JPH06107580A - ビスフェノールaプリルの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールaプリルの製造方法Info
- Publication number
- JPH06107580A JPH06107580A JP28348292A JP28348292A JPH06107580A JP H06107580 A JPH06107580 A JP H06107580A JP 28348292 A JP28348292 A JP 28348292A JP 28348292 A JP28348292 A JP 28348292A JP H06107580 A JPH06107580 A JP H06107580A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- prill
- bisphenol
- cooling gas
- particle size
- diameter
- Prior art date
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- Pending
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- Glanulating (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 好ましい粒度のビスフェノ−ルAプリルを得
ること。 【構成】 ビスフェノ−ルAの溶融液を造粒塔上部目皿
から滴下し、下部からは冷却用の気体を上部に向けて流
し、液滴を冷却、固化してビスフェノ−ルAプリルを製
造するに当たり、固化して落下するビスフェノ−ルAプ
リルの平均粒径での理論終末落下速度をVpとすると
き、冷却用気体の最大流速Vgを、0.1Vp<Vg<
0.8Vpとなる条件に保持して造粒する。 【効果】 粉末の副生を少なくし、好ましい粒度のビス
フェノ−ルAプリルの割合を高めることができる。
ること。 【構成】 ビスフェノ−ルAの溶融液を造粒塔上部目皿
から滴下し、下部からは冷却用の気体を上部に向けて流
し、液滴を冷却、固化してビスフェノ−ルAプリルを製
造するに当たり、固化して落下するビスフェノ−ルAプ
リルの平均粒径での理論終末落下速度をVpとすると
き、冷却用気体の最大流速Vgを、0.1Vp<Vg<
0.8Vpとなる条件に保持して造粒する。 【効果】 粉末の副生を少なくし、好ましい粒度のビス
フェノ−ルAプリルの割合を高めることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はビスフェノ−ルAプリル
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ビスフェノ−ルAは、化学名が2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンである常温固
体の化合物であり、通常プリルと称される小球状の粒、
フレ−ク及び結晶の形状で得られる。これらは、取り扱
い性の面からは、形状、粒径が揃っていることが望まし
いことはいうまでもない。形状の均一性の面からは、液
滴を固化させて得られたプリルが最も優れており、これ
が主流となっている。
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンである常温固
体の化合物であり、通常プリルと称される小球状の粒、
フレ−ク及び結晶の形状で得られる。これらは、取り扱
い性の面からは、形状、粒径が揃っていることが望まし
いことはいうまでもない。形状の均一性の面からは、液
滴を固化させて得られたプリルが最も優れており、これ
が主流となっている。
【0003】ビスフェノ−ルAプリルの製造方法は、U
SP3518329、特開表2−501921号等で紹
介されているが、これらはいずれも種晶を存在させるな
ど固化条件を制御することにより、形状、強度等を制御
している。しかしながら、このような方法をとったとし
ても、破砕が生じ、ダストが発生することがある。ま
た、特公昭47−8060号公報には、ビスフェノ−ル
Aの液滴を造粒塔から落下させ、これを冷却用の気体と
接触させてビスフェノ−ルAプリルを製造することが記
載されている。このような造粒塔において、下部を絞っ
てコ−ン部を設けることは、気体の流れを整えるためだ
けでなく、固化したプリルを効果的に集め、取り出すた
めに有効であるが、この部分にプリルが堆積し、ブリッ
ジを形成し、その結果プリルの破砕が起こることが見出
された。
SP3518329、特開表2−501921号等で紹
介されているが、これらはいずれも種晶を存在させるな
ど固化条件を制御することにより、形状、強度等を制御
している。しかしながら、このような方法をとったとし
ても、破砕が生じ、ダストが発生することがある。ま
た、特公昭47−8060号公報には、ビスフェノ−ル
Aの液滴を造粒塔から落下させ、これを冷却用の気体と
接触させてビスフェノ−ルAプリルを製造することが記
載されている。このような造粒塔において、下部を絞っ
てコ−ン部を設けることは、気体の流れを整えるためだ
けでなく、固化したプリルを効果的に集め、取り出すた
めに有効であるが、この部分にプリルが堆積し、ブリッ
ジを形成し、その結果プリルの破砕が起こることが見出
