JPH06103400B2 - 電子写真用積層感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、複写機、レーザープリンター等に使用される
電子写真用積層感光体に関するもので、より詳細には繰
返し使用時の安定性が向上した電子写真用積層感光体に
関する。
電子写真用積層感光体に関するもので、より詳細には繰
返し使用時の安定性が向上した電子写真用積層感光体に
関する。
(従来の技術) 電子写真感光体の分野では、電荷発生層(CGL)と電荷
輸送層(CTL)とを積層した所謂機能分離型の有機感光
体が次第に使用されるに至っている。この積層型の感光
体と共に、電荷輸送物質の媒体中に電荷発生物質を分散
させた単層分散型の有機感光体も既に知られている。
輸送層(CTL)とを積層した所謂機能分離型の有機感光
体が次第に使用されるに至っている。この積層型の感光
体と共に、電荷輸送物質の媒体中に電荷発生物質を分散
させた単層分散型の有機感光体も既に知られている。
この種の感光体の電荷輸送物質としては、キャリヤ移動
度の高いものが要求されており、初期のポリビニルカル
バゾール(PVK)のような高分子材料から、樹脂分散系
で用いる低分子化合物材料へと移行してきている。しか
しながら、成形加工性の点から言えば、電荷輸送物質
は、単一で使用可能な造膜性物質が望ましい。前述した
PVKは造膜可能であるが、隣接カルバゾール環が形成す
るダイマーサイトが構造的なホールキャリヤトラップと
して働き、感光体の電子写真特性の低下を引き起こすと
いう問題がある。
度の高いものが要求されており、初期のポリビニルカル
バゾール(PVK)のような高分子材料から、樹脂分散系
で用いる低分子化合物材料へと移行してきている。しか
しながら、成形加工性の点から言えば、電荷輸送物質
は、単一で使用可能な造膜性物質が望ましい。前述した
PVKは造膜可能であるが、隣接カルバゾール環が形成す
るダイマーサイトが構造的なホールキャリヤトラップと
して働き、感光体の電子写真特性の低下を引き起こすと
いう問題がある。
最近に至って、特開昭61-170747号公報には、有機ポリ
シランを正孔輸送材料として含む感光体が提案されてい
る。この有機ポリシランは溶液からの成膜が可能であ
り、非晶質高分子材料の中では、高いホールドリフト移
動度(〜10-4cm2/V.sec)を示すことも知られている。
シランを正孔輸送材料として含む感光体が提案されてい
る。この有機ポリシランは溶液からの成膜が可能であ
り、非晶質高分子材料の中では、高いホールドリフト移
動度(〜10-4cm2/V.sec)を示すことも知られている。
(発明が解決しようとする問題点) 複写機等に搭載する感光体としては、初期特性のみなら
ず、繰返し使用したときの安定性が要求されるが、有機
ポリシランを用いた感光体については未だこの安定性に
ついての検討は十分に行われていないようである。
ず、繰返し使用したときの安定性が要求されるが、有機
ポリシランを用いた感光体については未だこの安定性に
ついての検討は十分に行われていないようである。
本発明者等は、有機ポリシランを商業的な電子写真感光
体に応用すべく検討を加えたところ、この感光体に帯電
−露光を反復した場合、感光体の表面電位、残留電位が
上昇し、これに伴って複写画像の濃度変化やカブリを発
生することを見出した。
体に応用すべく検討を加えたところ、この感光体に帯電
−露光を反復した場合、感光体の表面電位、残留電位が
上昇し、これに伴って複写画像の濃度変化やカブリを発
生することを見出した。
従って、本発明の目的は、有機ポリシランを電荷輸送物
質(正孔輸送物質)として使用した感光体における帯電
−露光反復時の表面電位や残留電位の上昇を抑制し、長
期にわたって安定な電子写真特性が得られるようにした
電子写真用積層感光体を提供するにある。
質(正孔輸送物質)として使用した感光体における帯電
−露光反復時の表面電位や残留電位の上昇を抑制し、長
期にわたって安定な電子写真特性が得られるようにした
電子写真用積層感光体を提供するにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明によれば、電荷発生層と電荷輸送層とを有する電
子写真用積層感光体において、電荷輸送層がn型電荷発
生材料を含有する有機ポリシラン組成物から成ることを
特徴とする電子写真用積層感光体が提供される。
子写真用積層感光体において、電荷輸送層がn型電荷発
生材料を含有する有機ポリシラン組成物から成ることを
特徴とする電子写真用積層感光体が提供される。
本発明に用いる有機ポリシラン組成物においては、n型
電荷発生材料は、有機ポリシラン100重量部当り0.1乃至
10重量部、特に1乃至5重量部の量で含有させるのがよ
い。
電荷発生材料は、有機ポリシラン100重量部当り0.1乃至
10重量部、特に1乃至5重量部の量で含有させるのがよ
い。
(作用) 本発明は、有機ポリシラン中にn型電荷発生材料を配合
すると、帯電−露光操作を反復したときの感光体の安定
性が向上し、表面電位や残留電位の上昇を顕著に抑制し
得るという知見に基づくものである。
すると、帯電−露光操作を反復したときの感光体の安定
性が向上し、表面電位や残留電位の上昇を顕著に抑制し
得るという知見に基づくものである。
既に述べた通り、有機ポリシランを電荷輸送物質として
用いた感光体に帯電−露光操作操作を反復すると、表面
