JPH06109668A - Ｘ線回折装置のセッティング方法 - Google Patents
Ｘ線回折装置のセッティング方法Info
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- JPH06109668A JPH06109668A JP28115892A JP28115892A JPH06109668A JP H06109668 A JPH06109668 A JP H06109668A JP 28115892 A JP28115892 A JP 28115892A JP 28115892 A JP28115892 A JP 28115892A JP H06109668 A JPH06109668 A JP H06109668A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線源と試料との間にモノクロメータを配置
したＸ線回折装置に関してそのセッティング作業を容易
にする。 【構成】 スリットボックス１８は、回折測定の際には
検出器回転台に取り付けられるものであるが、これを試
料台１４にも取り付けられるようにする。スリットボッ
クス１８には受光スリット２２と散乱スリット２４を取
り付けることができる。スリットボックス１８は２本の
固定ねじ３０で試料台１４に固定する。受光スリット２
２の中心は試料台１４の回転中心に一致させる。モノク
ロメータを備えたＸ線回折装置のセッティングをするに
は、試料台１４上にもってきた受光スリット２２を利用
する。
したＸ線回折装置に関してそのセッティング作業を容易
にする。 【構成】 スリットボックス１８は、回折測定の際には
検出器回転台に取り付けられるものであるが、これを試
料台１４にも取り付けられるようにする。スリットボッ
クス１８には受光スリット２２と散乱スリット２４を取
り付けることができる。スリットボックス１８は２本の
固定ねじ３０で試料台１４に固定する。受光スリット２
２の中心は試料台１４の回転中心に一致させる。モノク
ロメータを備えたＸ線回折装置のセッティングをするに
は、試料台１４上にもってきた受光スリット２２を利用
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＸ線源と試料との間にモ
ノクロメ−タを配置したＸ線回折装置のセッティング方
法に関する。
ノクロメ−タを配置したＸ線回折装置のセッティング方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図５はＸ線源と試料との間にモノクロメ
−タを配置したＸ線回折装置の平面図である。このＸ線
回折装置は、Ｘ線源２と、このＸ線源２と試料４との間
に配置したモノクロメ−タ６と、モノクロメ−タ６の回
転中心の回りに回転可能なゴニオメ−タ回転台８とを備
えている。モノクロメ−タ６はモノクロメ−タ回転台４
８上に取り付けてある。ゴニオメ−タ回転台８上にはゴ
ニオメ−タ基台１０を搭載してあり、このゴニオメ−タ
基台１０は、ゴニオメ−タ回転台８に対して微小回転可
能になっている。ゴニオメ−タ基台１０には、発散スリ
ット１２と、試料台１４と、検出器回転台１６を設けて
ある。試料台１４と検出器回転台１６はゴニオメ−タ基
台に対して回転でき、通常の測定では試料台１４と検出
器回転台１６は１対２の角速度比で回転する。検出器回
転台１６にはスリットボックス１８とＸ線検出器２０と
を設けてある。スリットボックス１８には受光スリット
２２と散乱スリット２４を取り付けてある。
−タを配置したＸ線回折装置の平面図である。このＸ線
回折装置は、Ｘ線源２と、このＸ線源２と試料４との間
に配置したモノクロメ−タ６と、モノクロメ−タ６の回
転中心の回りに回転可能なゴニオメ−タ回転台８とを備
えている。モノクロメ−タ６はモノクロメ−タ回転台４
８上に取り付けてある。ゴニオメ−タ回転台８上にはゴ
ニオメ−タ基台１０を搭載してあり、このゴニオメ−タ
基台１０は、ゴニオメ−タ回転台８に対して微小回転可
能になっている。ゴニオメ−タ基台１０には、発散スリ
ット１２と、試料台１４と、検出器回転台１６を設けて