された。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、造粒塔での
プリルの破砕が少ないビスフェノ−ルAプリルの製造方
法を提供することを目的とする。
プリルの破砕が少ないビスフェノ−ルAプリルの製造方
法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、ビスフェノ−
ルAの溶融液を造粒塔上部目皿から滴下し、下部からは
冷却用の気体を上部に向けて流し、液滴を冷却、固化し
てビスフェノ−ルAプリルを製造するに当たり、固化し
て落下するビスフェノ−ルAプリルの平均粒径での理論
終末落下速度をVpとするとき、冷却用気体の流速Vg
を、0.1Vp<Vg<0.8Vpとなる条件に保持し
て造粒することを特徴とするビスフェノ−ルAプリルの
製造方法である。
ルAの溶融液を造粒塔上部目皿から滴下し、下部からは
冷却用の気体を上部に向けて流し、液滴を冷却、固化し
てビスフェノ−ルAプリルを製造するに当たり、固化し
て落下するビスフェノ−ルAプリルの平均粒径での理論
終末落下速度をVpとするとき、冷却用気体の流速Vg
を、0.1Vp<Vg<0.8Vpとなる条件に保持し
て造粒することを特徴とするビスフェノ−ルAプリルの
製造方法である。
【0006】本発明が適用されるビスフェノ−ルAは製
造工程で得られるものであってもよいし、粉末状の回収
品や市販のものであってもよい。本発明は、このような
ビスフェノ−ルAを溶融させ、造粒塔から液滴として落
下させ、プリルとするものである。以下、本発明を図1
により説明する。
造工程で得られるものであってもよいし、粉末状の回収
品や市販のものであってもよい。本発明は、このような
ビスフェノ−ルAを溶融させ、造粒塔から液滴として落
下させ、プリルとするものである。以下、本発明を図1
により説明する。
【0007】図1において、1はビスフェノ−ルA溶融
液の導入管、2は目皿、3は造粒塔内部空間、4はコ−
ン部、5はプリル取り出し口、6は冷却用気体入り口、
7は冷却用気体出口である。目皿2から落下する液滴は
空間3で冷却用気体と向流接触して、冷却され、固化さ
れ、コ−ン部4付近では完全に固化した状態、すなわち
プリルとなる。このプリルはコ−ン部4を落下し、造粒
塔下部の取り出し口から抜き出される。また、冷却用ガ
スは入り口6から供給され、コ−ン部4、空間3を通る
間に液滴又はプリルと接触して熱を与えられ、温まった
気体となって出口7から排気される。排気された気体は
粉末を分離したのち、冷却して再使用することができ
る。また、気体としてはチッ素等の不活性ガスが望まし
い。
液の導入管、2は目皿、3は造粒塔内部空間、4はコ−
ン部、5はプリル取り出し口、6は冷却用気体入り口、
7は冷却用気体出口である。目皿2から落下する液滴は
空間3で冷却用気体と向流接触して、冷却され、固化さ
れ、コ−ン部4付近では完全に固化した状態、すなわち
プリルとなる。このプリルはコ−ン部4を落下し、造粒
塔下部の取り出し口から抜き出される。また、冷却用ガ
スは入り口6から供給され、コ−ン部4、空間3を通る
間に液滴又はプリルと接触して熱を与えられ、温まった
気体となって出口7から排気される。排気された気体は
粉末を分離したのち、冷却して再使用することができ
る。また、気体としてはチッ素等の不活性ガスが望まし
い。
【0008】目皿の孔径は目的とするプリル径によって
決められるが、通常プリル径が0.5〜5mm程度、好
ましくは0.8〜3mm程度となるように決められる。
造粒塔の高さは空間3が十分とれるほど未固化物が減少
し、生産性は高まるが、通常のプリル径とする場合、好
ましくは空間3が10m以上、30m未満となる高さで
ある。コ−ン部4は液滴が固化した位置に設けられるも
のであり、下部に向かって径が狭くなるように構成され
ている。好ましくは、コ−ン部4の先端の径が空間3の
径の約2/3〜1/4程度となるように連続的に径が小
さくなる。
決められるが、通常プリル径が0.5〜5mm程度、好
ましくは0.8〜3mm程度となるように決められる。
造粒塔の高さは空間3が十分とれるほど未固化物が減少
し、生産性は高まるが、通常のプリル径とする場合、好
ましくは空間3が10m以上、30m未満となる高さで
ある。コ−ン部4は液滴が固化した位置に設けられるも
のであり、下部に向かって径が狭くなるように構成され
ている。好ましくは、コ−ン部4の先端の径が空間3の
径の約2/3〜1/4程度となるように連続的に径が小
さくなる。
【0009】本発明においては、空間3で形成されたプ
リルの平均粒径での理論終末落下速度Vpと、冷却用気
体の流速Vgを下式を満たすように保持する。 0.1Vp<Vg<0.8Vp、好ましくは0.2Vp
<Vg<0.7Vp ここで、終末落下速度は、気体の流れがないとして計算
された値であり、プリルの径、密度等によって定まる。
プリルの径にはバラツキがあるので、この平均粒径での
理論終末落下速度がVpである。冷却用気体の流速は、
最も径が絞られたコ−ン部4の先端での流速である。こ
のVgが大き過ぎるとコ−ン部4にプリルが堆積しやす
くなり、破砕、閉塞等が生ずる。逆に小さ過ぎるとプリ
ルの相対速度が速くなり、冷却ガスとの接触時間がとれ
ず、コ−ン部に固着してプリルの生産性が低下する。
リルの平均粒径での理論終末落下速度Vpと、冷却用気