電位、残留電位ともかなり上昇する。この表面電位や残
留電位の上昇は有機ポリシラン層の表面の劣化によるも
ので、表面部分のキャリヤ輸送能力が低下し、表面電
位、残留電位が上昇する。この劣化の機構は、未だ十分
に解明されていないが、帯電時に発生する紫外光やオゾ
ン或いは励起一重項酸素等によりSi-Siの主鎖結合が切
断され表面に絶縁膜が形成され表面電位が上昇し、帯電
−露光の繰り返しにより、この絶縁膜に電荷が蓄積され
ることにより残留電位が上昇すると考えられる。
用いた感光体に帯電−露光操作操作を反復すると、表面
電位、残留電位ともかなり上昇する。この表面電位や残
留電位の上昇は有機ポリシラン層の表面の劣化によるも
ので、表面部分のキャリヤ輸送能力が低下し、表面電
位、残留電位が上昇する。この劣化の機構は、未だ十分
に解明されていないが、帯電時に発生する紫外光やオゾ
ン或いは励起一重項酸素等によりSi-Siの主鎖結合が切
断され表面に絶縁膜が形成され表面電位が上昇し、帯電
−露光の繰り返しにより、この絶縁膜に電荷が蓄積され
ることにより残留電位が上昇すると考えられる。
本発明において、n型電荷発生材料を有機ポリシラン中
に配合することにより、安定性が向上する理由として、
該材料による紫外線等に対するマスキング効果が考えら
れる。しかしながら、フタロシアニン顔料のようなp型
電荷発生材料を配合した場合には殆んど効果が認められ
ないことから、マスキング以外の作用を考えねばならな
い。紫外光照射による耐光性試験の結果から、n型電荷
発生材料は、有機ポリシランの励起状態を失活させるク
エンチャーの役割を演じていることが確かめられた。こ
れには、有機ポリシラン中に生じた局在化したアニオン
ラジカルの電子をn型電荷発生材料が引き抜くことによ
る安定化効果も考えられる。
に配合することにより、安定性が向上する理由として、
該材料による紫外線等に対するマスキング効果が考えら
れる。しかしながら、フタロシアニン顔料のようなp型
電荷発生材料を配合した場合には殆んど効果が認められ
ないことから、マスキング以外の作用を考えねばならな
い。紫外光照射による耐光性試験の結果から、n型電荷
発生材料は、有機ポリシランの励起状態を失活させるク
エンチャーの役割を演じていることが確かめられた。こ
れには、有機ポリシラン中に生じた局在化したアニオン
ラジカルの電子をn型電荷発生材料が引き抜くことによ
る安定化効果も考えられる。
(好適態様) 本発明に用いる有機ポリシランは、それ自体公知の任意
のものであってよいが、主鎖がケイ素の連鎖から成り、
側鎖に有機基、特に一価炭化水素基を有するものであ
り、下記式 式中、R1及びR2の各々は一価炭化水素基、特に、炭素数
4以下のアルキル基、炭素素数6以上のアリール基、ア
ラルキル基を表わす、で示される反復単位から成る。好
適な有機ポリシランは、メチルフェニルポリシラン、メ
チルプロピルポリシラン、メチルt−ブチルポリシラ
ン、ジフェニルポリシラン、メチルトリルポリシラン或
いはこれらのコポリマー等である。
のものであってよいが、主鎖がケイ素の連鎖から成り、
側鎖に有機基、特に一価炭化水素基を有するものであ
り、下記式 式中、R1及びR2の各々は一価炭化水素基、特に、炭素数
4以下のアルキル基、炭素素数6以上のアリール基、ア
ラルキル基を表わす、で示される反復単位から成る。好
適な有機ポリシランは、メチルフェニルポリシラン、メ
チルプロピルポリシラン、メチルt−ブチルポリシラ
ン、ジフェニルポリシラン、メチルトリルポリシラン或
いはこれらのコポリマー等である。
用いる有機ポリシランは、所謂フィルムを形成するに足
る分子量を有するべきであり、一般に5000乃至50000、
特に50000乃至20000の重量平均分子量(w)を有する
ことが好ましい。
る分子量を有するべきであり、一般に5000乃至50000、
特に50000乃至20000の重量平均分子量(w)を有する
ことが好ましい。
有機ポリシランの末端は、シラノール基、アルコキシ基
等であってもよい。
等であってもよい。
n型電荷発生顔料の好適なものとして、ペリレン系顔料
を挙げることができる。ペリレン系顔料の適当な例とし
ては、下記一般式 式中、R1及びR2の各々は水素原子或いは置換または未置
換のアルキル基或いはアリール基を表わす、 で表わされる顔料を挙げることができる。
を挙げることができる。ペリレン系顔料の適当な例とし
ては、下記一般式 式中、R1及びR2の各々は水素原子或いは置換または未置
換のアルキル基或いはアリール基を表わす、 で表わされる顔料を挙げることができる。
アルキル基としては、炭素数1〜6の低級アルキル基等
が例示される。
が例示される。
アリール基としては、フェニル、ナフチル、アントリル
基等が例示され、フェニル基が好ましい。上記アリール
基の置換基としては、前記アルキル基、ヒドロキシ基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基等のアル
コキシ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子等のハロゲ
ン原子、ニトロ基等が例示される。
基等が例示され、フェニル基が好ましい。上記アリール
基の置換基としては、前記アルキル基、ヒドロキシ基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基等のアル
