JPS60211341A - Ｘ線二結晶回折装置 - Google Patents
Ｘ線二結晶回折装置Info
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- JPS60211341A JPS60211341A JP59068019A JP6801984A JPS60211341A JP S60211341 A JPS60211341 A JP S60211341A JP 59068019 A JP59068019 A JP 59068019A JP 6801984 A JP6801984 A JP 6801984A JP S60211341 A JPS60211341 A JP S60211341A
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- JP
- Japan
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- sample
- ray
- monochromator
- rotation
- inspected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 14
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 abstract 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Pathology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、Ｘ線二結晶回折装置に関する。
（従来技術とその問題点）
Ｘ＃二結晶回折法は、数分ないし数ｆ分の空間的発散角
を有する特性Ｘ線を結晶性のよいモノクロメータ単結晶
（以下モノクロメータと称する）に入射せしめ、かつ目
的とする回折面に対するブラッグ条件を満足させて得ら
れる、空間的発散角が数ないし数ｆ秒の出射ビームを、
被検査試料である第二の単結晶（以下、試料と称す）に
入射せしめ、上記モノクロメータに対するブラッグ条件
と同一のブラッグ条件を満足するようｌこ入射角を設定
することにより、試料からの出射ビームの強度の角度分
布を測定することζこより試料の結晶性を評価する方法
である。
を有する特性Ｘ線を結晶性のよいモノクロメータ単結晶
（以下モノクロメータと称する）に入射せしめ、かつ目
的とする回折面に対するブラッグ条件を満足させて得ら
れる、空間的発散角が数ないし数ｆ秒の出射ビームを、
被検査試料である第二の単結晶（以下、試料と称す）に
入射せしめ、上記モノクロメータに対するブラッグ条件
と同一のブラッグ条件を満足するようｌこ入射角を設定
することにより、試料からの出射ビームの強度の角度分
布を測定することζこより試料の結晶性を評価する方法
である。
上記のＸ＠＝結晶回折法において、モノクロメータ及び
試料の双方、特に試料を所定の沿直な回転軸のまわりで
、高精産に回転する機構が必要であり、かつ、モノクロ
メータからの出射ビーム、丁なわち試料への入射ビーム
は、該試料の回転軸を通るように、モノクロメータ及び
試料が、空間的に設置されなければならない。モノクロ
メータ及び試料の回転機構は市ｔＳされており、０．０
１秒才たはそれ以下の回転精度を達成している。
試料の双方、特に試料を所定の沿直な回転軸のまわりで
、高精産に回転する機構が必要であり、かつ、モノクロ
メータからの出射ビーム、丁なわち試料への入射ビーム
は、該試料の回転軸を通るように、モノクロメータ及び
試料が、空間的に設置されなければならない。モノクロ
メータ及び試料の回転機構は市ｔＳされており、０．０
１秒才たはそれ以下の回転精度を達成している。
上記Ｘ線二結晶回折法を実施するにあたっては、モノク
ロメータからの出射ビーム、即ち試料への入射ビームが
、該試料の被検査表面を通過すること、即ち、被検査面
を通る試料回転軸を正確に通過することが肝要で、これ
が達成されないと、試料の入射ビームが試料中心に照射
されず、得られるロッキングカーブの信頼性が問題とな
る。
ロメータからの出射ビーム、即ち試料への入射ビームが
、該試料の被検査表面を通過すること、即ち、被検査面
を通る試料回転軸を正確に通過することが肝要で、これ
が達成されないと、試料の入射ビームが試料中心に照射
されず、得られるロッキングカーブの信頼性が問題とな
る。
従来、特性Ｘ線を発生する光源と、モノクロメータを支
持する回転機構と、試料を回転する回転機構とはそれぞ
れ別個に配置されており、上記のＸ線二結晶回折条件が
満足されるように、微細に空間的配置を行うことは容易
