JPS6375781A - ホログラムの製造方法 - Google Patents
ホログラムの製造方法Info
- Publication number
- JPS6375781A JPS6375781A JP22147486A JP22147486A JPS6375781A JP S6375781 A JPS6375781 A JP S6375781A JP 22147486 A JP22147486 A JP 22147486A JP 22147486 A JP22147486 A JP 22147486A JP S6375781 A JPS6375781 A JP S6375781A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hologram
- photosensitive layer
- cover member
- silicone oil
- forming body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はホログラムの製造方法に関するものである。
(従来技術)
ガラス等の基板上に感光層を形成してなる写真乾板でホ
ログラムを作製するとき、基板裏面からの反射光による
ゴーストホログラムの形成を防止するために、基板裏面
にハレーション防止層を形成する方法や、基板裏面から
の反射光のみならず、感光層と空気との界面からの反射
光によるゴーストホログラムの形成をも防止するために
、写真乾板をキシレン等の液槽中に浸し露光する方法が
あった・ (発明が解決しようとする問題点) 前者の従来技術ではハレーション防止層として吸収性色
素を用いているため、写真乾板の感光層側と基板の裏面
側の両方から照射しホログラムを形成するりツブマン型
ホログラムの作製には利用できない欠点があった。
ログラムを作製するとき、基板裏面からの反射光による
ゴーストホログラムの形成を防止するために、基板裏面
にハレーション防止層を形成する方法や、基板裏面から
の反射光のみならず、感光層と空気との界面からの反射
光によるゴーストホログラムの形成をも防止するために
、写真乾板をキシレン等の液槽中に浸し露光する方法が
あった・ (発明が解決しようとする問題点) 前者の従来技術ではハレーション防止層として吸収性色
素を用いているため、写真乾板の感光層側と基板の裏面
側の両方から照射しホログラムを形成するりツブマン型
ホログラムの作製には利用できない欠点があった。
また後者の従来技術では、装置が大型化するほか、ホロ
グラム作製時は液浸して露光し1作製されたホログラム
を使用するときは非液浸となるため、作製時と使用時で
光学的条件が大きく異なるため、収差が発生するという
欠点があった。
グラム作製時は液浸して露光し1作製されたホログラム
を使用するときは非液浸となるため、作製時と使用時で
光学的条件が大きく異なるため、収差が発生するという
欠点があった。
(発明の目的)
本発明の目的は、写真乾板等のホログラム形成体の表面
及び裏面からの反射光によるゴーストホログラムの形成
を防止する新たなホログラ11の製造方法を提供するこ
とにある。
及び裏面からの反射光によるゴーストホログラムの形成
を防止する新たなホログラ11の製造方法を提供するこ
とにある。
またより限定的実施態様においては、ホログラム作製時
と使用時の光学的条件の変化が生じないホログラムの製
造方法を提供することを目的としている。
と使用時の光学的条件の変化が生じないホログラムの製
造方法を提供することを目的としている。
(問題点を解決するための手段)
上記問題、凸を解決するため、この発明は、ホログラム
形成体の感光層側にシリコンオイルを介在させてカバー
部材を密着させる段階と、前記感光層を露光する段階と
、前記カバー部材を剥離し、前記シリコンオイルを溶剤
で除去する段階と、露光された前記感光層を現像する段
階とからなるホログラムの製造方法としている。
形成体の感光層側にシリコンオイルを介在させてカバー
部材を密着させる段階と、前記感光層を露光する段階と
、前記カバー部材を剥離し、前記シリコンオイルを溶剤
で除去する段階と、露光された前記感光層を現像する段
階とからなるホログラムの製造方法としている。
(作 用)
カバー部材と感光層間にシリコンオイルを介在させるた
め、感光層と外界との界面における屈折率を低減させ、
反射光の発生を低減できる。
め、感光層と外界との界面における屈折率を低減させ、
反射光の発生を低減できる。
(実施例)
第1図に示す第1の実施例では、ホログラム形成体1は
透明基板であるガラス基板3の一面に多層反射防止膜4
が施され、他面に例えば2クロム酸ゼラチンからなる感
光層2が形成されている。
透明基板であるガラス基板3の一面に多層反射防止膜4
が施され、他面に例えば2クロム酸ゼラチンからなる感
光層2が形成されている。
一方、カバー部材10は透明板であるガラス板11の一
面に多層反射防止膜12が施され、他面はガラス生地の
ままとされている。
面に多層反射防止膜12が施され、他面はガラス生地の
ままとされている。
上記ホログラム形成体1の露光時に、その感光M2と、
カバー部材10の他面11aとの間にシリコンオイル2
0を挟んで両者を貼り合わせる。シリコンオイルの一例
として、メチルフェニルシリコンオイル、例えば信越シ
リコン1KF50 (粘i 1000±100C5(2
5℃)、屈折率1.420〜1,430(25℃))を
利用する。
カバー部材10の他面11aとの間にシリコンオイル2
0を挟んで両者を貼り合わせる。シリコンオイルの一例
として、メチルフェニルシリコンオイル、例えば信越シ
リコン1KF50 (粘i 1000±100C5(2
5℃)、屈折率1.420〜1,430(25℃))を
利用する。
貼り合わせ後、この乾板セットを水平に置き、余分なシ
リコンオイル20をガラス基板3の自重で追い出す。
リコンオイル20をガラス基板3の自重で追い出す。
30分放置後、エーテル、ヘキサンあるいはアセトン等
で余分なシリコンオイル20を拭き取る。
で余分なシリコンオイル20を拭き取る。