コキシ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子等のハロゲ
ン原子、ニトロ基等が例示される。
上記一般式(2)で表わされるペリレン系化合物の具体
例としては、N,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボキシジイミド、N,N′−ジエチルペリレン−
3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジプロ
ピルペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジイソプロピルペリレン−3,4,9,10−テトラカ
ルボキシジイミド、N,N′−ジブチルペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジtert−ブチル
ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,
N′−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3−メチル
−5−エチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカ
ルボキシジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジエチルフェニ
ル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジ(3,5−ジノルマルプロピルフェニル)ペリレ
ン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ
(3,5−ジイソプロピルフェニル)ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3−メチル
−5−イソプロピルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジノルマル
ブチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキ
シジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジ(3,5−ジペンチルフェニル)ペリレン−3,4,
9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジ
ヘキシルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
キシジイミド等が挙げられ、中でも、入手のし易さ等か
ら、N,N′−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,
4,9,10−テトラカルボキシジイミドが好ましいものとし
て挙げられる。
例としては、N,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボキシジイミド、N,N′−ジエチルペリレン−
3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジプロ
ピルペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジイソプロピルペリレン−3,4,9,10−テトラカ
ルボキシジイミド、N,N′−ジブチルペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジtert−ブチル
ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,
N′−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3−メチル
−5−エチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカ
ルボキシジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジエチルフェニ
ル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジ(3,5−ジノルマルプロピルフェニル)ペリレ
ン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ
(3,5−ジイソプロピルフェニル)ペリレン−3,4,9,10
−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3−メチル
−5−イソプロピルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テ
トラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジノルマル
ブチルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキ
シジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジ−tert−ブチルフェニ
ル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド、