ある。試料台１４と検出器回転台１６はゴニオメ−タ基
台に対して回転でき、通常の測定では試料台１４と検出
器回転台１６は１対２の角速度比で回転する。検出器回
転台１６にはスリットボックス１８とＸ線検出器２０と
を設けてある。スリットボックス１８には受光スリット
２２と散乱スリット２４を取り付けてある。
【０００３】モノクロメ−タ６に対するＸ線の入射角は
θｍであり、この入射Ｘ線に対する回折Ｘ線の角度は２
θｍである。このモノクロメ−タ６により特定波長のＸ
線だけが試料４に入射する。試料４に対するＸ線の入射
角はθであり、入射Ｘ線に対する回折Ｘ線の角度は２θ
である。
θｍであり、この入射Ｘ線に対する回折Ｘ線の角度は２
θｍである。このモノクロメ−タ６により特定波長のＸ
線だけが試料４に入射する。試料４に対するＸ線の入射
角はθであり、入射Ｘ線に対する回折Ｘ線の角度は２θ
である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このＸ線回折装置のセ
ッティングすなわち光軸調整を行う際に最も問題になる
のは、モノクロメ−タ６の結晶表面がゴニオメ−タ回転
台８の回転中心からずれている場合である。図６は、図
５に示すＸ線回折装置のセッティング作業の途中の段階
を示した平面図である。モノクロメ−タ６をθｍだけ回
転させ、ゴニオメ−タ回転台を２θｍだけ回転させて、
特定波長のＸ線を取り出すようにした場合を考える。モ
ノクロメ−タ６の結晶表面が、ゴニオメ−タ回転台の回
転中心２６に一致している場合は、モノクロメ−タ６の
結晶表面で回折したＸ線が発散スリット１２と受光スリ
ット２２とを通過することができる。しかし、モノクロ
メ−タ６が一点破線の位置６ａにあってその結晶表面が
ゴニオメ−タ回転台の回転中心２６からずれていると、
ゴニオメ−タ回転台の回転角を（２θｍ＋Δθｍ）に変
更しても、モノクロメ−タ６の結晶表面で回折したＸ線
は、発散スリット１２を通過しても受光スリット２２を
通過することができない。発散スリット１２と受光スリ
ット２２の両方を通過させるためには、モノクロメ−タ
６をその結晶表面に垂直な方向にずらすか、あるいは、
ゴニオメ−タ回転台を光軸に垂直な方向にずらす必要が
ある。しかも、このような作業は試行錯誤の繰り返しと
なる。
ッティングすなわち光軸調整を行う際に最も問題になる
のは、モノクロメ−タ６の結晶表面がゴニオメ−タ回転
台８の回転中心からずれている場合である。図６は、図
５に示すＸ線回折装置のセッティング作業の途中の段階
を示した平面図である。モノクロメ−タ６をθｍだけ回
転させ、ゴニオメ−タ回転台を２θｍだけ回転させて、
特定波長のＸ線を取り出すようにした場合を考える。モ
ノクロメ−タ６の結晶表面が、ゴニオメ−タ回転台の回
転中心２６に一致している場合は、モノクロメ−タ６の
結晶表面で回折したＸ線が発散スリット１２と受光スリ
ット２２とを通過することができる。しかし、モノクロ
メ−タ６が一点破線の位置６ａにあってその結晶表面が
ゴニオメ−タ回転台の回転中心２６からずれていると、
ゴニオメ−タ回転台の回転角を（２θｍ＋Δθｍ）に変
更しても、モノクロメ−タ６の結晶表面で回折したＸ線
は、発散スリット１２を通過しても受光スリット２２を
通過することができない。発散スリット１２と受光スリ
ット２２の両方を通過させるためには、モノクロメ−タ
６をその結晶表面に垂直な方向にずらすか、あるいは、
ゴニオメ−タ回転台を光軸に垂直な方向にずらす必要が
ある。しかも、このような作業は試行錯誤の繰り返しと
なる。
【０００５】本発明の目的は、Ｘ線源と試料との間にモ
ノクロメ−タを配置したＸ線回折装置に関してそのセッ
ティング作業を容易にすることにある。
ノクロメ−タを配置したＸ線回折装置に関してそのセッ
ティング作業を容易にすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】第１の発明のセッティン
グ方法は、Ｘ線源と、このＸ線源と試料との間に配置し
たモノクロメ−タと、モノクロメ−タの回転中心の回り
に回転可能なゴニオメ−タ回転台と、ゴニオメ−タ回転
