JPH06101016A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 少なくとも最終の濯ぎ槽と乾燥室を外気と遮
断して、被処理物上に塵等が付着することを防止できる
洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄液により被処理物Ｓを洗浄する洗浄槽
１、２と、濯ぎ液により被処理物Ｓから洗浄液を濯ぐ１
以上の濯ぎ槽４、５と、濯ぎ液を乾燥させる乾燥室６と
を備えてなる洗浄装置において、前記１以上の濯ぎ槽
４、５の内の少なくとも最終の濯ぎ槽５と前記乾燥室６
とを外気から遮断されクリーンエアが満たされた遮断体
３内に収納し、該遮断体３の入口に外気とクリーンエア
とを区切る濯ぎ液が満たされた搬入槽７を配置し、乾燥
室６に真空引き可能な排気装置２５とクリーンエア側に
設けた扉２６と外気側に設けた扉２７を設けることによ
って、少なくとも最終の濯ぎ槽５と乾燥室６を外気と遮
断して、被処理物Ｓ上に塵等が付着することを防止でき
るようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも最終の濯ぎ
槽と乾燥室を外気と遮断して、被処理物上に塵等が付着
することを防止できる洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】工具、機械部品等の高機能化が求められ
るなか、工具、機械部品等の表面にイオンプレーティン
グ法によりＴｉＮ、ＴｉＣＮ等の硬質皮膜をコーティン
グし、性能を向上させることが行われている。この場
合、工具等の被処理物の表面に切削油等が付着している
と、膜剥がれが生じたり、膜に曇りができたりする。そ
こで、従来、図２に示すような洗浄装置により、イオン
プレーティングを行う前に被処理物の洗浄を行ってい
る。図２により、この洗浄装置を説明する。

【０００３】図２において、この洗浄装置は、第１洗浄
槽５１と、第２洗浄槽５２と、第１濯ぎ槽５３と、第２
濯ぎ槽５４と、乾燥室５５とを大気雰囲気中に連続配置
してなるものであり、パレットＰに載せられた工具等の
被処理物Ｓは、図示しない搬送装置によって、第１洗浄
槽５１から乾燥室５５まで順次搬送されるようになって
いる。

【０００４】この洗浄装置は、第１洗浄槽５１ではアル
カリ性の洗浄液でパレットＰに載せられた被処理物Ｓの
表面に付着した切削油等を洗い落とすための粗洗いを行
い、第２洗浄槽５２では界面活性剤等が添加されたアル
カリ性の洗浄液で付着物を完全に洗い落とすようになっ
ている。そして、第１濯ぎ槽５３では純水により被処理
物Ｓに付着した洗浄液の粗洗いを行い、第２濯ぎ槽５４
では純水により洗浄液を完全に洗い落とすようになって
いる。そして、乾燥室５５では被処理物Ｓに付着した純
水を熱風乾燥、真空乾燥等により水切り乾燥するように
なっている。なお、フロンによるオゾン層の破壊が問題
となる以前は、第１洗浄槽５１では、洗い落とす油脂類
との分離が容易で第２洗浄槽５２の洗浄液に与えるダメ
ージが少ないことから、フロン溶剤が広く用いられてい
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来の技術で述べた洗
浄装置では、濯ぎ槽５３、５４と乾燥室５６は大気雰囲
気中に配置されている。このため、濯ぎ液が大気の塵で
汚染され、また、水切り乾燥中に被処理物Ｓ上の水滴が
塵を吸着することになる結果、塵が残渣となって被処理
物Ｓ上に付着し、イオンプレーティングにおいて不良皮
膜が発生する原因になるという問題点を有している。

【０００６】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、少なくとも最終の濯ぎ槽と乾燥室を外気と遮断
して、被処理物上に塵等が付着することを防止できる洗
浄装置を提供しようとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するため
に、本発明の洗浄装置は、洗浄液により被処理物を洗浄
する洗浄槽と、濯ぎ液により被処理物から洗浄液を濯ぐ
１以上の濯ぎ槽と、濯ぎ液を乾燥させる乾燥室とを備え
てなる洗浄装置において、前記１以上の濯ぎ槽の内の少
なくとも最終の濯ぎ槽と前記乾燥室とを外気から遮断さ
れクリーンエアが満たされた遮断体内に収納し、該遮断
体の入口に外気とクリーンエアとを区切る濯ぎ液が満た
された搬入槽を配置し、乾燥室に真空引き可能な排気装
置とクリーンエア側に設けた扉と外気側に設けた扉を設
けたものである。

【０００８】

【作用】少なくとも最終の濯ぎ槽と乾燥室とは外気から
遮断されてクリーンエアが満たされた遮断体内に収納さ
れ、遮断体の入口には外気とクリーンエアとを区切る濯
ぎ液が満たされた搬入槽が配置され、遮断体の出口とな
る乾燥室はクリーンエア側と外気側に扉が設けられて真
空引き可能となっているため、遮断体内に収納された濯
ぎ槽と乾燥室は外気と接触することはなく、被処理物
は、塵等が付着しない状態で最終の濯ぎ槽から乾燥室に
搬入され、塵等が付着しない状態で乾燥室で乾燥された
後搬出される。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１は本発明の洗浄装置の模式図である。