N,N′−ジ(3,5−ジペンチルフェニル)ペリレン−3,4,
9,10−テトラカルボキシジイミド、N,N′−ジ(3,5−ジ
ヘキシルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
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ら、N,N′−ジ(3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,
4,9,10−テトラカルボキシジイミドが好ましいものとし
て挙げられる。
また、ペリレン系顔料以外のn型電荷発生材料として
は、式 式中、Rはアルキル基またはアリール基またはアラール
キル基である、 のビスアゾ顔料やジブロモアンサンスロン等が挙げられ
る。
は、式 式中、Rはアルキル基またはアリール基またはアラール
キル基である、 のビスアゾ顔料やジブロモアンサンスロン等が挙げられ
る。
このn型電荷発生材料は、有機ポリシラン100重量部当
り0.1乃至10重量部、特に1乃至5重量部の量で使用す
るのがよく、上記範囲よりも少ない場合には、帯電−露
光反復時における表面電位や残留電位の上昇抑制作用が
上記範囲内にある場合に比して劣る傾向があり、一方上
記範囲よりも多い場合には、上記範囲内にある場合に比
して感度や帯電性が低下する傾向がある。
り0.1乃至10重量部、特に1乃至5重量部の量で使用す
るのがよく、上記範囲よりも少ない場合には、帯電−露
光反復時における表面電位や残留電位の上昇抑制作用が
上記範囲内にある場合に比して劣る傾向があり、一方上
記範囲よりも多い場合には、上記範囲内にある場合に比
して感度や帯電性が低下する傾向がある。
本発明は、積層型の電子写真用感光体に適用することが
できる。例えば、第1図に示すように、導電性基板1上
に電荷発生層(CGL)2を形成し、この電荷発生層上
に、前記有機ポリシラン組成物からなる電荷輸送層(CT
L)3を設けることができる。或いは逆に、第2図に示
すように、導電性基板1上に、前記有機ポリシラン組成
物からなる電荷輸送層3を設け、この電荷輸送層上に電
荷発生層2を設けることもできる。
できる。例えば、第1図に示すように、導電性基板1上
に電荷発生層(CGL)2を形成し、この電荷発生層上
に、前記有機ポリシラン組成物からなる電荷輸送層(CT
L)3を設けることができる。或いは逆に、第2図に示
すように、導電性基板1上に、前記有機ポリシラン組成
物からなる電荷輸送層3を設け、この電荷輸送層上に電
荷発生層2を設けることもできる。
上記電荷発生材料としては、例えば、セレン、セレン−
テルル、アモルファスシリコン、ピリリウム塩、アゾ系
顔料、ジスアゾ系顔料、アンサンスロン系顔料、フタロ
シアニン系顔料、インジゴ系顔料、スレン系顔料、トル
イジン系顔料、ピラゾリン系顔料、ペリレン系顔料、キ
ナクリドン系顔料等が例示され、所望の領域に吸収波長
域を有するよう、一種または二種以上混合して用いられ
る。
テルル、アモルファスシリコン、ピリリウム塩、アゾ系
顔料、ジスアゾ系顔料、アンサンスロン系顔料、フタロ
シアニン系顔料、インジゴ系顔料、スレン系顔料、トル
イジン系顔料、ピラゾリン系顔料、ペリレン系顔料、キ
ナクリドン系顔料等が例示され、所望の領域に吸収波長
域を有するよう、一種または二種以上混合して用いられ
る。
この電荷発生材料は、蒸着等の手段で層の形に施すこと
もできるし、また結着樹脂に分散させた形で層として施
すこともできる。このような結着樹脂としては、種々の
樹脂が使用でき、例えば、スチレン系重合体、アクリル
系重合体、スチレンーアクリル系共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、アイオノマー等
のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキッド樹脂、
ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリカーボ
ート、ポリアリレート、ポリスルホン、ジアリルフタレ
ート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノール樹脂や、
エポキシアクリレート等の光硬化型樹脂等各種の重合体
が例示できる。これらの結着樹脂は、一種または二種以
上混合して用いることもできる。
もできるし、また結着樹脂に分散させた形で層として施
すこともできる。このような結着樹脂としては、種々の
樹脂が使用でき、例えば、スチレン系重合体、アクリル
系重合体、スチレンーアクリル系共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、アイオノマー等
のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキッド樹脂、
ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリカーボ
ート、ポリアリレート、ポリスルホン、ジアリルフタレ
ート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノール樹脂や、
エポキシアクリレート等の光硬化型樹脂等各種の重合体
が例示できる。これらの結着樹脂は、一種または二種以
上混合して用いることもできる。