台に回転可能に設けたゴニオメ−タ基台と、ゴニオメ−
タ基台に設けた発散スリットと、ゴニオメ−タ基台に回
転可能に設けた試料台と、ゴニオメ−タ基台に回転可能
に設けた検出器回転台と、検出器回転台に設けた受光ス
リットと、検出器回転台に設けたＸ線検出器とを備える
Ｘ線回折装置のセッティング方法において、発散スリッ
トと受光スリットを結ぶ直線上にゴニオメ−タ基台の回
転中心を配置しておき、ゴニオメ−タ基台の回転中心上
に受光スリットを一時的に移動することによってモノク
ロメ−タからのＸ線を検出し、その後、受光スリットを
本来の位置に戻して、モノクロメ−タからのＸ線が発散
スリットと受光スリットとを通過するようにゴニオメ−
タ基台を回転させることを特徴としている。
グ方法は、Ｘ線源と、このＸ線源と試料との間に配置し
たモノクロメ−タと、モノクロメ−タの回転中心の回り
に回転可能なゴニオメ−タ回転台と、ゴニオメ−タ回転
台に回転可能に設けたゴニオメ−タ基台と、ゴニオメ−
タ基台に設けた発散スリットと、ゴニオメ−タ基台に回
転可能に設けた試料台と、ゴニオメ−タ基台に回転可能
に設けた検出器回転台と、検出器回転台に設けた受光ス
リットと、検出器回転台に設けたＸ線検出器とを備える
Ｘ線回折装置のセッティング方法において、発散スリッ
トと受光スリットを結ぶ直線上にゴニオメ−タ基台の回
転中心を配置しておき、ゴニオメ−タ基台の回転中心上
に受光スリットを一時的に移動することによってモノク
ロメ−タからのＸ線を検出し、その後、受光スリットを
本来の位置に戻して、モノクロメ−タからのＸ線が発散
スリットと受光スリットとを通過するようにゴニオメ−
タ基台を回転させることを特徴としている。
【０００７】第２の発明は、第１の発明において、ゴニ
オメ−タ基台の回転中心と試料台の回転中心とを一致さ
せることを特徴としている。
オメ−タ基台の回転中心と試料台の回転中心とを一致さ
せることを特徴としている。
【０００８】第３の発明は、第２の発明において、受光
スリットを取り付けたスリットボックスを一時的に試料
台上に移動するようにしたことを特徴としている。
スリットを取り付けたスリットボックスを一時的に試料
台上に移動するようにしたことを特徴としている。
【０００９】
【作用】ゴニオメ−タ基台を回転可能にして、その回転
中心に受光スリットを一時的に配置すると、モノクロメ
−タ回転台の回転角度を微調整することによって、モノ
クロメ−タからの回折Ｘ線が受光スリットを通過するよ
うに調整できる。その後、発散スリットと受光スリット
を本来の位置に取り付けてゴニオメ−タ基台を微小回転
させることにより、モノクロメ−タからの回折Ｘ線が発
散スリットと受光スリットとを通過するように調整する
ことができる。というのは、受光スリットの一時的な移
動による上述の調整によって、モノクロメ−タからの回
折Ｘ線は、ゴニオメ−タ基台の回転中心を通過するよう
になっているからである。
中心に受光スリットを一時的に配置すると、モノクロメ
−タ回転台の回転角度を微調整することによって、モノ
クロメ−タからの回折Ｘ線が受光スリットを通過するよ
うに調整できる。その後、発散スリットと受光スリット
を本来の位置に取り付けてゴニオメ−タ基台を微小回転
させることにより、モノクロメ−タからの回折Ｘ線が発
散スリットと受光スリットとを通過するように調整する
ことができる。というのは、受光スリットの一時的な移
動による上述の調整によって、モノクロメ−タからの回
折Ｘ線は、ゴニオメ−タ基台の回転中心を通過するよう
になっているからである。
【００１０】
【実施例】本発明のセッティング方法を適用するための
Ｘ線回折装置の基本的な構成は、図５に示したものと同
じである。図１は、本発明で使用するスリットボックス
と試料台との取り付け関係の一例を示した斜視図であ
る。スリットボックス１８は、受光スリット２２と散乱
スリット２４を取り付けることができる。スリットボッ
クス１８は、回折測定の際には検出器回転台１６（図５
参照）に取り付けられるものであるが、この実施例で
は、試料台１４にも取り付けられるようになっている。
試料台１４にはストッパ２８を固定してある。スリット