体の流速Vgを下式を満たすように保持する。 0.1Vp<Vg<0.8Vp、好ましくは0.2Vp
<Vg<0.7Vp ここで、終末落下速度は、気体の流れがないとして計算
された値であり、プリルの径、密度等によって定まる。
プリルの径にはバラツキがあるので、この平均粒径での
理論終末落下速度がVpである。冷却用気体の流速は、
最も径が絞られたコ−ン部4の先端での流速である。こ
のVgが大き過ぎるとコ−ン部4にプリルが堆積しやす
くなり、破砕、閉塞等が生ずる。逆に小さ過ぎるとプリ
ルの相対速度が速くなり、冷却ガスとの接触時間がとれ
ず、コ−ン部に固着してプリルの生産性が低下する。
【0010】
【作用】冷却用気体の最大流速を前記範囲となるように
することにより、プリルの落下を妨げることがなく、そ
れによりコ−ン部での堆積、閉塞が防止されると共に、
プリルが流動層を形成して破砕が生じることも防止され
ると考えられる。
することにより、プリルの落下を妨げることがなく、そ
れによりコ−ン部での堆積、閉塞が防止されると共に、
プリルが流動層を形成して破砕が生じることも防止され
ると考えられる。
【0011】
【実施例】本発明の実施例を以下に示す。なお、配合割
合は重量部をを示し、%は重量%を示す。 実施例1 図1に示す実験装置を用いて、ビスフェノ−ルA(純度
99.935%)を、170℃に加熱、融解し、これを
約0.8mm径の孔を多数有する目皿より滴下させ、液
滴をつくり、冷却用ガスと向流接触させながら落下さ
せ、固化させてビスフェノ−ルAプリルを製造した。実
験装置の空間3の径は290mm、コ−ン部4の先端の
径は150mm、コ−ン部上端から先端までの高さは1
90mm,コ−ン部の傾斜は60°である。また、液滴
が固化してコ−ン部上端に達するまでの高さは12.5
mとした。冷却用気体入り口からチッ素ガスを装入し、
空間3でのガス流速を1.2m/sとなるように設定
し、コ−ン部先端での流速を4.5m/sとした。ま
た、プリルは230g/minの割合で落下させた。こ
の条件の場合、コ−ン部での流動層の形成もなく、プリ
ルの破砕も少なかった。得られたプリルの粒度分布を表
1に示す。
合は重量部をを示し、%は重量%を示す。 実施例1 図1に示す実験装置を用いて、ビスフェノ−ルA(純度
99.935%)を、170℃に加熱、融解し、これを
約0.8mm径の孔を多数有する目皿より滴下させ、液
滴をつくり、冷却用ガスと向流接触させながら落下さ
せ、固化させてビスフェノ−ルAプリルを製造した。実
験装置の空間3の径は290mm、コ−ン部4の先端の
径は150mm、コ−ン部上端から先端までの高さは1
90mm,コ−ン部の傾斜は60°である。また、液滴
が固化してコ−ン部上端に達するまでの高さは12.5
mとした。冷却用気体入り口からチッ素ガスを装入し、
空間3でのガス流速を1.2m/sとなるように設定
し、コ−ン部先端での流速を4.5m/sとした。ま
た、プリルは230g/minの割合で落下させた。こ
の条件の場合、コ−ン部での流動層の形成もなく、プリ
ルの破砕も少なかった。得られたプリルの粒度分布を表
1に示す。
【0012】比較例1 実施例1で使用した実験装置のコ−ン部先端の径を10
7mmとし、空間3でのガス流速を1.2m/sとなる
ように設定し、コ−ン部先端での流速を8.8m/sと
した他は実施例1と同様な実験を行った。この条件の場
合、コ−ン部での流動層の形成が認められ、プリルの破
砕も多かった。得られたプリルの粒度分布を表1に示
す。
7mmとし、空間3でのガス流速を1.2m/sとなる
ように設定し、コ−ン部先端での流速を8.8m/sと
した他は実施例1と同様な実験を行った。この条件の場
合、コ−ン部での流動層の形成が認められ、プリルの破
砕も多かった。得られたプリルの粒度分布を表1に示
す。
【0013】比較例2 実施例1で使用した実験装置のコ−ン部先端の径を10
7mmとし、空間3でのガス流速を0.8m/sとなる
ように設定し、コ−ン部先端での流速を5.9m/sと
した他は実施例1と同様な実験を行った。この条件の場
合、コ−ン部での流動層の形成が僅かに認められた。得
られたプリルの粒度分布を表1に示す。
7mmとし、空間3でのガス流速を0.8m/sとなる
ように設定し、コ−ン部先端での流速を5.9m/sと
した他は実施例1と同様な実験を行った。この条件の場
合、コ−ン部での流動層の形成が僅かに認められた。得
られたプリルの粒度分布を表1に示す。
【0014】
【表1】
【0015】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、適当な粒度
のビスフェノ−ルAプリルの割合を高めることができ
る。
のビスフェノ−ルAプリルの割合を高めることができ
る。
【図1】 図1は造粒塔の断面を模式的に示す説明図で
ある。
ある。
1…導入管 2…目皿 4…コ−ン部 6…気体入り口 7…気体出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉津 威 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号、千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 戸崎 克己 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号、千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 野村 誠 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号、千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 森田 守 福岡県北九州市小倉北区高峰町7−12− 601 (72)発明者 山本 晶生 福岡県北九州市小倉北区井堀2丁目1−11 (72)発明者 谷 信夫 福岡県宗像郡福間町上西郷カトタ28−43 (72)発明者 南 隆昌 福岡県北九州市小倉南区朽網東2丁目29− 1−510
