JPH0610364U - 電解槽のストリップガイド装置 - Google Patents

電解槽のストリップガイド装置

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JPH0610364U
JPH0610364U JP3270791U JP3270791U JPH0610364U JP H0610364 U JPH0610364 U JP H0610364U JP 3270791 U JP3270791 U JP 3270791U JP 3270791 U JP3270791 U JP 3270791U JP H0610364 U JPH0610364 U JP H0610364U
Authority
JP
Japan
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strip
electrolytic
electrolytic solution
floater
electrolytic cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP3270791U
Other languages
English (en)
Inventor
行雄 神田
匠 古谷
知明 立原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0610364U publication Critical patent/JPH0610364U/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ストリップのすり傷防止。 【構成】 上フロータ1と下フロータ2にスリット状の
多数の噴射口をそれぞれ穿設し、電解槽51内に充満し
た電解液Lに浸漬して、ストリップSのパスラインの上
方及び下方に配置した複数個の上部電極53及び下部電
極54の間にそれぞれ配設し、各フロータ1,2は電解
槽51外に設置した電解液循環供給装置に連結し、リフ
レッシュされた電解液Lを噴射口から走行中のストリッ
プSに向けて噴射し、ストリップの走行位置を安定させ
てガイドし、ストリップSを電解槽51の入側及び出側
にそれぞれ配設したシンクロール52に巻回して電解液
L内のパスラインを走行し、上部電極53及び下部電極
54から通電して電解酸洗し、ストリップSの表面のス
ケール、油脂等を除去する、電解槽のストリップガイド
装置。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、ストリップの酸洗処理,電気めっき等の電解処理を行う電解槽のス トリップガイド装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3に従来装置の1例としての電解酸洗槽の縦断面図を示す。図において、槽 51内には、電解液Lが充満され、その入側と出側にはシンクロール52が配設 されている。 そして、双方のシンクロール52の下面を結ぶ、ストリップSのパスラインの 上下には、上部電極53及び下部電極54が配設されている。
【0003】 また、前記パスラインの上下の、上下電極53,54の間には、上ガイドロー ル61及び下ガイドロール62が回転自在に配設されている。
【0004】 ストリップSを双方のシンクロール52に巻回して電解液L内のパスラインを 走行させ、上部電極53及び下部電極54から電解液Lを介してストリップSに 通電して電解酸洗し、その表面のスケール,油脂等を除去する。
【0005】 ストリップSが走行中に上下に振れたときは、上ガイドロール61及び下ガイ ドロール62に接触する。この接触によって上ガイドロール61及び下ガイドロ ール62は回転してストリップSをガイドし、ストリップSの上下電極53,5 4への接触を防止する。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところで前述のような従来装置では、ストリップSが上下に振れて上ガイドロ ール61及び下ガイドロール62に接触したとき、この上下ガイドロール61, 62は電解液Lに浸漬しているので、瞬間的な接触ではロール慣性のため十分回 転しないことがあり、ストリップSとスリップしてストリップSの表面にすり傷 が発生する不具合がある。
【0007】 本考案は上記不具合点を解消した新たな電解槽のストリップガイド装置を提供 することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本考案の電解槽のストリップガイド装置は、槽内に電 解液を充満し、該電解液内のストリップパスラインをはさんで両側に電極を配設 した電解槽において、前記ストリップパスラインをはさんで両側または片側に液 体噴射装置を設けたことを特徴としている。
【0009】
【作用】
上述の本考案の電解槽のストリップガイド装置は、電解槽内のストリップパス ラインを電解液に浸漬して走行して電解処理されているストリップの両側または 片側に液体噴射装置から電解液またはめっき液等の液体を噴射し、ストリップを 非接触でガイドする。
