JPH06111299A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH06111299A JPH06111299A JP4259566A JP25956692A JPH06111299A JP H06111299 A JPH06111299 A JP H06111299A JP 4259566 A JP4259566 A JP 4259566A JP 25956692 A JP25956692 A JP 25956692A JP H06111299 A JPH06111299 A JP H06111299A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録再生機器に使用される磁気テープに
おいて、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体の
信頼性と電磁変換特性のバランスを改善した磁気記録媒
体の製造方法の提供を目的とする。 【構成】 磁性膜上に炭素原子を照射することで磁気記
録層と強固に付着したダイヤモンド状硬質炭素膜を構成
させることにより、ヘッド摺動面を良好な状態に保ちな
がら高密度記録再生を繰り返し行える磁気記録媒体が大
量に得られる。
おいて、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体の
信頼性と電磁変換特性のバランスを改善した磁気記録媒
体の製造方法の提供を目的とする。 【構成】 磁性膜上に炭素原子を照射することで磁気記
録層と強固に付着したダイヤモンド状硬質炭素膜を構成
させることにより、ヘッド摺動面を良好な状態に保ちな
がら高密度記録再生を繰り返し行える磁気記録媒体が大
量に得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高密度磁気記録に適する
強磁性金属薄膜を磁性層とする耐久性に優れた磁気記録
媒体の製造方法に関するものである。
強磁性金属薄膜を磁性層とする耐久性に優れた磁気記録
媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、記録すべき情
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化，狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。多くの提案がなされているが、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ
斜め蒸着膜、Ｃｏ−Ｏ垂直磁化膜に代表される強磁性金
属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体が有望である。
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化，狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。多くの提案がなされているが、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ
斜め蒸着膜、Ｃｏ−Ｏ垂直磁化膜に代表される強磁性金
属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体が有望である。
【０００３】以下に従来の磁気記録媒体について説明す
る。図３は従来の磁気記録媒体の拡大断面を示すもので
ある。図３において１はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムでＳｉＯ
2，ＺｎＯ等の無機超微粒子やイミド等の有機超微粒子
等を分散塗布したいわゆる微粒子塗布層を配したものが
用いられることが多い。２は連続的に変化する入射角で
の斜め蒸着で形成されるＣｏ−Ｎｉ−Ｏの単層または多
層構成の強磁性金属薄膜、Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｏの傾斜
蒸着による垂直磁化膜等の磁性層で、３はダイヤモンド
状硬質炭素膜等の保護膜、４は脂肪酸、フッ素オイル等
の潤滑層で、５は平滑性の良好な、特に薄い磁気テープ
に良くみられるバックコート層である。以上のような構
成の磁気記録媒体において磁性層の形成は、回転キャン
や回転ベルトに沿って移動する、別工程にて溶液塗布法
で微粒子塗布層を形成された高分子フィルム上に酸素雰
囲気でＣｏ，Ｃｏ−Ｎｉ等をある範囲の入射角で電子ビ
ーム蒸着することによる場合が多い。硬質炭素膜は主に
ディスク状媒体において活発に利用されていて、まだ磁
気テープへの具体的な応用事例は少ないが、製造に当た
っては磁気テープに於いても磁気ディスクに於いて開示