【００１０】図１において、この洗浄装置は、第１洗浄
槽１と、第２洗浄槽２と、遮断体３と、遮断体３内に収
納された第１濯ぎ槽４と、第２濯ぎ槽５と、乾燥室６
と、遮断体３の入口に配置された搬入槽７とを備えてな
るものである。

【００１１】遮断体３は外気から遮断されており、遮断
体３内にはブロア１１から供給されるクリーンエアが満
たされている。遮断体３には、工具等の被処理物Ｓが載
せられたパレットＰを把持可能なチャック１２を有する
搬送装置１３が設けられており、この搬送装置１３によ
って、被処理物Ｓが載せられたパレットＰは、搬入槽７
のクリーンエア側７ａから、第１濯ぎ槽４、第２濯ぎ槽
５、乾燥室６へと順次搬送されるようになっている。

【００１２】搬入槽７には純水が満たされており、ま
た、中程には水封カーテン１６が設けられている。そし
て、この純水と水封カーテン１６によって、外気と遮断
体３内のクリーンエアとは区切られるようになってい
る。搬入槽７には搬入コンベヤ１８が設けられており、
純水中で外気側７ｂからクリーンエア側７ａにパレット
Ｐを搬送するようになっている。この搬入槽７は濯ぎ槽
を兼ねており、純水発生装置２１から純水が供給される
ようになっていて、搬入コンベヤ１８による被処理物Ｓ
の搬送中に、洗浄槽１、２での洗浄の際に被処理物Ｓに
付着した洗浄液の粗濯ぎが行われるようになっている。
そして、排水は排水処理装置２２に送られるようになっ
ている。

【００１３】第１濯ぎ槽４と第２濯ぎ槽５にも純水発生
装置２１から純水が供給されるようになっており、第１
濯ぎ槽４では中濯ぎ、第２濯ぎ槽５では最終濯ぎが行え
るようになっている。そして、排水は排水処理装置２２
に送られるようになっている。

【００１４】乾燥室６には真空ポンプ２５が接続されて
おり、乾燥室６のクリーンエア側と外気側には扉２６、
２７が設けられている。そして、両扉２６、２７を閉じ
た状態で真空ポンプ２５を作動させると、乾燥室６内は
真空引きされるようになっている。この乾燥室６には排
出コンベヤ２８が設けられており、パレットＰを、乾燥
室６内から外気側の出口コンベヤ２９に搬出することが
できるようになっている。

【００１５】第１洗浄槽１には洗浄液供給装置３３から
アルカリ性の洗浄液が供給されるようになっており、パ
レットＰに載せられた被処理物Ｓの表面に付着した切削
油等を洗い落とすための粗洗いを行えるようになってい
る。第２洗浄槽２には洗浄液供給装置３４から界面活性
剤等が添加されたアルカリ性の洗浄液が供給されるよう
になっており、付着物を完全に洗い落とすことができる
ようになっている。そして、第１洗浄槽１と第２洗浄槽
２での廃液は廃液処理装置３５に送られるようになって
いる。洗浄槽１、２の上方には、被処理物Ｓが載せられ
たパレットＰを、入口コンベヤ３８から、第１洗浄槽
１、第２洗浄槽２、搬入槽７の外気側７ｂへと順次搬送
する搬送装置３９が設けられている。なお、各槽での洗
浄効果を高めるために、第１洗浄槽１と第２洗浄槽２に
はヒータＨが設けられており、第１洗浄槽１から第２濯
ぎ槽６までの各槽には超音波発信機Ｕが設けられてい
る。

【００１６】つぎに、上述した構造の洗浄装置の作動を
説明する。被処理物Ｓが載せられたパレットＰを搬送装
置３９により、入口コンベヤ３８から、第１洗浄槽１、
第２洗浄槽２、搬入槽７の外気側７ｂへと順次搬送す
る。この間、第１洗浄槽１では、被処理物Ｓの表面に付
着した切削油等を洗い落とすための粗洗いが行われ、第
２洗浄槽２では、細洗いが行われて付着物は完全に洗い
落とされる。

【００１７】搬入槽７の外気側７ｂに運び込まれたパレ
ットＰは、搬入コンベヤ１８により、クリーンエア側７
ａまで搬送される。そして、この搬送の間、純水によ
り、洗浄槽１、２での洗浄の際に被処理物Ｓに付着した
洗浄液の粗濯ぎが行われる。このパレットＰの外気側７
ｂからクリーンエア側７ａまでの搬送は、外気と遮断体
３内のクリーンエアとを区切る搬入槽７の純水中で行わ
れるため、この搬送によって遮断体３内に外気が侵入す
ることはない。