Claims (1)
- 【請求項1】 ビスフェノ−ルAの溶融液を造粒塔上部
目皿から滴下し、下部からは冷却用の気体を上部に向け
て流し、液滴を冷却、固化してビスフェノ−ルAプリル
を製造するに当たり、固化して落下するビスフェノ−ル
Aプリルの平均粒径での理論終末落下速度をVpとする
とき、冷却用気体の流速Vgを、0.1Vp<Vg<
0.8Vpとなる条件に保持して造粒することを特徴と
するビスフェノ−ルAプリルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28348292A JPH06107580A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | ビスフェノールaプリルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28348292A JPH06107580A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | ビスフェノールaプリルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107580A true JPH06107580A (ja) | 1994-04-19 |
Family
ID=17666123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28348292A Pending JPH06107580A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | ビスフェノールaプリルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06107580A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002534402A (ja) * | 1999-01-07 | 2002-10-15 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | ビスフェノールaプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールaプリル |
| WO2005073153A1 (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ビスフェノールaのプリルの製造方法 |
| JP2006503900A (ja) * | 2002-10-28 | 2006-02-02 | ロディア・シミ | フェノール化合物のビーズ及びその製造方法 |
| US11046631B2 (en) | 2017-02-21 | 2021-06-29 | Rhodia Operations | Diphenol and phenol prills and method for obtaining the same |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP28348292A patent/JPH06107580A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002534402A (ja) * | 1999-01-07 | 2002-10-15 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | ビスフェノールaプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールaプリル |
| JP2006503900A (ja) * | 2002-10-28 | 2006-02-02 | ロディア・シミ | フェノール化合物のビーズ及びその製造方法 |
| WO2005073153A1 (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ビスフェノールaのプリルの製造方法 |
| JP2005213190A (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ビスフェノールaのプリルの製造方法 |
| US11046631B2 (en) | 2017-02-21 | 2021-06-29 | Rhodia Operations | Diphenol and phenol prills and method for obtaining the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021015 |