ボックス１８は、２本の固定ねじ３０で試料台１４に固
定できる。固定ねじ３０を締め付けると、円錐面を有す
るスペ−サ３２がスリットボックス１８の傾斜面３４を
斜め下方に押し付ける。これにより、スリットボックス
１８の壁面３６がストッパ２８のストッパ面３８に押し
付けられる。図２はスリットボックス１８と試料台１４
との位置関係を示す平面図である。ストッパ２８とスリ
ットボックス１８には位置決めマ−ク４０、４２が付い
ており、両者のマ−クを合わせることによって、受光ス
リット２２の中心を試料台１４の回転中心４４に一致さ
せることができる。
Ｘ線回折装置の基本的な構成は、図５に示したものと同
じである。図１は、本発明で使用するスリットボックス
と試料台との取り付け関係の一例を示した斜視図であ
る。スリットボックス１８は、受光スリット２２と散乱
スリット２４を取り付けることができる。スリットボッ
クス１８は、回折測定の際には検出器回転台１６（図５
参照）に取り付けられるものであるが、この実施例で
は、試料台１４にも取り付けられるようになっている。
試料台１４にはストッパ２８を固定してある。スリット
ボックス１８は、２本の固定ねじ３０で試料台１４に固
定できる。固定ねじ３０を締め付けると、円錐面を有す
るスペ−サ３２がスリットボックス１８の傾斜面３４を
斜め下方に押し付ける。これにより、スリットボックス
１８の壁面３６がストッパ２８のストッパ面３８に押し
付けられる。図２はスリットボックス１８と試料台１４
との位置関係を示す平面図である。ストッパ２８とスリ
ットボックス１８には位置決めマ−ク４０、４２が付い
ており、両者のマ−クを合わせることによって、受光ス
リット２２の中心を試料台１４の回転中心４４に一致さ
せることができる。
【００１１】次に、このＸ線回折装置のセッティング方
法を説明する。図３と図４はセッティングの作業手順を
示した平面図である。まず、図３の（Ａ）において、試
料とモノクロメ−タと受光スリットと散乱スリットを外
しておく。ゴニオメ−タ回転台８の回転角を２θｍ＝０
°付近にもってくる。検出器回転台１６の回転角も２θ
＝０°付近にもってくる。発散スリット１２を取り付け
てＸ線源２からのダイレクトビ−ムをＸ線検出器２０で
検出する。そして、検出強度が最大になるように、ゴニ
オメ−タ回転台８を微小角度範囲で回転調整する。これ
により、２θｍ＝０°の位置が決定する。
法を説明する。図３と図４はセッティングの作業手順を
示した平面図である。まず、図３の（Ａ）において、試
料とモノクロメ−タと受光スリットと散乱スリットを外
しておく。ゴニオメ−タ回転台８の回転角を２θｍ＝０
°付近にもってくる。検出器回転台１６の回転角も２θ
＝０°付近にもってくる。発散スリット１２を取り付け
てＸ線源２からのダイレクトビ−ムをＸ線検出器２０で
検出する。そして、検出強度が最大になるように、ゴニ
オメ−タ回転台８を微小角度範囲で回転調整する。これ
により、２θｍ＝０°の位置が決定する。
【００１２】次に、図３の（Ｂ）に示すように、スリッ
トボックス１８に受光スリット２２を取り付けて、Ｘ線
検出強度が最大になるように、検出器回転台１６を微小
角度範囲で回転調整する。これにより、２θ＝０°の位
置が決定する。
トボックス１８に受光スリット２２を取り付けて、Ｘ線
検出強度が最大になるように、検出器回転台１６を微小
角度範囲で回転調整する。これにより、２θ＝０°の位
置が決定する。
【００１３】次に、図３の（Ｃ）に示すように、試料台
１４に半割治具４６を取り付けて、試料台１４の回転角
度をθ＝０°付近にもってくる。そして、Ｘ線検出強度
が最大になるように試料台１４を微小角度範囲で回転調
整する。これにより、θ＝０°の位置が決定する。
１４に半割治具４６を取り付けて、試料台１４の回転角
度をθ＝０°付近にもってくる。そして、Ｘ線検出強度
が最大になるように試料台１４を微小角度範囲で回転調
整する。これにより、θ＝０°の位置が決定する。
【００１４】次に、図３の（Ｄ）に示すように、モノク
ロメ−タ回転台４８にスリット５０を取り付けて、モノ
クロメ−タ回転台４８の回転角度をθｍ＝０°付近にも