なことではなかった。
持する回転機構と、試料を回転する回転機構とはそれぞ
れ別個に配置されており、上記のＸ線二結晶回折条件が
満足されるように、微細に空間的配置を行うことは容易
なことではなかった。
即ち、通常は、Ｘ線光源からのＸ線束（水平面内の角度
広がりは数分程度）をモノクロメータに入射せしめ、所
望の反射面でブラッグ＊件を満足させ、然る後に、モノ
クロメータからの出射ビームの線束中・Ｕに、被検査試
料の回転中心を設置Ｖしめることが必要である。
広がりは数分程度）をモノクロメータに入射せしめ、所
望の反射面でブラッグ＊件を満足させ、然る後に、モノ
クロメータからの出射ビームの線束中・Ｕに、被検査試
料の回転中心を設置Ｖしめることが必要である。
しかるに、被検査試料を高精度（０，１〜０．０１秒）
に回転させる回転機構を含む試料保持糸全体を移動させ
て上記の空間的設置を行うことは、該試料保持系の重量
が大きい（２０に９以上）ことから実際上困難である。
に回転させる回転機構を含む試料保持糸全体を移動させ
て上記の空間的設置を行うことは、該試料保持系の重量
が大きい（２０に９以上）ことから実際上困難である。
（発明の目的）
本発明の目的は、上記のＸ線二結晶法において、試料保
持系を容易に移動させ、モノクロメータからの出射ビー
ムの線束中心に被検査試料の回転中心を合致させる機構
を含むＸ線二結晶回折装置を提供することにある。
持系を容易に移動させ、モノクロメータからの出射ビー
ムの線束中心に被検査試料の回転中心を合致させる機構
を含むＸ線二結晶回折装置を提供することにある。
（実施例）
本発明によるＸ線二結晶回折装置の構成を図面を用いて
説明Ｔる。
説明Ｔる。
第１図は、本発明の実施例を示す概略図で（ａ）は平面
図、Φ）は側面図である。Ｘ線光源ｌから発生した光源
Ｘ線束２をモノクロメータ３１こ入射させる。モノクロ
メータ３は、空間的に固定されたモノクロメータ回転軸
４のまわり曇こ精密かつ自由に回転できる機構の上ｌこ
設置されている。また光源Ｘ線束２及びモノクロメータ
３からの出射ビーム（以後、試料Ｘ線束という）５のみ
を通過せしめる光源Ｘ線束スリット６及び試料Ｘ線束ス
リット７は、モノクロメータ回転軸のまわりに回転でき
る機構を有する。
図、Φ）は側面図である。Ｘ線光源ｌから発生した光源
Ｘ線束２をモノクロメータ３１こ入射させる。モノクロ
メータ３は、空間的に固定されたモノクロメータ回転軸
４のまわり曇こ精密かつ自由に回転できる機構の上ｌこ
設置されている。また光源Ｘ線束２及びモノクロメータ
３からの出射ビーム（以後、試料Ｘ線束という）５のみ
を通過せしめる光源Ｘ線束スリット６及び試料Ｘ線束ス
リット７は、モノクロメータ回転軸のまわりに回転でき
る機構を有する。
実施例のＸ線二結晶回折法は、（十、−）配置の例を示
したものであるが、被検査試料８は試料回転軸９のまわ
りに高精度で回転する微小回転駆動機構１０を含む試料
保持糸１１の上に設置されている。該被検査試料８の表
面中心に対して、試料Ｘ線束５が照射されるべ（、試料
保持糸１１を空間的に移動させるために、試料保持系１
１を、試料保持系支持台に相対的に固定させ、かつ該試
料保持糸支持台１２を前記モノクロメータ回転軸４のま
わりに回転させる。
したものであるが、被検査試料８は試料回転軸９のまわ
りに高精度で回転する微小回転駆動機構１０を含む試料
保持糸１１の上に設置されている。該被検査試料８の表
面中心に対して、試料Ｘ線束５が照射されるべ（、試料
保持糸１１を空間的に移動させるために、試料保持系１
１を、試料保持系支持台に相対的に固定させ、かつ該試
料保持糸支持台１２を前記モノクロメータ回転軸４のま
わりに回転させる。
本発明の骨子は、試料保持糸１１が前記のような試料保
持系支持台１２の上に固定されていることである。この
ような試料保持系支持台１２をモノクロメータ回転軸４
のまわりに回転することによって、被検査試料８の表面
中心に、試料ｘ３束５の光軸を正確に一致させモノクロ
メータ３からの試料Ｘ線束を被検査試料８に照射させる
ことができる。
持系支持台１２の上に固定されていることである。この
ような試料保持系支持台１２をモノクロメータ回転軸４
のまわりに回転することによって、被検査試料８の表面
中心に、試料ｘ３束５の光軸を正確に一致させモノクロ
メータ３からの試料Ｘ線束を被検査試料８に照射させる
ことができる。
然る後ｔこ、試料保持糸１１の中に含まれる微小回転駆
動機構１０によって被検査試料８を、試料回転軸９のま
わりで所望のブラッグ角の近傍で微小に回転せしめるこ
とによって、反射Ｘ線束１３か得られ、この強度を試料
回転軸のまわりに設置されたＸ＃ｉ！カウンター１４で