また、塗布液を形成するのに使用する溶剤としては、種
々の有機溶剤が使用でき、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、n−ヘ
キサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサン等のケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等、種々の溶剤が例示され、
一種または二種以上混合して用いられる。
々の有機溶剤が使用でき、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、n−ヘ
キサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサン等のケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等、種々の溶剤が例示され、
一種または二種以上混合して用いられる。
導電性基板としては、導電性を有する種々の材料が使用
でき、例えば、アルミニウム、銅、錫、白金、金、銀、
バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、インジウム、ステンレス鋼、真鍮の金属
単体や、上記金属が蒸着またはラミネートされたプラス
チック材料、ヨウ化アルミニウム、酸化錫、酸化インジ
ウム等で被覆されたガラス等が例示される。
でき、例えば、アルミニウム、銅、錫、白金、金、銀、
バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、インジウム、ステンレス鋼、真鍮の金属
単体や、上記金属が蒸着またはラミネートされたプラス
チック材料、ヨウ化アルミニウム、酸化錫、酸化インジ
ウム等で被覆されたガラス等が例示される。
尚、塗布液を形成するには、電荷発生材料等と結着樹脂
等を、従来公知の方法、例えば、ロールミル、ボールミ
ル、アトライタ、ペイントシェイカーあるいは超音波分
散器等を用いて調整し、従来公知の塗布手段により塗
布、乾燥すればよい。
等を、従来公知の方法、例えば、ロールミル、ボールミ
ル、アトライタ、ペイントシェイカーあるいは超音波分
散器等を用いて調整し、従来公知の塗布手段により塗
布、乾燥すればよい。
第1図の基板/CGL/CTL感光体の場合、CGLは、蒸着の場
合の0.01乃至0.05μmから塗布の場合の0.1乃至0.5μm
迄変化するが、CTLは5乃至40μm、特に10乃至25μm
の範囲にあるのがよい。第2図の基板/CTL/CGL感光体の
場合、CTLは5乃至40μm、特に10乃至25μmの厚みを
有し、一方CGLは0.1乃至0.5μmの厚みを有するのがよ
い。
合の0.01乃至0.05μmから塗布の場合の0.1乃至0.5μm
迄変化するが、CTLは5乃至40μm、特に10乃至25μm
の範囲にあるのがよい。第2図の基板/CTL/CGL感光体の
場合、CTLは5乃至40μm、特に10乃至25μmの厚みを
有し、一方CGLは0.1乃至0.5μmの厚みを有するのがよ
い。
(発明の効果) 本発明によれば、正孔輸送材料としての有機ポリシラン
中にn型電荷発生材料を配合したことにより、帯電−露
光反復時の表面電位や残留電位の上昇を抑制し、長期に
わたって安定な電子写真特性を得ることが可能となっ
た。また、有機ポリシランが本来有する高いホールドリ
フト移動度もそのまま保持することから、高感度で安定
した電子写真特性の複写機用或いはレーザープリンター
用感光体が提供される。
中にn型電荷発生材料を配合したことにより、帯電−露
光反復時の表面電位や残留電位の上昇を抑制し、長期に
わたって安定な電子写真特性を得ることが可能となっ
た。また、有機ポリシランが本来有する高いホールドリ
フト移動度もそのまま保持することから、高感度で安定
した電子写真特性の複写機用或いはレーザープリンター
用感光体が提供される。
〈実施例〉 以下に、実施例に基づき、本発明をより詳細に説明す
る。
る。
(実施例1) [フェニルメチルポリシランの合成] メチルフェニルジクロロシラン100g、金属ナトリウム26
gを乾燥トルエン400mlに加え130℃に加熱し、11時間攪
拌した後冷却する。得られた反応液(濃紫色の沈澱を含
む溶液)にエタノールを加え未反応のナトリウムをエト
キシドした後、沈澱を濾別し乾燥後、トルエンに溶かし
てエタノール中に滴下再沈澱させて白色のフェニルメチ
ルポリシランを得た(収量22.0g:収率34%)。
gを乾燥トルエン400mlに加え130℃に加熱し、11時間攪
拌した後冷却する。得られた反応液(濃紫色の沈澱を含
む溶液)にエタノールを加え未反応のナトリウムをエト
キシドした後、沈澱を濾別し乾燥後、トルエンに溶かし
てエタノール中に滴下再沈澱させて白色のフェニルメチ
ルポリシランを得た(収量22.0g:収率34%)。
[電子写真感光体の調整] 電荷発生材料としてのα型オキソチタニルフタロシアニ
ン100重量部、溶媒としてのテトラヒドロフラン4000重
量部をボールミルに仕込、24時間攪拌した後、結着材と
してポリビニルブチール(積水化学社製、商品名エスレ
ックBM-3)100重量部を加え更に1時間攪拌混合して電
荷発生層用塗布液を調整し、の調整液をアルミニウム箔
上にワイヤーバー(No.5)にて塗布した後、100℃で30
