホログラフイ
ツク要素に与えること無く第２の基体に同様に転
写させる製造方法に関する。ポログラフイツク要
素のための改良された保湿性防壁もまた開示され
ている。
［従来の技術］
ホログラムは今日広く使用されている。出願人
にとつて特に関心があるのは、ヘツドアツプデイ
スプレイおよびプラスチツク日除け板のような自
動車製品におけるホログラムの使用である。
にとつて特に関心があるのは、ヘツドアツプデイ
スプレイおよびプラスチツク日除け板のような自
動車製品におけるホログラムの使用である。
典型的な製造技術は、基体を感光性材料（典型
的なものは重クロム酸塩ゼラチン）によつて被覆
し、所望のホログラフイツク映像を含む制御され
たレーザ干渉パターンに被覆材料を露出し、露出
された被覆を処理し、反射光の波長を微同調する
ように処理された被覆を焼成し（つまり、“波長
についての焼成”）、悪影響を及ぼすような周囲の
要素から処理された被覆を密封することを含む。
的なものは重クロム酸塩ゼラチン）によつて被覆
し、所望のホログラフイツク映像を含む制御され
たレーザ干渉パターンに被覆材料を露出し、露出
された被覆を処理し、反射光の波長を微同調する
ように処理された被覆を焼成し（つまり、“波長
についての焼成”）、悪影響を及ぼすような周囲の
要素から処理された被覆を密封することを含む。
典型的に基体は、ガラスのような厚くて堅く平
らな材料である。ホログラムが記録され密封され
た後、ガラスは要求される厚さ重さ寸法を満たす
ように切断および／または研磨される。
らな材料である。ホログラムが記録され密封され
た後、ガラスは要求される厚さ重さ寸法を満たす
ように切断および／または研磨される。
しかしながらこの典型的な手段は、比較的高価
でしばしば高い損失比を伴う。さらに、約0.06イ
ンチより薄く製造することは困難である。さらに
この方法は湾曲した表面に適用するのは難しい。
でしばしば高い損失比を伴う。さらに、約0.06イ
ンチより薄く製造することは困難である。さらに
この方法は湾曲した表面に適用するのは難しい。
別の技術は基体として薄膜を使用する。しかし
これは残念ながら安定性の点で問題が生じる。こ
の安定性の問題を克服するためにガラス平板間に
薄膜を留めることを試みたとしても、留めること
はしばしばストレスを引き起こし光学的欠陥の原
因となる。さらに時々膜は、波長による焼成のス
テツプの間に歪む。そのうえ必要な安定を与える
ために、膜は自動車の窓のような２重に湾曲した
表面にあまりよく適合しないような厚さである。
これは残念ながら安定性の点で問題が生じる。こ
の安定性の問題を克服するためにガラス平板間に
薄膜を留めることを試みたとしても、留めること
はしばしばストレスを引き起こし光学的欠陥の原
因となる。さらに時々膜は、波長による焼成のス
テツプの間に歪む。そのうえ必要な安定を与える
ために、膜は自動車の窓のような２重に湾曲した
表面にあまりよく適合しないような厚さである。
別の技術は、ホログラフイツク映像を記録させ
るゼラチンを設ける前に、通常のガラス基体をわ
ずかな離型剤によつて被覆する。その後ゼラチン
は、ガラス基体から剥がされ最終の基体上に付着
される。
るゼラチンを設ける前に、通常のガラス基体をわ
ずかな離型剤によつて被覆する。その後ゼラチン
は、ガラス基体から剥がされ最終の基体上に付着
される。
しかしながらわずかな離型剤の使用による１つ
の問題は、良く支持されないことである。結果と
して、ゼラチンは湿潤処理のステツプの前に一般
にポリスチレンの薄板に移さなければならない。
しかしながらポリスチレンが水を吸収するので、
ホログラム内の部分的な損失がしばしば起こる。
さらに波長に対する焼成ステツプの間、ポリスチ
レンの層にゼラチンを付着することが困難である
のでゼラチンは収縮、剥離、および／または破れ
易い。
の問題は、良く支持されないことである。結果と
して、ゼラチンは湿潤処理のステツプの前に一般
にポリスチレンの薄板に移さなければならない。
しかしながらポリスチレンが水を吸収するので、
ホログラム内の部分的な損失がしばしば起こる。
さらに波長に対する焼成ステツプの間、ポリスチ
レンの層にゼラチンを付着することが困難である
のでゼラチンは収縮、剥離、および／または破れ
易い。
別の技術は、典型的には曲がつた巨大なガラス
やアクリルまたはその他の透明な材料である最終
の基体材料にゼラチンを固定することによつて開
始するものである。一般に大型でおよび／または
記録プロセスに不適当であるので、これらは被
覆、露出および／または処理が困難である。
やアクリルまたはその他の透明な材料である最終
の基体材料にゼラチンを固定することによつて開
始するものである。一般に大型でおよび／または
記録プロセスに不適当であるので、これらは被
覆、露出および／または処理が困難である。
したがつて、ガラス基体上に記載されたホログ
ラムのように安定であり、しかも薄膜を基礎とす
る基体上に生成されたホログラムの柔軟性を有す
るホログラムの製造方法が引き続き必要である。
使用効率を最大にするような優れた保湿性防壁特
性を有するホログラムもまた引き続き必要であ
る。
ラムのように安定であり、しかも薄膜を基礎とす
る基体上に生成されたホログラムの柔軟性を有す
るホログラムの製造方法が引き続き必要である。
使用効率を最大にするような優れた保湿性防壁特
性を有するホログラムもまた引き続き必要であ
る。
［発明の解決しようとする課題］
本発明の目的は、従来の技術におけるこれらお
