JPH0610492Y2 - 光情報記録装置 - Google Patents
光情報記録装置Info
- Publication number
- JPH0610492Y2 JPH0610492Y2 JP4839084U JP4839084U JPH0610492Y2 JP H0610492 Y2 JPH0610492 Y2 JP H0610492Y2 JP 4839084 U JP4839084 U JP 4839084U JP 4839084 U JP4839084 U JP 4839084U JP H0610492 Y2 JPH0610492 Y2 JP H0610492Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical information
- information recording
- ring
- laser beam
- recording device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 本考案は、ピツト幅を正確に制御出来る光情報記録装置
に関する。
に関する。
一般に円盤状光デイスクに同じ円状又は螺線状ピツトを
記録するさいに使用するレーザ光強度はガウス分布をし
ており、このレーザを集光し、金属薄膜（Te、Bi、AsTe）
に微小ピツトを形成する。
記録するさいに使用するレーザ光強度はガウス分布をし
ており、このレーザを集光し、金属薄膜（Te、Bi、AsTe）
に微小ピツトを形成する。
この金属薄膜を溶融、蒸発させる為に必要な光パワー、
と形成されるピツト幅の関係は第１図の様に集光ビーム
径ωよりも実際に得られるピツト幅は小さい。従ってピ
ツト形成過程において記録レーザビームがピツトを透過
するさいピツトにより回折現象を生じ、円形透明基板上
の記録金属膜を通過した光は回折リングを生じる。この
パターンは円孔（又はスリツト）によるフラウンホーフ
ア回折となり、金属膜からの距離（）において、最初
に暗くなる半径ｒはｒ＝1.22/aλとなる。（但しλは
レーザ波長）即ち、金属膜の裏面部において暗リング又
は明リング半径をモニタし、光量を制御することによつ
て任意のピツト幅ａを得ることが可能となる。
と形成されるピツト幅の関係は第１図の様に集光ビーム
径ωよりも実際に得られるピツト幅は小さい。従ってピ
ツト形成過程において記録レーザビームがピツトを透過
するさいピツトにより回折現象を生じ、円形透明基板上
の記録金属膜を通過した光は回折リングを生じる。この
パターンは円孔（又はスリツト）によるフラウンホーフ
ア回折となり、金属膜からの距離（）において、最初
に暗くなる半径ｒはｒ＝1.22/aλとなる。（但しλは
レーザ波長）即ち、金属膜の裏面部において暗リング又
は明リング半径をモニタし、光量を制御することによつ
て任意のピツト幅ａを得ることが可能となる。
この為第２図の様に金属薄膜１を付着させた円形透明基
板２を回転させて記録するさいに、この下に、光位置検
出器４を設け、外周方向へ集光レンズ３と連動して移動
する構造とする。正常に記録されている間における検出
器上の暗リング位置に対し、ピツト幅がせまくなると、
暗リング５は第２図矢印の如く光位置検出器４の上を右
方向に移動するので、記録面に照射する集光ビーム径を
大きくするか、記録光パワーを上げる等の制御を行つて
ピツトを大きくする。なお、光位置検出器４は、例えば
複数のダイオードを１列に並べて、どのダイオードが暗
くなるかにより暗リングの位置を計測する等種々の構成
が考えられる。
板２を回転させて記録するさいに、この下に、光位置検
出器４を設け、外周方向へ集光レンズ３と連動して移動
する構造とする。正常に記録されている間における検出
器上の暗リング位置に対し、ピツト幅がせまくなると、
暗リング５は第２図矢印の如く光位置検出器４の上を右
方向に移動するので、記録面に照射する集光ビーム径を
大きくするか、記録光パワーを上げる等の制御を行つて
ピツトを大きくする。なお、光位置検出器４は、例えば
複数のダイオードを１列に並べて、どのダイオードが暗
くなるかにより暗リングの位置を計測する等種々の構成
が考えられる。
以上の様に本考案によれば、ピツト幅を正確に制御出
来、その実用的効果は大きい。
来、その実用的効果は大きい。
第１図は本考案の技術的背景を説明する図、第２図は本
考案の一実施例を示す概略図である。 １……記録膜、４……光位置検出器 ５……回折リング
考案の一実施例を示す概略図である。 １……記録膜、４……光位置検出器 ５……回折リング
Claims (1)
- 【請求項１】レーザビームを集光し、記録膜に、溶融、
蒸発によつて微小スポットを形成する光情報記録装置に
おいて、前記記録膜に記録されるピットにより生じる回
折光リングの暗リング又は明リングの径を計測手段で計
測し、前記レーザビームの光量制御手段で前記レーザビ
ームの光量を制御し、ピット幅のコントロールを行うこ
とを特徴とする光情報記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4839084U JPH0610492Y2 (ja) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | 光情報記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4839084U JPH0610492Y2 (ja) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | 光情報記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163522U JPS60163522U (ja) | 1985-10-30 |
| JPH0610492Y2 true JPH0610492Y2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=30564601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4839084U Expired - Lifetime JPH0610492Y2 (ja) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | 光情報記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0610492Y2 (ja) |
-
1984
- 1984-04-02 JP JP4839084U patent/JPH0610492Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60163522U (ja) | 1985-10-30 |
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