乾板セットを露光用の図外の乾板ホルダーに振動などで
動かないように取り付けて1時間以上放置する。その後
参照光R1物体光Oを乾板セットに照射し露光する。露
光後、乾板セットをホルダーからはずし1図外の暗笛中
に一晩放置しておく。
動かないように取り付けて1時間以上放置する。その後
参照光R1物体光Oを乾板セットに照射し露光する。露
光後、乾板セットをホルダーからはずし1図外の暗笛中
に一晩放置しておく。
カバー部材10を剥がしたのち、シリコンオイル20が
付着しているホログラム形成体をシリコンオイル溶剤と
しての例えばアセトン浴中に浸し、シリコンオイル20
を溶解除去する。その後、感光層2を水洗し、残ってい
るシリコンオイル20を洗い流し、周知の現象処理に移
る。
付着しているホログラム形成体をシリコンオイル溶剤と
しての例えばアセトン浴中に浸し、シリコンオイル20
を溶解除去する。その後、感光層2を水洗し、残ってい
るシリコンオイル20を洗い流し、周知の現象処理に移
る。
シリコンオイルの溶剤としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、四塩化炭素
、クロロフォルム、エチルエーテル、メチルエチルケト
ン、エチルアセテート、ブチルアセテート等を利用する
と常温で完全にシリコンオイルを溶解除去できる。
キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、四塩化炭素
、クロロフォルム、エチルエーテル、メチルエチルケト
ン、エチルアセテート、ブチルアセテート等を利用する
と常温で完全にシリコンオイルを溶解除去できる。
また、上述のアセトンのほか、ブタノール、氷酢酸等を
溶剤として利用すれば常温でシリコンオイル20を一部
溶解でき、その後の水洗で完全にシリコンオイルを除去
できる。
溶剤として利用すれば常温でシリコンオイル20を一部
溶解でき、その後の水洗で完全にシリコンオイルを除去
できる。
2クロム酸ゼラチンを感光層とする乾板ではゼラチン層
の耐湿性が劣るため、ホログラム作製後の乾板にカバー
部材10をエポキシ樹脂、ポリエステル樹脂またはアク
リル樹脂等からなる透明な光学用接着剤で接着させるこ
とにより、ゼラチンからなる感光層2を保護できる。そ
して乾板露光時に利用したカバー部材IOを感光層の保
護に利用すればホログラム作製時と使用時との光学条件
が同一となるため収差の発生を防止できる利点がある。
の耐湿性が劣るため、ホログラム作製後の乾板にカバー
部材10をエポキシ樹脂、ポリエステル樹脂またはアク
リル樹脂等からなる透明な光学用接着剤で接着させるこ
とにより、ゼラチンからなる感光層2を保護できる。そ
して乾板露光時に利用したカバー部材IOを感光層の保
護に利用すればホログラム作製時と使用時との光学条件
が同一となるため収差の発生を防止できる利点がある。
なお、上記実施例では感光層として2クロム酸ゼラチン
を例示したが、感光層としては写真乳剤や、ポリビニル
カルバゾルや、カルコゲナイドあるいは結晶を利用する
ものにも本発明は応用できる。
を例示したが、感光層としては写真乳剤や、ポリビニル
カルバゾルや、カルコゲナイドあるいは結晶を利用する
ものにも本発明は応用できる。
第2図は本発明の第2の実施例を示すもので。
第1の実施例と同一もしくは均等の構成要素には同一の
符号を付して以下の説明を省略する。
符号を付して以下の説明を省略する。
この第2実施例では、カバー部材11の物体光0、参照
光Rの入射側には反射防止処理は施していない。露光時
に物体光0、参照光Rともカバー部材11側から入射さ
せる。
光Rの入射側には反射防止処理は施していない。露光時
に物体光0、参照光Rともカバー部材11側から入射さ
せる。
この構成で上述の第1実施例と同様の方法で作製された
ホログラム形成体1の感光層2にガラス板11を接着す
れば、作製時と同じガラス板11を感光層2の保護部材
として利用するため収差発生は防止できる。
ホログラム形成体1の感光層2にガラス板11を接着す
れば、作製時と同じガラス板11を感光層2の保護部材
として利用するため収差発生は防止できる。
第3図は本発明の第3の実施例を示すもので。
ホログラム形成体1のガラス基板3には反射防止処理は
していないが、カバーガラス11に反射防止膜12を設
けである。そしてホログラム作製時は物体光0、参照光
Rはともにホログラム形成体1のガラス基板3側から入
射される。
していないが、カバーガラス11に反射防止膜12を設
けである。そしてホログラム作製時は物体光0、参照光
Rはともにホログラム形成体1のガラス基板3側から入
射される。
本実施例によれば、従来ガラス基板の裏面にハレーショ
ン防止膜を施していたホログラム形成体では感光層側か
らしか照射できなかったのに対し、基板3側から照射で
きる。またシリコンオイルを介してカバーガラスを密着
させてホログラム形成体を作製するためホログラム形成
体作製時の感光層の膜面の凹凸に起因するホログラムの
散乱作用が低減できる。
ン防止膜を施していたホログラム形成体では感光層側か
らしか照射できなかったのに対し、基板3側から照射で
きる。またシリコンオイルを介してカバーガラスを密着
させてホログラム形成体を作製するためホログラム形成
体作製時の感光層の膜面の凹凸に起因するホログラムの
散乱作用が低減できる。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によればホログラム形成体
の基板や感光層からの反射光によるゴーストホログラム
の形成を防止できる。
の基板や感光層からの反射光によるゴーストホログラム
の形成を防止できる。
また、カバー部材を感光層の保護部材として利用すると
きは、ホログラム作製時と使用時の光学条件を同一にで
きるため収差の発生を防止できる。
きは、ホログラム作製時と使用時の光学条件を同一にで
きるため収差の発生を防止できる。
第1図ないし第3図はそれぞれ本発明に係るホログラム
の製造方法の第1ないし第3実施例におけるホログラム