よびその他の問題を解決することである。
よびその他の問題を解決することである。
本発明の別の目的は、ガラスのような非常に安
定な基体上のホログラフイツク要素の製造方法、
および本来の製造は困難または実行不可能である
別の基体上にその後それを転写する方法を提供す
ることである。
定な基体上のホログラフイツク要素の製造方法、
および本来の製造は困難または実行不可能である
別の基体上にその後それを転写する方法を提供す
ることである。
本発明の別の目的は、ホログラフイツク要素の
ための改良された保湿性防壁を提供することであ
る。
ための改良された保湿性防壁を提供することであ
る。
本発明のさらに別の目的は、ホログラム製造プ
ロセスの全体にわたつて非常に安定な基体にホロ
グラム記録材料をしつかりと付着し、その後最終
に使用する基体の付着させるために容易に取り除
くことのできるプロセスを提供することである。
ロセスの全体にわたつて非常に安定な基体にホロ
グラム記録材料をしつかりと付着し、その後最終
に使用する基体の付着させるために容易に取り除
くことのできるプロセスを提供することである。
本発明のさらに別の目的は、もとの基体から分
離できるが最後に使用する基体に転写する間十分
に支持されるホログラム要素の製造プロセスを提
供することである。
離できるが最後に使用する基体に転写する間十分
に支持されるホログラム要素の製造プロセスを提
供することである。
本発明の別の目的は、非常に薄く柔軟性のある
ホログラフイツク要素を常に生成し、一方ホログ
ラフイツク要素がガラスのような非常に安定な基
体に付着されているプロセスを提供することであ
る。
ホログラフイツク要素を常に生成し、一方ホログ
ラフイツク要素がガラスのような非常に安定な基
体に付着されているプロセスを提供することであ
る。
本発明のさらに別の目的は、ヘツドアツプデイ
スプレイおよびプラスチツク日除け板を含む各種
の自動車の応用および軍事応用において使用する
ために容易に転写され得るホログラフイツク要素
を生成するプロセスを提供することである。
スプレイおよびプラスチツク日除け板を含む各種
の自動車の応用および軍事応用において使用する
ために容易に転写され得るホログラフイツク要素
を生成するプロセスを提供することである。
［課題解決のための手段］
本発明のこれらおよびその他の目的は、一般に
使用される感光性重クロム酸塩ゼラチンをガラス
基体に直接ではなく、最初にガラスに被覆される
ポリエンベースウレタンまたはエポキシアクリレ
ートの薄い接着層上に被覆することによつて達成
される。この製造は、それから露出され処理され
波長に対して焼成される。その後、ポリエンベー
スウレタンまたはエポキシアクリレートの第２の
接着層がゼラチンの上部に被覆され、第１のポリ
エンベースウレタンまたはエポキシアクリレート
層とゼラチンと第２のポリエンベースウレタンま
たはエポキシアクリレート層とから構成される３
つの層は、ガラスから剥がされる。接着剤を使用
して、剥がされたホログラフイツク要素は、それ
から最終のおよび所望された基体の表面に付着さ
れる。
使用される感光性重クロム酸塩ゼラチンをガラス
基体に直接ではなく、最初にガラスに被覆される
ポリエンベースウレタンまたはエポキシアクリレ
ートの薄い接着層上に被覆することによつて達成
される。この製造は、それから露出され処理され
波長に対して焼成される。その後、ポリエンベー
スウレタンまたはエポキシアクリレートの第２の
接着層がゼラチンの上部に被覆され、第１のポリ
エンベースウレタンまたはエポキシアクリレート
層とゼラチンと第２のポリエンベースウレタンま
たはエポキシアクリレート層とから構成される３
つの層は、ガラスから剥がされる。接着剤を使用
して、剥がされたホログラフイツク要素は、それ
から最終のおよび所望された基体の表面に付着さ
れる。
ポリエンベースウレタンまたはエポキシアクリ
レート層の接着力または結合力によつて、ゼラチ
ンは処理のあらゆる段階の間ガラス基体にしつか
りと張り付いたままであり、それによつてガラス
に直接被覆されているゼラチンに匹敵する安定レ
ベルを達成する。一度処理が完成されれば、ゼラ
チンは厚いガラスから取り除くことができ、最終
の基体に付着可能である。取り除かれた材料の柔
軟性のために、最終の基体は２重に湾曲されるこ
とが可能であり、また最終基体がホログラフイツ
ク記録および処理ステツプの期間もとの基体とし
て使用されるときに、直面するであろう困難に注
意し気遣う事なく、その他の所望された特性を有
することが可能である。
レート層の接着力または結合力によつて、ゼラチ
ンは処理のあらゆる段階の間ガラス基体にしつか
りと張り付いたままであり、それによつてガラス
に直接被覆されているゼラチンに匹敵する安定レ
ベルを達成する。一度処理が完成されれば、ゼラ
チンは厚いガラスから取り除くことができ、最終
の基体に付着可能である。取り除かれた材料の柔
軟性のために、最終の基体は２重に湾曲されるこ
とが可能であり、また最終基体がホログラフイツ
ク記録および処理ステツプの期間もとの基体とし
て使用されるときに、直面するであろう困難に注
意し気遣う事なく、その他の所望された特性を有
することが可能である。
本発明の前述されたおよびその他の多くの特徴
と利点は、以下の詳細な説明および図面を参照す
ることによつて本発明がより理解されるとき明白
となるであろう。
と利点は、以下の詳細な説明および図面を参照す
