JPH06101144B2 - Thin optical memory-method for manufacturing medium - Google Patents
Thin optical memory-method for manufacturing mediumInfo
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- JPH06101144B2 JPH06101144B2 JP2988586A JP2988586A JPH06101144B2 JP H06101144 B2 JPH06101144 B2 JP H06101144B2 JP 2988586 A JP2988586 A JP 2988586A JP 2988586 A JP2988586 A JP 2988586A JP H06101144 B2 JPH06101144 B2 JP H06101144B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的メモリー媒体の製造方法、特にフレキシ
ブル光ディスク等の、溝付きの光学的メモリー媒体の製
造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing an optical memory medium, and more particularly to a method for manufacturing a grooved optical memory medium such as a flexible optical disk.
従来の薄型光学メモリー媒体の製造は、まず基板とし
て、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等の
熱可塑性樹脂を、射出成形、圧縮成形により表面に凹凸
状の案内溝が設けられた状態に成形し、次いでこの基板
上に光記録層を積層することにより行なわれていた。A conventional thin optical memory medium is manufactured by first molding a thermoplastic resin such as polymethyl methacrylate or polycarbonate as a substrate by injection molding or compression molding in a state where uneven guide grooves are provided on the surface, and then, This has been done by stacking an optical recording layer on a substrate.
このような方法では、薄型化が難しく、厚さ1.0mm以下
の光学メモリー媒体を製造することは困難であった。こ
れは、基板が第5図に示すように、凹凸状の案内溝部分
51に対して、その下の基底部52の厚みをかなり大きくし
ないと、強度上等の問題から成形が困難であることを主
因としていた。With such a method, it is difficult to reduce the thickness and it is difficult to manufacture an optical memory medium having a thickness of 1.0 mm or less. As shown in FIG. 5, the substrate is an uneven guide groove portion.
In contrast to 51, the main reason is that unless the thickness of the base portion 52 therebelow is made considerably large, molding is difficult due to problems such as strength.
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものでありその目
的は、1.0mm以下の厚さのフレキシブル光ディスク等を
従来より容易に製造することのできる方法を提供するこ
とにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a method by which a flexible optical disk or the like having a thickness of 1.0 mm or less can be manufactured more easily than before.
本発明の上記目的は、耐熱性シートの片面あるいは両面
に、直接または他の層を介して該耐熱シートより熱変形
温度の低い樹脂(以下、易変形性樹脂と略称)を積層
し、得られる積層シートを加熱下に表面に凹凸を有する
金型挟圧することにより、該樹脂層の表面に凹凸状の案
内溝を転写したのち、該案内溝を有する面上に光エネル
ギーで記録可能な光記録層を積層することにより達成さ
れる。The above-mentioned object of the present invention is obtained by laminating a resin having a heat deformation temperature lower than that of the heat-resistant sheet (hereinafter, abbreviated as easily deformable resin) on one surface or both surfaces of the heat-resistant sheet, directly or through another layer. The laminated sheet is pressed with a metal mold having irregularities on the surface to transfer the irregular guide grooves to the surface of the resin layer, and then optical recording capable of recording with optical energy on the surface having the guide grooves. This is achieved by stacking layers.
以下、本発明を更に詳細に説明する。本発明の一実施態
様においては、まず、耐熱性シートの片面または両面に
易変形性樹脂を積層し、積層シートを形成する。この積
層方法としては、易変形性樹脂を溶剤等に溶かし、それ
をロールコートにより耐熱性シートに塗布する方法や、
易変形性樹脂をフィルム状にし、耐熱性シートにラミネ
ートする方法等がある。また、易変形性樹脂と耐熱性シ
ートとを接着層を介して貼合してもよい。この方法では
十分大きな接着力が得られ、且つ耐熱性シートは接着層
により保護される。Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In one embodiment of the present invention, first, an easily deformable resin is laminated on one side or both sides of a heat resistant sheet to form a laminated sheet. As this laminating method, a method of dissolving an easily deformable resin in a solvent or the like and applying it to a heat resistant sheet by roll coating,
There is a method in which the easily deformable resin is formed into a film and laminated on a heat resistant sheet. Further, the easily deformable resin and the heat resistant sheet may be bonded together via an adhesive layer. With this method, a sufficiently large adhesive force is obtained, and the heat resistant sheet is protected by the adhesive layer.