されている技術を、そのままか若干の修正を加える程度
で当てはめることが可能である。プラズマＣＶＤ法によ
る製膜（例えば特開昭６１−５４０３６号公報）電子ビ
ーム蒸着法（例えば特開昭６１−２２４１４０号公
報）、スパッタリング法（例えば特開昭６２−２６４４
３２号公報）クラスターイオン蒸着法（例えば特開昭６
４−３３７２２号公報）等による製膜が検討されてきて
いる。これらに共通しているのは炭素イオンや電子のエ
ネルギーをある程度高めている点であろう。
る。図３は従来の磁気記録媒体の拡大断面を示すもので
ある。図３において１はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート等の高分子フィルムでＳｉＯ
2，ＺｎＯ等の無機超微粒子やイミド等の有機超微粒子
等を分散塗布したいわゆる微粒子塗布層を配したものが
用いられることが多い。２は連続的に変化する入射角で
の斜め蒸着で形成されるＣｏ−Ｎｉ−Ｏの単層または多
層構成の強磁性金属薄膜、Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｏの傾斜
蒸着による垂直磁化膜等の磁性層で、３はダイヤモンド
状硬質炭素膜等の保護膜、４は脂肪酸、フッ素オイル等
の潤滑層で、５は平滑性の良好な、特に薄い磁気テープ
に良くみられるバックコート層である。以上のような構
成の磁気記録媒体において磁性層の形成は、回転キャン
や回転ベルトに沿って移動する、別工程にて溶液塗布法
で微粒子塗布層を形成された高分子フィルム上に酸素雰
囲気でＣｏ，Ｃｏ−Ｎｉ等をある範囲の入射角で電子ビ
ーム蒸着することによる場合が多い。硬質炭素膜は主に
ディスク状媒体において活発に利用されていて、まだ磁
気テープへの具体的な応用事例は少ないが、製造に当た
っては磁気テープに於いても磁気ディスクに於いて開示
されている技術を、そのままか若干の修正を加える程度
で当てはめることが可能である。プラズマＣＶＤ法によ
る製膜（例えば特開昭６１−５４０３６号公報）電子ビ
ーム蒸着法（例えば特開昭６１−２２４１４０号公
報）、スパッタリング法（例えば特開昭６２−２６４４
３２号公報）クラスターイオン蒸着法（例えば特開昭６
４−３３７２２号公報）等による製膜が検討されてきて
いる。これらに共通しているのは炭素イオンや電子のエ
ネルギーをある程度高めている点であろう。
【０００４】以上のように構成された磁気記録媒体は、
ダイヤモンド状硬質炭素膜の硬さと相手との摩擦特性に
より、磁気ヘッド、テープ間の高速相対速度下での繰り
返し摺動にかなり耐えることができる。それでも不十分
な場合は更に、強磁性金属薄膜との接着性向上を図り、
ビデオテープとしてのスチル耐久性を改善するためにＳ
ｉＯ2膜を介してアモルファスカーボン膜を配したもの
（特開昭６１−２４２３２３号公報）有機プラズマ重合
膜を介してアモルファスカーボン膜を配したもの（特開
昭６２−１６７６１６号公報）炭化ホー素膜を介して炭
素膜を配したもの（特開昭６４−７９９３２号公報）等
が提案されている。
ダイヤモンド状硬質炭素膜の硬さと相手との摩擦特性に
より、磁気ヘッド、テープ間の高速相対速度下での繰り
返し摺動にかなり耐えることができる。それでも不十分
な場合は更に、強磁性金属薄膜との接着性向上を図り、
ビデオテープとしてのスチル耐久性を改善するためにＳ
ｉＯ2膜を介してアモルファスカーボン膜を配したもの
（特開昭６１−２４２３２３号公報）有機プラズマ重合
膜を介してアモルファスカーボン膜を配したもの（特開
昭６２−１６７６１６号公報）炭化ホー素膜を介して炭
素膜を配したもの（特開昭６４−７９９３２号公報）等
が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、炭素膜が薄くなると耐久性が十分ではな
くなり、その現象は磁気記録媒体の厚みが薄くなるほど
顕著になる。特に狭トラック化による記録密度向上の為
には高出力で耐久性の良好な磁気記録媒体が必要であ
り、炭素膜の膜厚を厚くして耐久性を向上させてもＳ／
Ｎ比が低下することから高密度化が不十分となるといっ
た問題点を有していた。
来の構成では、炭素膜が薄くなると耐久性が十分ではな
くなり、その現象は磁気記録媒体の厚みが薄くなるほど
顕著になる。特に狭トラック化による記録密度向上の為
には高出力で耐久性の良好な磁気記録媒体が必要であ
り、炭素膜の膜厚を厚くして耐久性を向上させてもＳ／
Ｎ比が低下することから高密度化が不十分となるといっ
た問題点を有していた。
【０００６】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、狭トラック高密度記録を可能にする、耐久性と高出
力特性を兼ね備えた薄型の磁気記録媒体の製造方法を提
供することを目的とする。
で、狭トラック高密度記録を可能にする、耐久性と高出