ることによつて本発明がより理解されるとき明白
となるであろう。
［実施例］
本発明は、固く安定した基体上のホログラムお
よびホログラフイツク映像の製造方法およびその
後異なつた基体へのその転写方法を示す。改良さ
れた保湿性防壁の特性を有するホログラムもまた
考慮される。
よびホログラフイツク映像の製造方法およびその
後異なつた基体へのその転写方法を示す。改良さ
れた保湿性防壁の特性を有するホログラムもまた
考慮される。
第１図は、本発明の好ましい実施例の第１の処
理段階を示す。
理段階を示す。
第１図のように、薄膜のポリエン（polyene）
ベースのウレタンまたはエポキシアクリレートの
接着層２０はガラス基体５上に生成される。
ベースのウレタンまたはエポキシアクリレートの
接着層２０はガラス基体５上に生成される。
これは、まずホログラムが記録される領域の周
辺にスペーサを置くことによつてなされる。２つ
のスペーサ１０および１５が第１図に示されてい
るが、実際問題として、より多くの複数のスペー
サが使用され得ることが理解できる。
辺にスペーサを置くことによつてなされる。２つ
のスペーサ１０および１５が第１図に示されてい
るが、実際問題として、より多くの複数のスペー
サが使用され得ることが理解できる。
これらのスペーサは、ポリエンベースのウレタ
ンまたはエポキシアクリレートの接着層２０の所
望された厚さと等しくなければならない。0.005
から0.02インチの範囲の厚さが好ましい。
ンまたはエポキシアクリレートの接着層２０の所
望された厚さと等しくなければならない。0.005
から0.02インチの範囲の厚さが好ましい。
好ましい実施例において本発明者は、ポリエン
ベースのウレタンを使用している最新の形式で接
着層２０にノーランド（Norland）光学接着剤を
使用している。この材料は、ニユージヤージー州
のニユーブラウンシユワイクに在るノーランド社
の製品を使用することができる。65型（注文番号
NOA−65）は、ホログラフイツク要素が曲面に
最後に付着されるとき、最良の結果を得ることが
確かめられている。61型（注文番号NOA−61）
または65型は、ホログラフイツク要素が平面に付
着されるとき、最良の働きが確かめられている。
その他のポリエンベースウレタンオリゴマまたは
エポキシアクリレートオリゴマも、所望された接
着性を有する限りは使用可能である。
ベースのウレタンを使用している最新の形式で接
着層２０にノーランド（Norland）光学接着剤を
使用している。この材料は、ニユージヤージー州
のニユーブラウンシユワイクに在るノーランド社
の製品を使用することができる。65型（注文番号
NOA−65）は、ホログラフイツク要素が曲面に
最後に付着されるとき、最良の結果を得ることが
確かめられている。61型（注文番号NOA−61）
または65型は、ホログラフイツク要素が平面に付
着されるとき、最良の働きが確かめられている。
その他のポリエンベースウレタンオリゴマまたは
エポキシアクリレートオリゴマも、所望された接
着性を有する限りは使用可能である。
スペーサ１０および１５（および望ましいと考
えられる付加スペーサ）の配置の後、ポリエンベ
ースウレタンまたはエポキシアクリレートは、ガ
ラス基体５の表面上に注がれ、ポリエンベースウ
レタンまたはエポキシアクリレートの接着層２０
を形成させる。第１図に示すように、好ましくは
１／１６インチのポリスチレンまたはポリエステルで
ある被覆材料２５はポリエンベースウレタンまた
はエポキシアクリレートの接着層２０上に配置さ
れ、第２のガラス基体３０は最上部に配置され
る。
えられる付加スペーサ）の配置の後、ポリエンベ
ースウレタンまたはエポキシアクリレートは、ガ
ラス基体５の表面上に注がれ、ポリエンベースウ
レタンまたはエポキシアクリレートの接着層２０
を形成させる。第１図に示すように、好ましくは
１／１６インチのポリスチレンまたはポリエステルで
ある被覆材料２５はポリエンベースウレタンまた
はエポキシアクリレートの接着層２０上に配置さ
れ、第２のガラス基体３０は最上部に配置され
る。
その後、第１図に示すように、接着剤ポリエン
ベースウレタンまたはエポキシアクリレートは、
ガラス基体５の露出した下側８を通して紫外線４
０を照射することによつて硬化される。
7000uw／cm2を発する水銀アークランプで20分間
露出するのが最上であることが認められた。
ベースウレタンまたはエポキシアクリレートは、
ガラス基体５の露出した下側８を通して紫外線４
０を照射することによつて硬化される。
7000uw／cm2を発する水銀アークランプで20分間
露出するのが最上であることが認められた。
ポリエンベースウレタンまたはエポキシアクリ
レートを硬化した後、ガラス基体３０は取り除か
れ、被覆材料２５は剥がされる。
レートを硬化した後、ガラス基体３０は取り除か
れ、被覆材料２５は剥がされる。
ポリエンベースウレタンまたはエポキシアクリ
レートの接着層２０の露出した表面は、イソプロ
パノールによつて洗浄される。
レートの接着層２０の露出した表面は、イソプロ
パノールによつて洗浄される。
第２図のように、新しいスペーサ４５および５
０（および望ましいと考えられる付加スペーサ）
は、ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートの接着層２０の外周部の上部に配置され
る。これらのスペーサは、堆積される感光性ゼラ
チン材料の所望された厚さ（典型的には0.005乃