【００１８】搬入槽７のクリーンエア側７ａまで搬送さ
れたパレットＰは、搬送装置１３により、第１濯ぎ槽
４、第２濯ぎ槽５へと順次搬送され、第１濯ぎ槽４では
中濯ぎ、第２濯ぎ槽５では最終濯ぎが行われて、被処理
物Ｓに付着した洗浄液は完全に洗い落とされる。そし
て、第２濯ぎ槽５での濯ぎを終えたパレットＰは、搬送
装置１３により、乾燥室６内に搬送される。このとき、
乾燥室６は両扉２６、２７を閉じて真空引きした後、ク
リーンエア側の扉２６を開いた状態にあり、乾燥室６は
外気から遮断されてクリーンエアが満たされているた
め、このパレットＰの乾燥室６内への搬送によって、遮
断体３内に外気が侵入することはない。

【００１９】乾燥室６内にパレットＰが搬送されると、
扉２６を閉じて乾燥室６を密封し、真空ポンプ２５を作
動させる。これにより、乾燥室６内は真空引きされ、被
処理物Ｓに付着した純水は水切り乾燥される。そして、
水切り乾燥を終えると、外気側の扉２７を開き、排出コ
ンベヤ２８により、パレットＰを出口コンベヤ２９に搬
出して洗浄作業は完了する。このとき、扉２６は閉じら
れているため、このパレットＰの乾燥室６内からの搬出
によって、遮断体３内に外気が侵入することはない。

【００２０】このように、濯ぎ槽４、５と乾燥室６とは
外気から遮断されてクリーンエアが満たされた遮断体３
内に収納され、遮断体３の入口には外気とクリーンエア
とを区切る純水が満たされた搬入槽７が配置され、遮断
体３の出口となる乾燥室６はクリーンエア側と外気側に
扉２６、２７が設けられて真空引き可能となっているた
め、濯ぎ槽４、５と乾燥室６は外気と接触することはな
い。また、被処理物Ｓは、搬入装置１８により搬入槽７
の純水中で外気側７ｂからクリーンエア側７ａに搬入さ
れ、遮断体３ではクリーンエア中で搬送装置１３により
各濯ぎ槽４、５を経て外気から遮断されてクリーンエア
が満たされた乾燥室６まで搬送され、乾燥室６を真空引
き後、搬出装置２８によりクリーンエア側の扉２６が閉
じられた乾燥室６内から外気側に搬出されるため、被処
理物Ｓの外気側から遮断体３内への搬入、遮断体３内で
の搬送、遮断体３内から外気側への搬出によって遮断体
３内に外気は侵入しない。従って、遮断体３が外気と接
触して汚染されることはなく、被処理物Ｓは、塵等が付
着しない状態で最終の濯ぎ槽５から乾燥室６に搬入さ
れ、塵等が付着しない状態で乾燥室６で乾燥された後、
イオンプレーティング装置に送られるため、被処理物Ｓ
の表面には高品質の皮膜を形成することができるように
なる。

【００２１】

【発明の効果】本発明は、上述のとおり構成されている
ので以下に記載する効果を奏する。少なくとも最終の濯
ぎ槽と乾燥室とは外気から遮断されてクリーンエアが満
たされた遮断体内に収納され、遮断体の入口には外気と
クリーンエアとを区切る濯ぎ液が満たされた搬入槽が配
置され、遮断体の出口となる乾燥室はクリーンエア側と
外気側に扉が設けられて真空引き可能となっているた
め、遮断体内に収納された濯ぎ槽と乾燥室は外気と接触
することはなく、被処理物は、塵等が付着しない状態で
最終の濯ぎ槽から乾燥室に搬入され、塵等が付着しない
状態で乾燥室で乾燥された後搬出される。その結果、被
処理物の表面には高品質の皮膜を形成することができる
ようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄装置の模式図である。

【図２】従来の洗浄装置の模式図である。

【符号の説明】

１ 第１洗浄槽 ２ 第２洗浄槽 ３ 遮断体 ４ 第１濯ぎ槽 ５ 第２濯ぎ槽（最終の濯ぎ槽） ６ 乾燥室 ７ 搬入槽 １３ 搬送装置 １８ 搬入装置 ２５ 真空ポンプ（排気装置） ２６ 乾燥室のクリーンエア側の扉 ２７ 乾燥室の外気側の扉 ２８ 搬出装置 Ｓ 被処理物

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄液により被処理物を洗浄する洗浄槽
   と、濯ぎ液により被処理物から洗浄液を濯ぐ１以上の濯
   ぎ槽と、濯ぎ液を乾燥させる乾燥室とを備えてなる洗浄
   装置において、前記１以上の濯ぎ槽の内の少なくとも最
   終の濯ぎ槽と前記乾燥室とを外気から遮断されクリーン
   エアが満たされた遮断体内に収納し、該遮断体の入口に
   外気とクリーンエアとを区切る濯ぎ液が満たされた搬入
   槽を配置し、乾燥室に真空引き可能な排気装置とクリー
   ンエア側に設けた扉と外気側に設けた扉を設けたことを
   特徴とする洗浄装置。