力特性を兼ね備えた薄型の磁気記録媒体の製造方法を提
供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁性薄膜上に炭
素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を形成するもの
である。
に本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁性薄膜上に炭
素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を形成するもの
である。
【０００８】
【作用】この構成によって磁性層と炭素が強固に付着す
ると共に炭素膜自体の機械特性が硬さだけでなく、微視
的に均一性が優れることから炭素膜の厚みを薄くしても
十分な耐久性と高Ｓ／Ｎ比を兼ね備えた薄型の磁気記録
媒体を再現よく製造できる。
ると共に炭素膜自体の機械特性が硬さだけでなく、微視
的に均一性が優れることから炭素膜の厚みを薄くしても
十分な耐久性と高Ｓ／Ｎ比を兼ね備えた薄型の磁気記録
媒体を再現よく製造できる。
【０００９】
（実施例１）以上の本発明の一実施例について、図面を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
【００１０】図１において、６は保護膜形成用の原反で
ポリエステルフィルム（表面処理して微細凹凸形状を付
与したものを含む）上に電子ビーム蒸着法で磁性薄膜を
記録層として構成したもので、記録層は斜め磁化，垂直
磁化、両者の積層体等いずれでもよい。７は原反の送り
出し軸で８は保護膜を形成した状態の原反の巻取り軸で
ある。この図は保護膜形成のみを行うことを目的とした
装置の要部構成を示すものであるが、潤滑層の形成を真
空中で保護膜形成直後に行っても良いのは勿論である。
９は回転支持体で、冷却可能な構成とするのが好まし
い。１０は炭素原子の照射ノズルで、炭化水素のプラズ
マや炭素電極間のアーク放電から炭素イオンを引き出し
て電子シャワーで中性化して荷電粒子と磁場で分離して
活性な炭素原子を磁性薄膜表面に差し向けるように構成
すれば良いがこれに限るものでないことは勿論である。
ポリエステルフィルム（表面処理して微細凹凸形状を付
与したものを含む）上に電子ビーム蒸着法で磁性薄膜を
記録層として構成したもので、記録層は斜め磁化，垂直
磁化、両者の積層体等いずれでもよい。７は原反の送り
出し軸で８は保護膜を形成した状態の原反の巻取り軸で
ある。この図は保護膜形成のみを行うことを目的とした
装置の要部構成を示すものであるが、潤滑層の形成を真
空中で保護膜形成直後に行っても良いのは勿論である。
９は回転支持体で、冷却可能な構成とするのが好まし
い。１０は炭素原子の照射ノズルで、炭化水素のプラズ
マや炭素電極間のアーク放電から炭素イオンを引き出し
て電子シャワーで中性化して荷電粒子と磁場で分離して
活性な炭素原子を磁性薄膜表面に差し向けるように構成
すれば良いがこれに限るものでないことは勿論である。
【００１１】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に磁気記録媒体を試作し、従来法で得ら
れたものと特性比較を行った結果について詳しく述べ
る。
るために具体的に磁気記録媒体を試作し、従来法で得ら
れたものと特性比較を行った結果について詳しく述べ
る。
【００１２】厚み６．８μｍで、長手方向，幅方向夫々
５４０、５９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径１５
０ÅのＳｉＯ2の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を
直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き
取りながら酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁
性層を０．１８μ形成した。磁性層のタイプとして入射
角４０〜１２度の成分で得たいわゆる垂直磁化膜（タイ
プａ）、入射角９０〜３５度の成分で得たいわゆる斜め
蒸着膜（タイプｂ）の２種類を準備した。磁性層の上
に、炭素原子によって１５Å／ｓｅｃでダイヤモンド状
硬質炭素膜を７０Å形成したものと、同じくダイヤモン
ド状硬質炭素膜を１２０Å形成したものを準備した。従
来例としてメタンガスを高周波放電でイオン化して炭素
膜を形成するプラズマＣＤＶ法でダイヤモンド状炭素膜
を１２０Å配したものと２２０Å配したものを準備し
た。それぞれ炭素膜の上に更に潤滑剤としてパーフルオ
ロポリエーテルを４０Å溶液塗布法で配し、バックコー
ト層を０．４５μｍ形成し８mm幅の磁気テープを試作し
て特性比較した。夫々の磁気テープの特性比較は、ハイ