至0.020インチの間である）に等しくなければな
らない。
０（および望ましいと考えられる付加スペーサ）
は、ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートの接着層２０の外周部の上部に配置され
る。これらのスペーサは、堆積される感光性ゼラ
チン材料の所望された厚さ（典型的には0.005乃
至0.020インチの間である）に等しくなければな
らない。
重クロム酸塩ゼラチン溶液のような感光性材料
６５は、ポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレートの接着層２０の上面に注がれる。そ
れから、その上部にガラスカバー５５を置かれそ
の後標準的な冷却技術を施すことによつて鋳造さ
れる。その後ガラスカバー５５を容易に取り除く
ために、感光性材料６５と接触するガラスカバー
５５の表面は、シラン離型剤によつて処理されな
ければならない。このシラン離型剤は、第２図に
分離層６０として示されている。
６５は、ポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレートの接着層２０の上面に注がれる。そ
れから、その上部にガラスカバー５５を置かれそ
の後標準的な冷却技術を施すことによつて鋳造さ
れる。その後ガラスカバー５５を容易に取り除く
ために、感光性材料６５と接触するガラスカバー
５５の表面は、シラン離型剤によつて処理されな
ければならない。このシラン離型剤は、第２図に
分離層６０として示されている。
冷却後に、カバー５５（シラン離型剤の層６０
と共に）は取り除かれ、感光性材料６５は許容標
準的方法によつて乾燥される。感光性材料６５
は、当業者に良く知られた方法および技術にした
がつて露出され、処理され、波長に対して焼成さ
れる。特別な予防策は必要でない。
と共に）は取り除かれ、感光性材料６５は許容標
準的方法によつて乾燥される。感光性材料６５
は、当業者に良く知られた方法および技術にした
がつて露出され、処理され、波長に対して焼成さ
れる。特別な予防策は必要でない。
露出に続いて湿潤処理の前に、感光性材料６
５、ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレート接着層２０、ガラス基体５が水中の沃化
カリウム（または沃化ナトリウム）の１モル液内
に予め浸漬させても良いことは留意される。これ
がなされた場合、ポリエンベースウレタンまたは
エポキシアクリレートの接着層２０および感光性
材料６５の重クロム酸塩の汚染は減少される。
５、ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレート接着層２０、ガラス基体５が水中の沃化
カリウム（または沃化ナトリウム）の１モル液内
に予め浸漬させても良いことは留意される。これ
がなされた場合、ポリエンベースウレタンまたは
エポキシアクリレートの接着層２０および感光性
材料６５の重クロム酸塩の汚染は減少される。
処理および波長に対するある焼成の後に、第３
図に示すように第２のポリエンベースウレタンま
たはエポキシアクリレートの接着層９０が付着さ
れる。
図に示すように第２のポリエンベースウレタンま
たはエポキシアクリレートの接着層９０が付着さ
れる。
その過程は、上記のような第１の層２０のため
の過程と同様である。スペーサ７０および７５
（および望ましいとされる付加スペーサ）は、感
光性材料６５の周囲の上部に配置され、ポリエン
ベースウレタンまたはエポキシアクリレート（好
ましくは第１の層２０で使用されたのと同型）は
スペーサ間に注入され、被覆材料８０（好ましく
は1/16インチのポリスチレンまたはポリエステ
ル）はポリエンベースウレタンまたはエポキシア
クリレートの接着層９０上に配置され、ガラスカ
バー８５は最上部に配置され、そして全体の構造
は再び紫外線にさらされて硬化される。
の過程と同様である。スペーサ７０および７５
（および望ましいとされる付加スペーサ）は、感
光性材料６５の周囲の上部に配置され、ポリエン
ベースウレタンまたはエポキシアクリレート（好
ましくは第１の層２０で使用されたのと同型）は
スペーサ間に注入され、被覆材料８０（好ましく
は1/16インチのポリスチレンまたはポリエステ
ル）はポリエンベースウレタンまたはエポキシア
クリレートの接着層９０上に配置され、ガラスカ
バー８５は最上部に配置され、そして全体の構造
は再び紫外線にさらされて硬化される。
スペーサ７０および７５（および望ましいとさ
れる付加スペーサ）の幅は、感光性材料６５とそ
の周囲の２つのポリエンベースウレタンまたはエ
ポキシアクリレートの接着層２０および９０が結
合されて生じた幅が所望された適用の幅に等しく
なるのに十分でなければならない。好ましい実施
例において、スペーサ７０および７５の幅は
0.005乃至0.020インチの間である。
れる付加スペーサ）の幅は、感光性材料６５とそ
の周囲の２つのポリエンベースウレタンまたはエ
ポキシアクリレートの接着層２０および９０が結
合されて生じた幅が所望された適用の幅に等しく
なるのに十分でなければならない。好ましい実施
例において、スペーサ７０および７５の幅は
0.005乃至0.020インチの間である。
硬化に関しては、約５分間から10分間、約
7000uv／cm2の強度を有する水銀アークランプの
紫外線９５をガラス基体５の下側８から向けるこ