ってくる。このときは、まだモノクロメ−タ６は外した
ままである。そして、Ｘ線検出強度が最大になるように
モノクロメ−タ回転台４８を微小角度範囲で回転調整す
る。これにより、θｍ＝０°の位置が決定する。その
後、モノクロメ−タ６を取り付ける。モノクロメ−タ結
晶が湾曲型の場合は、以上のような調整となる。モノク
ロメ−タ結晶が平板型の場合は、モノクロメ−タの結晶
表面を半割治具の代わりに使用してもよく、この場合
は、スリット５０は使わずにθｍ＝０°の調整ができ
る。
ロメ−タ回転台４８にスリット５０を取り付けて、モノ
クロメ−タ回転台４８の回転角度をθｍ＝０°付近にも
ってくる。このときは、まだモノクロメ−タ６は外した
ままである。そして、Ｘ線検出強度が最大になるように
モノクロメ−タ回転台４８を微小角度範囲で回転調整す
る。これにより、θｍ＝０°の位置が決定する。その
後、モノクロメ−タ６を取り付ける。モノクロメ−タ結
晶が湾曲型の場合は、以上のような調整となる。モノク
ロメ−タ結晶が平板型の場合は、モノクロメ−タの結晶
表面を半割治具の代わりに使用してもよく、この場合
は、スリット５０は使わずにθｍ＝０°の調整ができ
る。
【００１５】ここまでの手順は、従来のＸ線回折装置に
おけるセッティング方法と同じである。本発明の特徴
は、以下の手順にある。
おけるセッティング方法と同じである。本発明の特徴
は、以下の手順にある。
【００１６】次に、スリット５０と発散スリット１２を
外して、図４の（Ｅ）に示すように、ゴニオメ−タ回転
台を２θｍだけ回転させる。その際、図１と図２に示す
ようにスリットボックス１８を試料台１４上に移動して
おく。一般に、モノクロメ−タ６の結晶表面はゴニオメ
−タ回転台の回転中心２６からずれているので、ゴニオ
メ−タ回転台を２θｍ回転させただけでは、モノクロメ
−タ６からの回折Ｘ線は受光スリット２２を通過しな
い。そこで、ゴニオメ−タ回転台を微小角度範囲で回転
調整することによって、Ｘ線検出強度が最大になるよう
にする。これにより、モノクロメ−タ６からの回折Ｘ線
が受光スリット２２を通過するようになる。このとき、
ゴニオメ−タ回転台の回転角度は（２θｍ＋Δθｍ）と
なる。
外して、図４の（Ｅ）に示すように、ゴニオメ−タ回転
台を２θｍだけ回転させる。その際、図１と図２に示す
ようにスリットボックス１８を試料台１４上に移動して
おく。一般に、モノクロメ−タ６の結晶表面はゴニオメ
−タ回転台の回転中心２６からずれているので、ゴニオ
メ−タ回転台を２θｍ回転させただけでは、モノクロメ
−タ６からの回折Ｘ線は受光スリット２２を通過しな
い。そこで、ゴニオメ−タ回転台を微小角度範囲で回転
調整することによって、Ｘ線検出強度が最大になるよう
にする。これにより、モノクロメ−タ６からの回折Ｘ線
が受光スリット２２を通過するようになる。このとき、
ゴニオメ−タ回転台の回転角度は（２θｍ＋Δθｍ）と
なる。
【００１７】次に、図４の（Ｆ）に示すように、スリッ
トボックス１８を本来の位置に戻し、かつ、発散スリッ
ト１２をゴニオメ−タ基台に取り付ける。そして、試料
台の回転中心４４の回りにゴニオメ−タ基台を微小回転
させることによって、Ｘ線検出強度が最大になるように
する。これにより、モノクロメ−タ６からの回折Ｘ線が
発散スリット１２と受光スリット２２を通過するように
なる。このとき、モノクロメ−タ６からの回折Ｘ線は、
試料台の回転中心４４も通過する。というのは、試料台
の回転中心４４の回りにゴニオメ−タ基台を回転させた
からである。
トボックス１８を本来の位置に戻し、かつ、発散スリッ
ト１２をゴニオメ−タ基台に取り付ける。そして、試料
台の回転中心４４の回りにゴニオメ−タ基台を微小回転
させることによって、Ｘ線検出強度が最大になるように
する。これにより、モノクロメ−タ６からの回折Ｘ線が
発散スリット１２と受光スリット２２を通過するように
なる。このとき、モノクロメ−タ６からの回折Ｘ線は、
試料台の回転中心４４も通過する。というのは、試料台
の回転中心４４の回りにゴニオメ−タ基台を回転させた
からである。
【００１８】以上の作業により、モノクロメ−タ６から