バンド８ミリビデオデッキを改造して記録波長０．４７
μｍ，トラックピッチ９μｍでＳ／Ｎ比の相対比較で行
った。磁気テープの長さは１００ｍとし、ランダムに５
巻選び出して５巻の平均値で表示した。スチル特性はテ
ンションを２５ｇに増加させて４０℃、５％ＲＨで比較
した。本実施例による磁気記録媒体の特性と比較例の磁
気記録媒体の特性を（表１）に比較して示している。
５４０、５９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径１５
０ÅのＳｉＯ2の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を
直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き
取りながら酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁
性層を０．１８μ形成した。磁性層のタイプとして入射
角４０〜１２度の成分で得たいわゆる垂直磁化膜（タイ
プａ）、入射角９０〜３５度の成分で得たいわゆる斜め
蒸着膜（タイプｂ）の２種類を準備した。磁性層の上
に、炭素原子によって１５Å／ｓｅｃでダイヤモンド状
硬質炭素膜を７０Å形成したものと、同じくダイヤモン
ド状硬質炭素膜を１２０Å形成したものを準備した。従
来例としてメタンガスを高周波放電でイオン化して炭素
膜を形成するプラズマＣＤＶ法でダイヤモンド状炭素膜
を１２０Å配したものと２２０Å配したものを準備し
た。それぞれ炭素膜の上に更に潤滑剤としてパーフルオ
ロポリエーテルを４０Å溶液塗布法で配し、バックコー
ト層を０．４５μｍ形成し８mm幅の磁気テープを試作し
て特性比較した。夫々の磁気テープの特性比較は、ハイ
バンド８ミリビデオデッキを改造して記録波長０．４７
μｍ，トラックピッチ９μｍでＳ／Ｎ比の相対比較で行
った。磁気テープの長さは１００ｍとし、ランダムに５
巻選び出して５巻の平均値で表示した。スチル特性はテ
ンションを２５ｇに増加させて４０℃、５％ＲＨで比較
した。本実施例による磁気記録媒体の特性と比較例の磁
気記録媒体の特性を（表１）に比較して示している。
【００１３】
【表１】
【００１４】この（表１）から明らかなように、本実施
例によって製造された磁気記録媒体は、狭トラック記録
での高密度記録で耐久性と高いＳ／Ｎ比を実現できると
いった優れた効果が得られる。
例によって製造された磁気記録媒体は、狭トラック記録
での高密度記録で耐久性と高いＳ／Ｎ比を実現できると
いった優れた効果が得られる。
【００１５】以上の様に本実施例の製造方法によれば、
磁性薄膜上に炭素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜
を形成することで狭トラック化した高密度記録で優れた
Ｓ／Ｎ比を繰り返し使用においても安定に保持しうる磁
気記録媒体を再現良く大量に得ることができる。
磁性薄膜上に炭素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜
を形成することで狭トラック化した高密度記録で優れた
Ｓ／Ｎ比を繰り返し使用においても安定に保持しうる磁
気記録媒体を再現良く大量に得ることができる。
【００１６】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。図２は本発明の第
２の実施例の磁気記録媒体の製造方法を実施するための
磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図２にお
いて図１と同一の構成要素で良い部分は同一の番号を付
与している。炭素原子照射ノズルと同様な構成の水素原
子照射ノズルを隣接配設した装置を用いれば良い。図２
において１１は炭素原子照射ノズルで１２は水素原子照
射ノズルである。照射領域は基本的に水素原子の照射領
域が炭素原子照射領域と同じか広くなる様に構成するの
が好ましい。
ついて図面を参照しながら説明する。図２は本発明の第
２の実施例の磁気記録媒体の製造方法を実施するための
磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図２にお
いて図１と同一の構成要素で良い部分は同一の番号を付
与している。炭素原子照射ノズルと同様な構成の水素原
子照射ノズルを隣接配設した装置を用いれば良い。図２
において１１は炭素原子照射ノズルで１２は水素原子照
射ノズルである。照射領域は基本的に水素原子の照射領
域が炭素原子照射領域と同じか広くなる様に構成するの
が好ましい。
【００１７】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に磁気記録媒体を試作し、従来法で得ら
れたものと特性比較を行った結果について詳しく述べ