分間熱風乾燥して硬化させることにより5μmの電荷発
生層を形成した。
ン100重量部、溶媒としてのテトラヒドロフラン4000重
量部をボールミルに仕込、24時間攪拌した後、結着材と
してポリビニルブチール(積水化学社製、商品名エスレ
ックBM-3)100重量部を加え更に1時間攪拌混合して電
荷発生層用塗布液を調整し、の調整液をアルミニウム箔
上にワイヤーバー(No.5)にて塗布した後、100℃で30
分間熱風乾燥して硬化させることにより5μmの電荷発
生層を形成した。
次に、電荷輸送材料としてのフェニルメチルポリシラン
100重量部、n型電荷発生材料としてのN,N′−ジメチル
ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド4重量
部、及び溶媒としてのテトラヒドロフラン1000重量部を
ホモミキサーで攪拌混合して電荷輸送用塗布液を調整し
た。この塗布液を上記電荷発生層上にワイヤーバー(No
60)にて塗布した後、100℃で30分間熱風乾燥すること
により膜厚約5μmの電荷輸送層を形成し、電子写真用
感光体を作成した。
100重量部、n型電荷発生材料としてのN,N′−ジメチル
ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジイミド4重量
部、及び溶媒としてのテトラヒドロフラン1000重量部を
ホモミキサーで攪拌混合して電荷輸送用塗布液を調整し
た。この塗布液を上記電荷発生層上にワイヤーバー(No
60)にて塗布した後、100℃で30分間熱風乾燥すること
により膜厚約5μmの電荷輸送層を形成し、電子写真用
感光体を作成した。
(実施例2) 電荷輸送層用塗布液の調整において、n型電荷発生材料
としてのN,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボキシジイミドに代えて、N,N′−ジ(3,5−ジメチ
ルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジ
イミドを用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子
写真感光体を作成した。
としてのN,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボキシジイミドに代えて、N,N′−ジ(3,5−ジメチ
ルフェニル)ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボキシジ
イミドを用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子
写真感光体を作成した。
(比較例1) 電荷輸送層用塗布液の調整において、n型電荷発生材料
としてのN,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボキシジイミドを添加しないこと以外は、実施例1
と同様にして電子写真感光体を作成した。
としてのN,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボキシジイミドを添加しないこと以外は、実施例1
と同様にして電子写真感光体を作成した。
(比較例2) 電荷輸送層用塗布液の調整において、n型電荷発生材料
としてのN,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボキシジイミドに代えて、p型電荷発生材料として
のアゾ顔料(日本感光色素製、商品名クロロジアンブル
ー)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写
真感光体を作成した。
としてのN,N′−ジメチルペリレン−3,4,9,10−テトラ
カルボキシジイミドに代えて、p型電荷発生材料として
のアゾ顔料(日本感光色素製、商品名クロロジアンブル
ー)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして電子写
真感光体を作成した。
[電子写真感光体の評価] 静電複写試験装置(川口電気社製、Model-8100)を用い
て印加電圧+6.0kVで負に帯電させ、下記の条件で電子
写真特性を測定し、その結果を表1および表2に示し
た。
て印加電圧+6.0kVで負に帯電させ、下記の条件で電子
写真特性を測定し、その結果を表1および表2に示し
た。
露光時間 :10秒 照射光 :波長780nm 露光強度 :10μW/cm2 帯電後の暗減衰:2秒 なお、表中V1(V)は上記条件で電圧を印加して、感光
体を帯電させた時の感光体の初期表面電位V1(V)を示
し、またE11/2(μJ/cm2)は表面電位が当初の表面電位
V1(V)の1/2になるのに要した露光時間より算出した
半減露光量を示す。また、表中V1rp(V)は露光開始後
5秒経過後の表面電位を残留電位として測定したもので
あり、減衰率%は下記式で算出したものである。
体を帯電させた時の感光体の初期表面電位V1(V)を示
し、またE11/2(μJ/cm2)は表面電位が当初の表面電位
V1(V)の1/2になるのに要した露光時間より算出した
半減露光量を示す。また、表中V1rp(V)は露光開始後
5秒経過後の表面電位を残留電位として測定したもので
あり、減衰率%は下記式で算出したものである。
さらに、上記条件のうち露光時間を3秒、帯電後の暗減