とが好ましい。（被覆材料８０がポリスチレンま
たはポリエステルならば紫外線を通さない。）ポ
リエンベースウレタンまたはエポキシアクリレー
ト接着層９０を硬化した後、ガラスカバー８５は
取り除かれ、被覆材料８０は剥がされる。
7000uv／cm2の強度を有する水銀アークランプの
紫外線９５をガラス基体５の下側８から向けるこ
とが好ましい。（被覆材料８０がポリスチレンま
たはポリエステルならば紫外線を通さない。）ポ
リエンベースウレタンまたはエポキシアクリレー
ト接着層９０を硬化した後、ガラスカバー８５は
取り除かれ、被覆材料８０は剥がされる。
その後、ホログラムは比較的安定であり、保存
され、さらに焼成、あるいはただちに使用される
ことができる。
され、さらに焼成、あるいはただちに使用される
ことができる。
使用するために、ホログラムおよびガラス基体
（つまり第４図に示された全体の構造）は約80℃
に熱せられなければならず、次に第４図に示され
ているように、接着層２０および９０と感光性材
料５は同時にガラス基体５の表面から剥がされ
る。
（つまり第４図に示された全体の構造）は約80℃
に熱せられなければならず、次に第４図に示され
ているように、接着層２０および９０と感光性材
料５は同時にガラス基体５の表面から剥がされ
る。
生成したホログラムは、優れた保湿性防壁の特
性を有する。ポリエンベースウレタンまたはエポ
キシアクリレート接着材さらに好ましくは接着層
２０および９０ですでに使用されている型の同様
の薄層（典型的には0.001インチ）を所望された
最終的な基体に適用することができる。その様な
最終的な適用の次に、さらに紫外線による硬化
は、7000uw／cm2の強度で行われホログラフイツ
ク要素のいずれかの表面に向かつて水銀アークラ
ンプにより約30分間が好ましい。所望するなら
ば、カバーは全面に置いても良い。
性を有する。ポリエンベースウレタンまたはエポ
キシアクリレート接着材さらに好ましくは接着層
２０および９０ですでに使用されている型の同様
の薄層（典型的には0.001インチ）を所望された
最終的な基体に適用することができる。その様な
最終的な適用の次に、さらに紫外線による硬化
は、7000uw／cm2の強度で行われホログラフイツ
ク要素のいずれかの表面に向かつて水銀アークラ
ンプにより約30分間が好ましい。所望するなら
ば、カバーは全面に置いても良い。
以上本発明の典型的な実施例を記載してきたけ
れども、典型的な実施例のみを説明し材料および
プロセスパラメータのすべてを余すところ無く記
載したわけではなく、本発明の技術的範囲内にお
いて各種のその他の代替手段や応用や修正を行う
ことができるのは、当業者にとつて明白である。
従つて、本発明はここに記載された特別な実施例
によつて限定されるものではなく、特許請求の範
囲によつてのみ限定される。
れども、典型的な実施例のみを説明し材料および
プロセスパラメータのすべてを余すところ無く記
載したわけではなく、本発明の技術的範囲内にお
いて各種のその他の代替手段や応用や修正を行う
ことができるのは、当業者にとつて明白である。
従つて、本発明はここに記載された特別な実施例
によつて限定されるものではなく、特許請求の範
囲によつてのみ限定される。
第１図乃至第４図は、本発明にしたがつて製造
方法の好ましい実施例を示す。 第１図はガラス
基体上のポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレート接着材料の薄層の鋳造を示す。第２
図はポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレート接着層の上部の薄いゼラチン層の鋳造を
示す。第３図は、薄いゼラチン層の上部の第２の
薄いポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレート接着層の鋳造を示す。第４図は、ガラス
基体から剥がされる２つの薄いポリエンベースウ
レタンまたはエポキシアクリレート接着層の間に
挟まれたゼラチン層を示す。 ５，３０……ガラス基体、１０，１５，４５，
５０，７０，７５……スペーサ、２０，９０……
接着層、２５，８０……被覆材料、４０……紫外
線、５５，８５……ガラスカバー、６０……分離
層、６５……感光性材料。
方法の好ましい実施例を示す。 第１図はガラス
基体上のポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレート接着材料の薄層の鋳造を示す。第２
図はポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレート接着層の上部の薄いゼラチン層の鋳造を
示す。第３図は、薄いゼラチン層の上部の第２の
薄いポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレート接着層の鋳造を示す。第４図は、ガラス
基体から剥がされる２つの薄いポリエンベースウ
レタンまたはエポキシアクリレート接着層の間に
挟まれたゼラチン層を示す。 ５，３０……ガラス基体、１０，１５，４５，
５０，７０，７５……スペーサ、２０，９０……
接着層、２５，８０……被覆材料、４０……紫外
線、５５，８５……ガラスカバー、６０……分離