【0010】 液体噴射装置をストリップパスラインの両側に配設した場合は、走行するスト リップが上下方向または横方向に振れようとしていずれかの液体噴射装置に接近 するとストリップとその液体噴射装置との間の圧力が高くなり、ストリップをそ の液体噴射装置から遠ざけようとする力が作用するので、ストリップは双方の液 体噴射装置の中間に戻され、ストリップパスラインを安定して走行する。
【0011】
【実施例】
以下、本考案の一実施例を図面によって具体的に説明する。なお、従来技術の 装置と同一の部材には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。 図1は電解酸洗槽の一例の縦断側面図,図2は図1のII−II断面拡大正面図で ある。
【0012】 これらの図において、1は上フロータ,2は下フロータであり、スリット状の 多数の噴射口1a,2aがそれぞれ穿設され、電解槽51内の電解液Lに浸漬し てストリップSのパスラインの上方及び下方に配置した複数個の上部電極53及 下部電極54の間に複数個それぞれ配設されている。 そして、各フロータは、供給管3によって電解槽51の外方に設置した図示し ない電解液循環供給装置に連結されている。 またこの電解液循環供給装置は、図示しない排出管によって電解槽51に連結 されている。
【0013】 次に本装置の作用について説明する。 ストリップSを電解槽51の入側及び出側に配設した双方のシンクロール52 に巻回して電解液L内のパスラインを走行させ、上部電極53及び下部電極54 から通電して電解酸洗し、ストリップSの表面のスケール、油脂等を除去する。 そして、このストリップSに上フロータ1及び下フロータ2の各々の噴射口1 a,2aから電解液循環供給装置(図示せず)によってリフレッシュされた電解 液Lを噴射し、その走行位置を安定させてガイドする。
【0014】 ストリップSが上下に振れようとして、上下いずれかの噴射口1a,2aに接 近すると、ストリップSと上下いずれかのフロータ1,2との間の圧力が高くな り、ストリップSをフロータ1,2から遠ざけようとする力が作用するので、ス トリップSは上フロータ1と下フロータ2の中間に戻され、上下電極53,54 及び上下フロータ1,2に接触することなく、安定して走行する。
【0015】 また、上記実施例によれば、ストリップSの上面及び下面のリフレッシュされ た電解液が常時供給されるので、その電解効果を促進させ酸洗時間を短縮するこ とができる。
【0016】 なお、本考案は上記実施例に限定されるものではなく、ストリップパスライン が縦型のものにも適用することができる。
【0017】
【考案の効果】
以上、詳細に説明したように、本考案によれば、電解槽内のストリップパスラ インをはさんで、両側または片側に液体噴射装置を配設し、走行するストリップ の表面に液体を噴射することにより、ストリップをそのパスラインで安定して走 行するように非接触でガイドできるので、ストリップの振れ及びすり傷の発生を 防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の1実施例としての電解酸洗槽の縦断側
面図である。
【図2】図1のII−II断面拡大正面図である。
【図3】従来装置の1例としての電解酸洗槽の縦断側面
図である。
【符号の説明】
1 上フロータ 1a スリット 2 下フロータ 2a スリット 3 供給管 51 電解槽 52 シンクロール 53 上部電極 54 下部電極 S ストリップ L 電解液

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 槽内に電解液を充満し、該電解液内のス
    トリップパスラインをはさんで両側に電極を配設した電
    解槽において、前記ストリップパスラインをはさんで両
    側または片側に液体噴射装置を設けたことを特徴とする
    電解槽のストリップガイド装置。
JP3270791U 1991-04-12 1991-04-12 電解槽のストリップガイド装置 Pending JPH0610364U (ja)

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JP3270791U JPH0610364U (ja) 1991-04-12 1991-04-12 電解槽のストリップガイド装置

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JPH0610364U true JPH0610364U (ja) 1994-02-08

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0250306U (ja) * 1988-10-03 1990-04-09

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59126791A (ja) * 1983-01-06 1984-07-21 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 電気メツキ装置
JPS6215594A (ja) * 1985-07-15 1987-01-23 株式会社日立製作所 表示装置

Patent Citations (2)

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19970513