測定することによってＸ線二結晶ロッキングカーブが得
られる。
動機構１０によって被検査試料８を、試料回転軸９のま
わりで所望のブラッグ角の近傍で微小に回転せしめるこ
とによって、反射Ｘ線束１３か得られ、この強度を試料
回転軸のまわりに設置されたＸ＃ｉ！カウンター１４で
測定することによってＸ線二結晶ロッキングカーブが得
られる。
ここで重要なことは、試料保持系支持台１２をモノクロ
メータ回転軸４のまわりで回転するとき、モノクロメー
タ３及び、光源Ｘ線束スリット６及び試料ＸＩｆｓ東ス
リット７が同時に回転しないような機構でなければなら
ないことである。なお、第１図の実施例では、試料保持
系支持台１２は、重量の大きな試料保持糸１１を支持し
ていることから、これがモノクロメータ回転軸４のまわ
りでスムースに回転するよう滑車１５を下部に設置し、
また、Ｘ線光源ｌもモノクロメータ回転軸４のまわりｌ
こ回転する機構を持たせであるが、後者のＸ線光源ｌの
回転については必ずしも本発明ｌこ欠かせない構成要件
ではない。
メータ回転軸４のまわりで回転するとき、モノクロメー
タ３及び、光源Ｘ線束スリット６及び試料ＸＩｆｓ東ス
リット７が同時に回転しないような機構でなければなら
ないことである。なお、第１図の実施例では、試料保持
系支持台１２は、重量の大きな試料保持糸１１を支持し
ていることから、これがモノクロメータ回転軸４のまわ
りでスムースに回転するよう滑車１５を下部に設置し、
また、Ｘ線光源ｌもモノクロメータ回転軸４のまわりｌ
こ回転する機構を持たせであるが、後者のＸ線光源ｌの
回転については必ずしも本発明ｌこ欠かせない構成要件
ではない。
Claims (1)
- 試料回転軸を含む試料保持糸が、モノクロメータ回転軸
のまわりでモノクロメータとは独立に回転する構造を有
することを特徴とＴるＸ線二結晶回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59068019A JPS60211341A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | Ｘ線二結晶回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59068019A JPS60211341A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | Ｘ線二結晶回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211341A true JPS60211341A (ja) | 1985-10-23 |
Family
ID=13361685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59068019A Pending JPS60211341A (ja) | 1984-04-05 | 1984-04-05 | Ｘ線二結晶回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211341A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6486100A (en) * | 1987-09-29 | 1989-03-30 | Rigaku Denki Co Ltd | X-ray monochromator |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4976570A (ja) * | 1972-10-18 | 1974-07-24 | ||
| JPS5015282B1 (ja) * | 1970-12-11 | 1975-06-04 |
-
1984
- 1984-04-05 JP JP59068019A patent/JPS60211341A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5015282B1 (ja) * | 1970-12-11 | 1975-06-04 | ||
| JPS4976570A (ja) * | 1972-10-18 | 1974-07-24 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6486100A (en) * | 1987-09-29 | 1989-03-30 | Rigaku Denki Co Ltd | X-ray monochromator |
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