次いで、上記積層シートを加熱下に挟圧し、その易変形
性樹脂の表面に凹凸状の案内溝を転写し、基板とする。
両表面に易変形性樹脂を有する積層シートの挟圧は、内
表面に凹凸をそれぞれ有する、対をなす型を用いて行え
ばよい。片面にのみ易変形性樹脂層を有する積層シート
の挟圧は、一方の内表面にのみ凹凸を有する対の金型を
用いて行えばよい。Next, the laminated sheet is pressed while being heated, and an uneven guide groove is transferred to the surface of the easily deformable resin to obtain a substrate.
The sandwiching of the laminated sheet having the easily deformable resin on both surfaces may be performed using a pair of molds each having unevenness on the inner surface. The sandwiching of the laminated sheet having the easily deformable resin layer on only one surface may be performed using a pair of molds having unevenness on only one inner surface.
挟圧の際の加熱用の手段は型自体に設置してもよいし、
型と別に用意してもよい。The means for heating during pinching may be installed in the mold itself,
It may be prepared separately from the mold.
次いで、基板の、案内溝が転写された面、即ち易変形性
樹脂層面の上に蒸着法、ロールコート法、ディップコー
ト法等の各種の積層法により光エネルギーにより記録可
能な光記録層を積層する。以上の工程により薄型光学メ
モリー媒体が製造できる。Then, on the surface of the substrate on which the guide groove is transferred, that is, the surface of the easily deformable resin layer, an optical recording layer capable of recording with optical energy is laminated by various laminating methods such as vapor deposition, roll coating and dip coating. To do. Through the above steps, a thin optical memory medium can be manufactured.
両面に光記録層を有する光学メモリー媒体は、1枚あた
りの情報収容量が大きく経済的であるとともに、表裏対
称の形状となるので、光学メモリー媒体自体のたわみも
少なくなるといった長所を持つ。An optical memory medium having optical recording layers on both sides has a large amount of information to be stored per sheet and is economical, and since it has a symmetrical shape on the front and back sides, it has the advantage that the deflection of the optical memory medium itself is reduced.
本発明に用いる耐熱性シートつまりベースとなるフィル
ムは、凹凸パターン形成時の可塑状態の衣変形性樹脂の
温度に絶えるものであり、熱硬化性の耐熱フィルムが好
ましい。この熱硬化性の耐熱フィルムの代表的例として
は、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、
エポキシ樹脂フィルム、シリコーン樹脂フィルム、ポリ
エステルイミドフィルム、ポリエステルフィルム、及び
テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共
重合体フィルム、テトラフルオロエチレン−パーフルオ
ロアルキルビニルエーテル共重合体フィルムなどのフッ
素樹脂フィルムなどがある。The heat-resistant sheet used in the present invention, that is, the base film, can withstand the temperature of the clothing-deformable resin in the plastic state when the uneven pattern is formed, and a thermosetting heat-resistant film is preferable. Typical examples of this thermosetting heat-resistant film, a polyimide film, a polyamide-imide film,
There are epoxy resin films, silicone resin films, polyester imide films, polyester films, and fluororesin films such as tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer films and tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer films.