層、６５……感光性材料。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ａ ポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレートの薄層を基体の表面に設け、 ｂ ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートの前記薄層の上部に感光性材料の薄層
を設け、 ｃ この感光性材料中にホログラム潜像を光によ
り記録し、 ｄ 前記感光性材料を処理して感光性材料中にホ
ログラム像を記録することを特徴とする柔軟性
薄層ホログラムの製造方法。 ２ 前記ポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレートが光学接着剤である請求項１記載の
方法。 ３ 前記光学接着剤の注入された厚さが0.005イ
ンチ以上、0.02インチ以下である請求項２記載の
方法。 ４ ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートの薄層を設ける前記ステツプが、 ａ 前記基体の表面上に１個以上のスペーサを配
置し、 ｂ ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートを前記１個以上のスペーサの付近に注
入し、 ｃ 前記注入されたポリエンベースウレタンまた
はエポキシアクリレートを薄板材料によつて被
覆し、 ｄ 平坦で重い材料を前記薄層材料の上に置き、 ｅ 前記ポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレートを硬化させる請求項２記載の方
法。 ５ ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートの薄層を設ける前記ステツプが、前記ポ
リエンベースウレタンまたはエポキシアクリレー
トを紫外線によつて照射するステツプを含む請求
項１記載の方法。 ６ ポリエンベースウレタンまたはエポキシアク
リレートの薄層が前記基体上に設けられた後、イ
ソプロパノールによつて洗浄される請求項１記載
の方法。 ７ 前記ポリエンベースウレタンまたはエポキシ
アクリレートが光学接着剤である請求項６記載の
方法。 ８ 前記感光性材料を処理するステツプが前記感
光性材料を露出し、その後前記材料を湿潤処理す
るステツプを含み、前記基体とポリエンベースウ
レタンまたはエポキシアクリレートと感光性材料
が前記露出と湿潤処理ステツプとの間においてヨ
ウ化カリウムまたはヨウ化ナトリウムの液内に予
め浸漬される請求項１記載の方法。 ９ 前記感光性材料を処理するステツプに続き、
感光性材料の前記層の最上部にポリエンベースウ
レタンまたはエポキシアクリレートの第２の層を
設ける付加ステツプを含む請求項１記載の方法。 １０ ポリエンベースウレタンまたはエポキシア
クリレートの前記第２の層を設けるステツプにお
いて、ポリエンベースウレタンまたはエポキシア
クリレートの前記第２の層を紫外線により照射す
る請求項９記載の方法。 １１ ポリエンベースウレタンまたはエポキシア
クリレートの前記層および感光性材料の層を前記
基体の表面から剥がし、その後それをポリエンベ
ースウレタンまたはエポキシアクリレートの別の
層の適用によつて異なつた基体に固定するステツ
プを含む請求項１記載の方法。 １２ 前記感光性材料と前記ポリエンベースウレ
タンまたはエポキシアクリレートの層が紫外線の
照射によつてその後硬化される請求項１１記載の
方法。 １３ ａ 光学接着剤の薄層を基体の表面に設
け、 ｂ この光学接着剤薄層を硬化し、 ｃ 光学接着剤の前記薄層の上部に感光性ゼラチ
ン薄層を置き、 ｄ ホログラム映像を記録するように前記感光性
ゼラチン薄層を処理し、 ｅ 前記感光性ゼラチン薄層の上部に光学接着剤
の第２の薄層を設け、 ｆ 光学接着剤の第２の薄層を硬化させ、 ｇ 前記光学接着剤の第１の層と第２の層および
前記ゼラチンの層を前記基体から剥がすステツ
プを含むことを特徴とする柔軟性薄膜ホログラ
ムの製造方法。 １４ ポリエンベースウレタンまたはエポキシア
クリレートから構成された２つの層と、それら２
つの層の間に挟まれている感光性重クロム酸塩ゼ
ラチンの層とを具備していることを特徴とする柔
軟性薄膜ホログラム。 １５ 前記ポリエンベースウレタンまたはエポキ
シアクリレートが光学接着剤である請求項１４記
載の柔軟性薄層ホログラム。 １６ 前記ポリエンベースウレタンまたはエポキ
シアクリレートの少なくとも一方の厚さが0.001
インチ乃至0.004インチである請求項１５記載の
柔軟性薄膜ホログラム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US226,591 | 1988-08-01 | ||
| US07/226,591 US4990415A (en) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | Thin foil hologram |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273390A JPH0273390A (ja) | 1990-03-13 |