衰を1秒に代え帯電−露光の繰り返しを100回行い、そ
の時の感光体の表面電位V2(V)、半減露光量E21/2
(μJ/cm2)、残留電位V2rp(V)および減衰率%を測
定した。
衰を1秒に代え帯電−露光の繰り返しを100回行い、そ
の時の感光体の表面電位V2(V)、半減露光量E21/2
(μJ/cm2)、残留電位V2rp(V)および減衰率%を測
定した。
上記表の結果より、電荷輸送層がp型電荷発生材料を含
有する有機ポリシランより成る比較例1の電子写真感光
体、有機ポリシランのみからなる比較例2の電子写真感
光体は、何れも、帯電−露光の繰り返しによって表面電
位および残留電位が大きく上昇した。これに対して、電
荷輸送層がn型電荷発生材料を含有する有機ポリシラン
より成る実施例1,2の電子写真感光体は、帯電−露光を
繰り返しても表面電位および残留電位の変化量が小さ
く、良好な繰り返し特性を有することが判明した。
有する有機ポリシランより成る比較例1の電子写真感光
体、有機ポリシランのみからなる比較例2の電子写真感
光体は、何れも、帯電−露光の繰り返しによって表面電
位および残留電位が大きく上昇した。これに対して、電
荷輸送層がn型電荷発生材料を含有する有機ポリシラン
より成る実施例1,2の電子写真感光体は、帯電−露光を
繰り返しても表面電位および残留電位の変化量が小さ
く、良好な繰り返し特性を有することが判明した。
第1図は、本発明の負帯電型積層感光体の断面図であ
る。 第2図は、本発明の正帯電型積層感光体の断面図であ
る。 第3図は、本発明の正帯電型単層感光体の断面図であ
る。 1……基体、2……電荷発生層、3……電荷輸送層、4
……単層型感光層。
る。 第2図は、本発明の正帯電型積層感光体の断面図であ
る。 第3図は、本発明の正帯電型単層感光体の断面図であ
る。 1……基体、2……電荷発生層、3……電荷輸送層、4
……単層型感光層。
Claims (3)
- 【請求項1】電荷発生層と電荷輸送層とを有する電子写
真用積層感光体において、電荷輸送層がn型電荷発生材
料を含有する有機ポリシランから成ることを特徴とする
電子写真用積層感光体。 - 【請求項2】n型電荷発生材料が有機ポリシラン100重
量部当り0.1乃至10重量部で含有される請求項1記載の
感光体。 - 【請求項3】n型電荷発生材料がペリレン系顔料である
請求項1記載の感光体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28188689A JPH06103400B2 (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 電子写真用積層感光体 |
| US07/605,272 US5213923A (en) | 1989-10-31 | 1990-10-30 | Photosensitive material for electrophotography comprising a charge transport layer comprising an organopolysilane and diphenoquinone |
| DE69026191T DE69026191T2 (de) | 1989-10-31 | 1990-10-31 | Lichtempfindliches Material für Elektrophotographie |
| EP90311914A EP0426445B1 (en) | 1989-10-31 | 1990-10-31 | Photosensitive material for electrophotography |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28188689A JPH06103400B2 (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 電子写真用積層感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03144575A JPH03144575A (ja) | 1991-06-19 |
| JPH06103400B2 true JPH06103400B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=17645340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28188689A Expired - Lifetime JPH06103400B2 (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 電子写真用積層感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06103400B2 (ja) |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP28188689A patent/JPH06103400B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03144575A (ja) | 1991-06-19 |
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