本発明に用いる、易変形性樹脂としては熱可塑性樹脂が
好ましい。この熱可塑性樹脂の代表的なものには、ポリ
サルホン、ポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重
合体やエチレン−アクリレート共重合体やエチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン共重合体、ポリオ
レフィンハロゲン化物、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合
体や塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体等の塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体や
塩化ビニリデン−塩化ビニル−アクリルニトリル共重合
体等の塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレ
ン−アクリルニトリル共重合体(AS樹脂)やスチレン−
アクリルニトリル−ブタジエン共重合体(ABS樹脂)等
のスチレン共重合体、p−メチルスチロールや2,5−ジ
クロルスチロールやビニルアントラセンなど、あるいは
それらの共重合体(スチロール共重合体)、クマロンお
よびインデンあるいはこれらとスチレンとの共重合体、
テルペン樹脂ないしピコライト、アクリル樹脂、ポリア
クリルニトリル、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合
体やアクリルニトリル−ビニルピリジン共重合体やアク
リルニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、ポリアク
リルアミドないし、アクリルニトリルにアセトンを作用
させたダイアセトンアクリルアミドポリマー、ポリ酢酸
ビニル、アクリル酸エステルやビニルエステルやビニル
エーテルやエチレン等と酢酸ビニルとの共重合体、ポリ
ビニルエーテル、ポリアミド、熱可塑性ポリエステル、
ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセタール系樹
脂、ポリウレタン、数平均分子量6,000以下のポリビニ
ルカルバゾールまたはビニルカルバゾールとエチレンも
しくはスチレン等とのポリビニルカルバゾール共重合体
等の含窒素ビニル重合体、ポリブタジエンまたはブタジ
エン−スチレン共重合体やイソプレン−イソブチレン共
重合体等のジエン系重合体、ポリエーテル、ポリカーボ
ネート、ポリエチレンイミン類、セルロース系樹脂ある
いは上記樹脂の2種類以上のブレンド体、またはその他
の熱可塑性樹脂とのブレンド体などがある。The easily deformable resin used in the present invention is preferably a thermoplastic resin. Typical examples of the thermoplastic resin include polysulfone, polyolefin, polyolefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylate copolymer and ethylene-propylene copolymer, polyolefin halides, vinyl acetate. -Vinyl chloride copolymers such as vinyl chloride copolymers and vinyl chloride-acrylonitrile copolymers, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymers and vinylidene chloride copolymers such as vinylidene chloride-vinylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymers , Polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin) and styrene-
Styrene copolymers such as acrylonitrile-butadiene copolymer (ABS resin), p-methylstyrene, 2,5-dichlorostyrene, vinylanthracene, etc., or their copolymers (styrene copolymers), coumarone and Indene or a copolymer of these with styrene,
Acetone acts on terpene resin or picolite, acrylic resin, polyacrylonitrile, acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile-vinyl pyridine copolymer, acrylonitrile-methyl methacrylate copolymer, polyacrylamide or acrylonitrile. Diacetone acrylamide polymer, polyvinyl acetate, acrylic acid ester, vinyl ester, vinyl ether, ethylene etc. and vinyl acetate copolymer, polyvinyl ether, polyamide, thermoplastic polyester,
Polyvinyl alcohol or polyvinyl acetal resin, polyurethane, nitrogen-containing vinyl polymer such as polyvinylcarbazole having a number average molecular weight of 6,000 or less or polyvinylcarbazole copolymer of vinylcarbazole and ethylene or styrene, polybutadiene or butadiene-styrene copolymer, Examples thereof include diene polymers such as isoprene-isobutylene copolymers, polyethers, polycarbonates, polyethyleneimines, cellulosic resins or blends of two or more kinds of the above resins, or blends with other thermoplastic resins.