| JPH059793B2 true JPH059793B2 (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=22849542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1198096A Granted JPH0273390A (ja) | 1988-08-01 | 1989-08-01 | 柔軟性薄膜ホログラムおよびその製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4990415A (ja) |
| EP (1) | EP0353603B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0273390A (ja) |
| CA (1) | CA1328753C (ja) |
| DE (1) | DE68918370T2 (ja) |
| DK (1) | DK174777B1 (ja) |
| ES (1) | ES2014832A6 (ja) |
| IL (1) | IL90802A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5391247A (en) * | 1992-01-24 | 1995-02-21 | Revlon Consumer Products Corporation | Hot stamping glass |
| DE4240735C2 (de) * | 1992-12-03 | 1996-07-11 | Computer Ges Konstanz | Optische Vorrichtung zur Bereitstellung von Meßsignalen |
| US5631107A (en) * | 1994-02-18 | 1997-05-20 | Nippondenso Co., Ltd. | Method for producing optical member |
| US5464690A (en) * | 1994-04-04 | 1995-11-07 | Novavision, Inc. | Holographic document and method for forming |
| US5499117A (en) * | 1994-08-31 | 1996-03-12 | Hughes Aircraft Company | Transfer of photopolymer hologram from a curve surface to another curve surface |
| US5723945A (en) * | 1996-04-09 | 1998-03-03 | Electro Plasma, Inc. | Flat-panel display |
| US6141123A (en) * | 1998-05-29 | 2000-10-31 | Denso Corporation | Hologram and process for producing hologram |
| US6497778B1 (en) | 2000-04-19 | 2002-12-24 | Novavision, Inc. | Method for making holographic foil |
| US6638386B2 (en) | 2000-04-19 | 2003-10-28 | Novavision, Inc. | Method for making holographic foil |
| JP2002236217A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-08-23 | Denso Corp | ホログラムスクリーン |
| US7173744B1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-02-06 | Inphase Technologies, Inc. | Article comprising holographic medium between substrates having environmental barrier seal and process for preparing same |
| US20100014133A1 (en) * | 2008-07-21 | 2010-01-21 | Inphase Technologies, Inc. | Method to modify and apply edge seal materials in laminated media |
| US10642043B2 (en) * | 2016-07-01 | 2020-05-05 | Intel Corporation | Holographic optical element design and manufacturing |
| JP7358846B2 (ja) * | 2019-08-28 | 2023-10-11 | セイコーエプソン株式会社 | 光学素子の製造方法、光学素子及び表示装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2319102A (en) * | 1938-06-10 | 1943-05-11 | Gen Aniline & Film Corp | Adhesive |
| US3560210A (en) * | 1967-01-13 | 1971-02-02 | Ibm | Method of recording a plurality of holograms and separable emulsion exposure package therefor |