露光時の乾板セットの構成を示す図である。 1・・・ホログラム形成体 2・・・感光層3・・・ガ
ラス基板 4,12・・・反射防止膜10・・・
カバー部材 11・・・ガラス板20・・・シリ
コンオイル R・・・参照光O・・・物体光 第1図 1 :ホロ7ラム形成体 R−讐鴨’i2:應
九眉 O:物体丸 3 ;刀゛ラス騙 4:95層反鼾?ろ庄原 10:カノ\−邦社 11 : 刀゛ラス半々 12−タタ層反1++乃止■ 20ニジ’lコンオイjし
の製造方法の第1ないし第3実施例におけるホログラム
露光時の乾板セットの構成を示す図である。 1・・・ホログラム形成体 2・・・感光層3・・・ガ
ラス基板 4,12・・・反射防止膜10・・・
カバー部材 11・・・ガラス板20・・・シリ
コンオイル R・・・参照光O・・・物体光 第1図 1 :ホロ7ラム形成体 R−讐鴨’i2:應
九眉 O:物体丸 3 ;刀゛ラス騙 4:95層反鼾?ろ庄原 10:カノ\−邦社 11 : 刀゛ラス半々 12−タタ層反1++乃止■ 20ニジ’lコンオイjし
Claims (4)
- (1)ホログラム形成体の感光層側にシリコンオイルを
介在させてカバー部材を密着させる段階と、前記感光層
を露光する段階と、 前記カバー部材を剥離し、前記シリコンオイルを溶剤で
除去する段階と、 露光された前記感光層を現像する段階とからなるホログ
ラムの製造方法。 - (2)ホログラム形成体には感光層と反対側に反射防止
処理がなされ、カバー部材にはシリコンオイルと反対側
に反射防止処理がなされるとともに、参照光はカバー部
材の外側から照射され、物体光はホログラム形成体の外
側から照射され露光されることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載のホログラムの製造方法。 - (3)ホログラム形成体には感光層と反対側に反射防止
処理がなされるとともに、参照光および物体光がともに
カバー部材の外側から照射され露光されることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のホログラムの製造方法
。 - (4)カバー部材にはシリコンオイルと反対側に反射防
止処理がなされるとともに、参照光および物体光がとも
にホログラム形成体の外側から照射され露光されること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のホログラムの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22147486A JPS6375781A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22147486A JPS6375781A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | ホログラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6375781A true JPS6375781A (ja) | 1988-04-06 |
Family
ID=16767282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22147486A Pending JPS6375781A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6375781A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5604611A (en) * | 1991-10-09 | 1997-02-18 | Nippondenso Co., Ltd. | Hologram |
| US5985490A (en) * | 1992-03-31 | 1999-11-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335721A (en) * | 1976-09-14 | 1978-04-03 | Matsushita Electric Works Ltd | Process for production of inorganic bedplate |
| JPS60112003A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | 反射型ホログラム |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP22147486A patent/JPS6375781A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335721A (en) * | 1976-09-14 | 1978-04-03 | Matsushita Electric Works Ltd | Process for production of inorganic bedplate |
| JPS60112003A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | 反射型ホログラム |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5604611A (en) * | 1991-10-09 | 1997-02-18 | Nippondenso Co., Ltd. | Hologram |
| US5985490A (en) * | 1992-03-31 | 1999-11-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
| US6291109B1 (en) | 1992-03-31 | 2001-09-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
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