本発明において用いる光記録層の材料としては、光によ
って記録がなされる薄膜を形成可能なものならばその種
類は問わないが、例えばアルミニウムなどの金属、ビス
マス、酸化テルルやカルコゲナイド系化合物などの無機
化合物が挙げられる。これらの材料は、一般にスパッタ
リングや真空蒸着により光記録層とする。また、他の光
記録層材料として光吸収色素を主体とするものが挙げら
れる。光吸収色素としては、シアニン、メロシアニン、
トリフェニルメタン、ナフトキノン、キサンテン、スク
アリウムおよびアズレンなどを含めて、アゾ、スチルベ
ン、フタロシアニン系の直接染料、アゾ、アントラキノ
ン、トリフェニルメタン、キサンテン、アジン系の酸性
染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェニルメタン系
の塩基性染料、アゾ、アントラキノン、キサンテン、ト
リフェニルメタン系の媒染・酸性媒染染料、アントラキ
ノン、インジゴイド系の建染染料、アゾ、アントラキノ
ン、フタロシアニン、トリフェニルメタン系の油溶染料
などを使用することができる。これらは、主に前記した
各種塗布法により光記録層とする。The material of the optical recording layer used in the present invention may be of any type as long as it can form a thin film to be recorded by light, and examples thereof include metals such as aluminum, bismuth, inorganic materials such as tellurium oxide and chalcogenide compounds. Compounds. These materials are generally used as an optical recording layer by sputtering or vacuum evaporation. Further, as the other optical recording layer material, a material mainly containing a light absorbing dye can be mentioned. As the light absorbing dye, cyanine, merocyanine,
Including azo, stilbene, phthalocyanine direct dyes, azo, anthraquinone, triphenylmethane, xanthene, azine acid dyes, cyanine, azo, azine, triphenyl, including triphenylmethane, naphthoquinone, xanthene, squalium and azulene. Methane basic dye, azo, anthraquinone, xanthene, triphenylmethane mordant / acid mordant dye, anthraquinone, indigoid vat dye, azo, anthraquinone, phthalocyanine, triphenylmethane oil soluble dye, etc. can do. These are mainly used as the optical recording layer by the various coating methods described above.
本発明の方法では、案内溝部分とその下の基底部とを別
種の材質として基板を成形し、しかも、その基底部に予
め成形されている強度の高い耐熱性シートを使用するの
で、基底部を案内溝部分よりも相対的に厚くしなくても
基板成形は容易にできる。In the method of the present invention, the guide groove portion and the base portion below the guide groove portion are formed of different materials to form the substrate, and since a high-strength heat-resistant sheet preformed on the base portion is used, the base portion is formed. The substrate can be easily formed without making the thickness relatively thicker than the guide groove portion.
また、本発明では、射出成形のように、金型内に原料樹
脂を行き渡らせる工程を必要としないので、金型の設定
するキャビティー幅の制約が極めて小さく、この点から
も、基板の薄型化が図れる。Further, unlike the injection molding, the present invention does not require a step of distributing the raw material resin in the mold, so that the restriction of the cavity width set by the mold is extremely small. Can be realized.
以上の理由から、本法によれば、光学メモリー媒体全体
としても薄型化が図れる。For the above reasons, according to this method, the optical memory medium as a whole can be made thinner.
以下本発明の具体的実施例を第1、2、3および4図に
基づいて示し、本発明をさらに詳細に説明する。Specific examples of the present invention will be shown below with reference to FIGS. 1, 2, 3 and 4, and the present invention will be described in more detail.
実施例1 熱変形温度が85℃で数平均分子量が8万であるポリメチ
ルメタクリレート(易変形性樹脂)をトルエンに溶解
し、その溶液を第1図における熱変形温度が300℃以上
で厚さが50μmのポリイミドフィルム(耐熱シート)1
(東レ(株)のカプトンフィルム)の上にロールコート
により均一な厚さに塗布した。該溶液の塗布されたポリ
イミドフィルム8を100℃で1時間加熱乾燥すると、ト
ルエンが蒸発したあとに厚さ50μmのポリメチルメタク
リレート層2が残り、積層シート3が得られた。第2図
において、プレス部として、原盤より電鋳加工によって
製造した、凹凸状表面を有するスタンパー4を金型5
に、クッション層7を金型6にとりつけた。積層シート
3を前記プレス部で加熱押圧してポリメチルメタクリレ
ート層2に凹凸状の案内溝を転写したのち、冷却・固化
し基板とした。Example 1 Polymethylmethacrylate (easily deformable resin) having a heat distortion temperature of 85 ° C. and a number average molecular weight of 80,000 was dissolved in toluene, and the solution was heated at a heat distortion temperature of 300 ° C. or higher in FIG. Of 50 μm polyimide film (heat resistant sheet) 1
(Kapton film manufactured by Toray Industries, Inc.) was applied by roll coating to a uniform thickness. When the polyimide film 8 coated with the solution was heated and dried at 100 ° C. for 1 hour, a 50 μm-thick polymethylmethacrylate layer 2 remained after the toluene was evaporated, and a laminated sheet 3 was obtained. In FIG. 2, a stamper 4 having an uneven surface, which is manufactured by electroforming from a master, is used as a pressing part in a mold 5.