の回折Ｘ線が、発散スリット１２と試料台の回転中心４
４と受光スリット２２とを通過するようになった。最後
に、散乱スリット２４をスリットボックス１８に取り付
ける。
の回折Ｘ線が、発散スリット１２と試料台の回転中心４
４と受光スリット２２とを通過するようになった。最後
に、散乱スリット２４をスリットボックス１８に取り付
ける。
【００１９】以上の説明から明らかなように、モノクロ
メ−タ６からの回折Ｘ線が発散スリット１２と受光スリ
ット２２とを通過するようにするための調整、すなわ
ち、図４の（Ｅ）（Ｆ）に示す調整では、ゴニオメ−タ
回転台の回転と、ゴニオメ−タ基台の回転だけを必要と
し、それ以外の移動を必要としない。すなわち、モノク
ロメ−タをその結晶表面に垂直な方向に移動させたり、
ゴニオメ−タ回転台をその光軸に垂直な方向に移動させ
たりする作業がいらなくなる。
メ−タ６からの回折Ｘ線が発散スリット１２と受光スリ
ット２２とを通過するようにするための調整、すなわ
ち、図４の（Ｅ）（Ｆ）に示す調整では、ゴニオメ−タ
回転台の回転と、ゴニオメ−タ基台の回転だけを必要と
し、それ以外の移動を必要としない。すなわち、モノク
ロメ−タをその結晶表面に垂直な方向に移動させたり、
ゴニオメ−タ回転台をその光軸に垂直な方向に移動させ
たりする作業がいらなくなる。
【００２０】この実施例では、ゴニオメ−タ基台の回転
中心と試料台の回転中心とが一致しているので、受光ス
リットを試料台の回転中心の位置に一時的に移動するこ
とによってセッティングを行っている。これに対して、
ゴニオメ−タ基台の回転中心が試料台の回転中心と一致
していない場合には、次のようにする。ゴニオメ−タ基
台の回転中心が発散スリットと受光スリットとを結ぶ直
線上の任意の位置にある場合は、受光スリットをゴニオ
メ−タ基台の回転中心の位置（試料台の回転中心の位置
とは異なっている。）に一時的に移動することによっ
て、上述の実施例と同様のセッティング作業を行うこと
ができる。
中心と試料台の回転中心とが一致しているので、受光ス
リットを試料台の回転中心の位置に一時的に移動するこ
とによってセッティングを行っている。これに対して、
ゴニオメ−タ基台の回転中心が試料台の回転中心と一致
していない場合には、次のようにする。ゴニオメ−タ基
台の回転中心が発散スリットと受光スリットとを結ぶ直
線上の任意の位置にある場合は、受光スリットをゴニオ
メ−タ基台の回転中心の位置（試料台の回転中心の位置
とは異なっている。）に一時的に移動することによっ
て、上述の実施例と同様のセッティング作業を行うこと
ができる。
【００２１】
【発明の効果】本発明のセッティング方法は、ゴニオメ
−タ基台の回転中心上に受光スリットを一時的に移動す
ることによってモノクロメ−タからのＸ線を検出し、そ
の後、受光スリットを本来の位置に戻してゴニオメ−タ
基台を回転させるようにしたので、モノクロメ−タの結
晶表面がゴニオメ−タ回転台の回転中心からずれている
場合でも、モノクロメ−タをその結晶表面に垂直な方向
に移動させたり、ゴニオメ−タ回転台をその光軸に垂直
な方向に移動させたりせずに、セッティング作業を完了
することができる。
−タ基台の回転中心上に受光スリットを一時的に移動す
ることによってモノクロメ−タからのＸ線を検出し、そ
の後、受光スリットを本来の位置に戻してゴニオメ−タ
基台を回転させるようにしたので、モノクロメ−タの結
晶表面がゴニオメ−タ回転台の回転中心からずれている
場合でも、モノクロメ−タをその結晶表面に垂直な方向
に移動させたり、ゴニオメ−タ回転台をその光軸に垂直
な方向に移動させたりせずに、セッティング作業を完了
することができる。
【図１】本発明のセッティング方法で使用するスリット
ボックスと試料台との取り付け関係の一例を示す斜視図
である。
ボックスと試料台との取り付け関係の一例を示す斜視図
である。
【図２】図１に示すスリットボックスと試料台との位置
関係を示す平面図である。
関係を示す平面図である。
【図３】本発明のセッティング方法の実施例の手順を示
す平面図である。
す平面図である。
【図４】本発明のセッティング方法の実施例の手順の続