| JPS4732687U (ja) * | 1971-04-19 | 1972-12-12 | ||
| JPS53143634A (en) * | 1977-05-20 | 1978-12-14 | Ono Gijiyutsu Kenkiyuushiyo Yu | Method of protecting indications of picture face |
| DE3121563A1 (de) * | 1981-05-30 | 1983-02-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Elektrophtographisches aufzeichnungsmaterial und verfahren zu seiner herstellung |
| US4509817A (en) * | 1983-08-01 | 1985-04-09 | Ncr Corporation | Method for correcting volume-phase-gelatin holograms Bragg's angle deviation |
| US4815800A (en) * | 1984-12-21 | 1989-03-28 | Hughes Aircraft Company | Flare reduction in holograms |
| US4854674A (en) * | 1985-02-27 | 1989-08-08 | Hughes Aircraft Company | Process for improving holographic efficiency |
| US4799746A (en) * | 1985-02-27 | 1989-01-24 | Hughes Aircraft Company | Efficient holograms and method for making same |
| JPS63143579A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 | Nissha Printing Co Ltd | ホログラム転写材 |
| US4789211A (en) * | 1987-02-13 | 1988-12-06 | Hughes Aircraft Company | Hologram stabilizing assembly and method |
-
1988
- 1988-08-01 US US07/226,591 patent/US4990415A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-06-29 IL IL90802A patent/IL90802A/xx unknown
- 1989-07-13 CA CA000605624A patent/CA1328753C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-25 DE DE68918370T patent/DE68918370T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-25 EP EP89113733A patent/EP0353603B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-31 ES ES8902709A patent/ES2014832A6/es not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-31 DK DK198903753A patent/DK174777B1/da not_active IP Right Cessation
- 1989-08-01 JP JP1198096A patent/JPH0273390A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0353603A2 (en) | 1990-02-07 |
| IL90802A0 (en) | 1990-01-18 |
| DK375389A (da) | 1990-02-02 |
| JPH0273390A (ja) | 1990-03-13 |
| CA1328753C (en) | 1994-04-26 |
| EP0353603A3 (en) | 1991-09-25 |
| ES2014832A6 (es) | 1990-07-16 |
| US4990415A (en) | 1991-02-05 |
| DE68918370D1 (de) | 1994-10-27 |
| DK375389D0 (da) | 1989-07-31 |
| DE68918370T2 (de) | 1995-01-19 |
| IL90802A (en) | 1993-06-10 |
| EP0353603B1 (en) | 1994-09-21 |
| DK174777B1 (da) | 2003-11-03 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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