Then, the cushion layer 7 was attached to the mold 6. The laminated sheet 3 was heated and pressed by the press section to transfer the uneven guide groove to the polymethylmethacrylate layer 2, and then cooled and solidified to obtain a substrate.
その後、下記構造式の光吸収染料 の1%溶液(溶媒…ジアセトンアルコール:イソプロピ
ルアルコール=2:1重量部)をロールコートにより基板
上に塗布して、溶媒を蒸発させて光記録層を形成し、薄
型光学メモリ媒体を得た。After that, the light absorption dye of the following structural formula 1% solution (solvent: diacetone alcohol: isopropyl alcohol = 2: 1 parts by weight) was applied onto the substrate by roll coating, and the solvent was evaporated to form an optical recording layer to obtain a thin optical memory medium. .
実施例2 熱変形温度が85℃で数平均分子量が8万であるポリメチ
ルメタクリレート(易変形性樹脂)をトルエンに溶解
し、その溶液を第3図における熱変形温度が300℃以上
で厚さが50μmのポリイミドフィルム(耐熱シート)8
(東レ(株)のカプトンフィルム)の両面にロールコー
トにより均一な厚さに塗布した。該溶液の塗布されたポ
リイミドフィルム8を100℃で1時間加熱乾燥すると、
トルエンが蒸発したあとに厚さ50μmのポリメチルメタ
クリレート層9がポリイミドフィルム8の両面に残り、
積層シート10が得られた。第4図において、プレス部と
して、原盤より電鋳加工によって製造した、凹凸状表面
を有するスタンパー11をそれぞれ金型12,13にとりつけ
た。積層シート10を前記プレス部で加熱押圧してポリメ
チルメタクリレート層9に凹凸状の案内溝を転写したの
ち、冷却・固化し基板とした。その後、実施例1と同じ
光吸収色素溶液を基板の両面にディッピングコートによ
り塗布し、溶媒を蒸発させ光記録層を形成し、薄型光学
メモリー媒体を得た。実施例1、2により製造された光
学メモリー媒体の厚さは下記の通りだった。Example 2 Polymethylmethacrylate (easily deformable resin) having a heat distortion temperature of 85 ° C. and a number average molecular weight of 80,000 was dissolved in toluene, and the solution was heated at a heat distortion temperature of 300 ° C. or more in FIG. Polyimide film (heat resistant sheet) with a thickness of 50 μm 8
(Kapton film manufactured by Toray Industries, Inc.) was coated on both sides with a uniform thickness by roll coating. When the polyimide film 8 coated with the solution is heated and dried at 100 ° C. for 1 hour,
After the toluene is evaporated, a polymethylmethacrylate layer 9 having a thickness of 50 μm remains on both sides of the polyimide film 8,
A laminated sheet 10 was obtained. In FIG. 4, stampers 11 each having a concavo-convex surface, which were manufactured by electroforming from a master, were attached to molds 12 and 13 as press parts, respectively. The laminated sheet 10 was heated and pressed by the pressing section to transfer the uneven guide groove to the polymethylmethacrylate layer 9, and then cooled and solidified to obtain a substrate. Then, the same light-absorbing dye solution as in Example 1 was applied on both surfaces of the substrate by dipping coating, the solvent was evaporated to form an optical recording layer, and a thin optical memory medium was obtained. The thickness of the optical memory medium manufactured according to Examples 1 and 2 was as follows.