きを示す平面図である。
きを示す平面図である。
【図５】本発明を適用するＸ線回折装置の平面図であ
る。
る。
【図６】従来のセッティング方法の問題点を示す平面図
である。
である。
２ Ｘ線源 ４ 試料 ６ モノクロメ−タ ８ ゴニオメ−タ回転台 １０ ゴニオメ−タ基台 １２ 発散スリット １４ 試料台 １６ 検出器回転台 １８ スリットボックス ２０ Ｘ線検出器 ２２ 受光スリット ４４ 試料台の回転中心
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｘ線源と、このＸ線源と試料との間に配
置したモノクロメ−タと、モノクロメ−タの回転中心の
回りに回転可能なゴニオメ−タ回転台と、ゴニオメ−タ
回転台に回転可能に設けたゴニオメ−タ基台と、ゴニオ
メ−タ基台に設けた発散スリットと、ゴニオメ−タ基台
に回転可能に設けた試料台と、ゴニオメ−タ基台に回転
可能に設けた検出器回転台と、検出器回転台に設けた受
光スリットと、検出器回転台に設けたＸ線検出器とを備
えるＸ線回折装置のセッティング方法において、 発散スリットと受光スリットを結ぶ直線上にゴニオメ−
タ基台の回転中心を配置しておき、ゴニオメ−タ基台の
回転中心上に受光スリットを一時的に移動することによ
ってモノクロメ−タからのＸ線を検出し、その後、受光
スリットを本来の位置に戻して、モノクロメ−タからの
Ｘ線が発散スリットと受光スリットとを通過するように
ゴニオメ−タ基台を回転させることを特徴とするＸ線回
折装置のセッティング方法。 - 【請求項２】 ゴニオメ−タ基台の回転中心と試料台の
回転中心とを一致させることを特徴とする請求項１記載
のセッティング方法。 - 【請求項３】 受光スリットを取り付けたスリットボッ
クスを一時的に試料台上に移動するようにしたことを特
徴とする請求項２記載のセッティング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28115892A JPH06109668A (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | Ｘ線回折装置のセッティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28115892A JPH06109668A (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | Ｘ線回折装置のセッティング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06109668A true JPH06109668A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=17635167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28115892A Pending JPH06109668A (ja) | 1992-09-28 | 1992-09-28 | Ｘ線回折装置のセッティング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06109668A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010117368A (ja) * | 2010-02-18 | 2010-05-27 | Shimadzu Corp | Ｘ線回折装置及びｘ線調整方法 |
-
1992
- 1992-09-28 JP JP28115892A patent/JPH06109668A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010117368A (ja) * | 2010-02-18 | 2010-05-27 | Shimadzu Corp | Ｘ線回折装置及びｘ線調整方法 |
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