厚さ(mm) 実施例1 0.10 実施例2 0.15 〔発明の効果〕 以上詳説したように、耐熱性シートの片面あるいは両面
に、直接または他の層を介して易変形性樹脂を積層し、
得られる積層シートを加熱下に、表面に凹凸を有する金
型で挟圧することにより、該樹脂層の表面に凹凸状の案
内溝を転写したのち、該案内溝を有する面上に光エネル
ギーで記録可能な光記録層を積層することにより、1.0m
m以下の厚さのフレキシブル光ディスク等を容易に製造
することができる。Thickness (mm) Example 1 0.10 Example 2 0.15 [Effect of the Invention] As described in detail above, the easily deformable resin is laminated on one surface or both surfaces of the heat resistant sheet directly or through another layer,
The resulting laminated sheet is heated and sandwiched by a mold having irregularities on the surface to transfer the irregular guide grooves to the surface of the resin layer, and then the surface having the guide grooves is recorded with light energy. 1.0m by stacking possible optical recording layers
A flexible optical disk or the like having a thickness of m or less can be easily manufactured.
第1図および第3図はポリイミドフィルムにポリメチル
メタクリレートを積層したシートの断面図である。第2
図および第4図は前記積層シートに凹凸の信号を転写す
る工程を示す断面図である。 第5図は射出成形法により製造された基板の断面図であ
る。 3,10:積層シート 5,6,12,13:金型 4,11:スタンパー 7:クッション層 2,9:ポリメチルメタクリレート樹脂 1,8:ポリイミドフィルム 51:案内溝部分、52:基底部1 and 3 are cross-sectional views of a sheet in which polymethyl methacrylate is laminated on a polyimide film. Second
FIG. 4 and FIG. 4 are cross-sectional views showing a process of transferring unevenness signals to the laminated sheet. FIG. 5 is a sectional view of a substrate manufactured by the injection molding method. 3,10: Laminated sheet 5,6,12,13: Mold 4,11: Stamper 7: Cushion layer 2,9: Polymethylmethacrylate resin 1,8: Polyimide film 51: Guide groove part, 52: Base part
Claims (3)
または他の層を介して該耐熱シートより熱変形温度の低
い樹脂を積層し、得られる積層シートを加熱下に、表面
に凹凸を有する金型で挟圧することにより、該樹脂層の
表面に凹凸状の案内溝を転写したのち、該案内溝を有す
る面上に光エネルギーで記録可能な光記録層を積層する
ことを特徴とする薄型光学メモリー媒体の製造方法。1. A resin having a heat distortion temperature lower than that of the heat resistant sheet is laminated on one side or both sides of the heat resistant sheet directly or through another layer, and the obtained laminated sheet has unevenness on the surface under heating. A thin type characterized in that an uneven guide groove is transferred to the surface of the resin layer by pinching with a mold, and then an optical recording layer capable of recording with optical energy is laminated on the surface having the guide groove. Method of manufacturing optical memory medium.
とする特許請求の範囲第1項記載の光学メモリー媒体の
製造方法。2. The method for producing an optical memory medium according to claim 1, wherein the resin layer is made of a thermoplastic resin.
特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の光
学メモリ媒体の製造方法。3. The method for manufacturing an optical memory medium according to claim 1, wherein the heat resistant sheet is made of a thermosetting resin.
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP2988586A JPH06101144B2 (en) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | Thin optical memory-method for manufacturing medium |
| US07/473,106 US5160462A (en) | 1986-02-14 | 1990-02-02 | Preparing optical memory medium by laminating a thermoplastic resin layer on a thermosetting resin sheet |
| US07/928,322 US5378516A (en) | 1986-02-14 | 1992-08-12 | Thin type optical memory medium and method for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2988586A JPH06101144B2 (en) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | Thin optical memory-method for manufacturing medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPS62189643A JPS62189643A (en) | 1987-08-19 |
| JPH06101144B2 true JPH06101144B2 (en) | 1994-12-12 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2988586A Expired - Fee Related JPH06101144B2 (en) | 1986-02-14 | 1986-02-15 | Thin optical memory-method for manufacturing medium |
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-
1986
- 1986-02-15 JP JP2988586A patent/JPH06101144B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPS62189643A (en) | 1987-08-19 |
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