る。
るために具体的に磁気記録媒体を試作し、従来法で得ら
れたものと特性比較を行った結果について詳しく述べ
る。
【００１８】厚み６．８μｍで、長手方向，幅方向夫々
５４０、５９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径１５
０ÅのＳｉＯ2の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を
直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き
取りながら酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁
性層を０．１８μ形成した。磁性層のタイプとして入射
角４０〜１２度の成分で得たいわゆる垂直磁化膜で実施
した。磁性層の上に、炭素原子と水素原子によってダイ
ヤモンド状硬質炭素膜を７０Å形成した。
５４０、５９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径１５
０ÅのＳｉＯ2の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を
直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き
取りながら酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁
性層を０．１８μ形成した。磁性層のタイプとして入射
角４０〜１２度の成分で得たいわゆる垂直磁化膜で実施
した。磁性層の上に、炭素原子と水素原子によってダイ
ヤモンド状硬質炭素膜を７０Å形成した。
【００１９】炭素原子を２×１０18原子／cm2，水素原
子を７×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ
２ａ），炭素原子を６×１０18原子／cm2，水素原子を
４×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ２
ｂ），炭素原子を６×１０17原子／cm2，水素原子を４
×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ２ｃ）
の３条件で実施した。
子を７×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ
２ａ），炭素原子を６×１０18原子／cm2，水素原子を
４×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ２
ｂ），炭素原子を６×１０17原子／cm2，水素原子を４
×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ２ｃ）
の３条件で実施した。
【００２０】従来例としてメタンガスを高周波放電でイ
オン化して炭素膜を形成するプラズマＣＶＤ法でダイヤ
モンド状炭素膜を１２０Å配したものと２２０Å配した
ものを準備した。それぞれ炭素膜の上に更に潤滑剤とし
てパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布法で配
し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅の磁気
テープを試作して特性比較した。夫々の磁気テープの特
性比較は、ハイバンド８ミリビデオデッキを改造して５
μトラック、ビット長０．２μのディジタル記録を行い
エラーレートを相対比較した。耐久性についても５℃，
８０％ＲＨで２００パス履歴を加えた後のエラーレート
で評価した。
オン化して炭素膜を形成するプラズマＣＶＤ法でダイヤ
モンド状炭素膜を１２０Å配したものと２２０Å配した
ものを準備した。それぞれ炭素膜の上に更に潤滑剤とし
てパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布法で配
し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅の磁気
テープを試作して特性比較した。夫々の磁気テープの特
性比較は、ハイバンド８ミリビデオデッキを改造して５
μトラック、ビット長０．２μのディジタル記録を行い
エラーレートを相対比較した。耐久性についても５℃，
８０％ＲＨで２００パス履歴を加えた後のエラーレート
で評価した。
【００２１】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
磁気記録媒体の特性を（表２）に比較して示している。
磁気記録媒体の特性を（表２）に比較して示している。
【００２２】
【表２】
【００２３】この（表２）から明らかなように、本実施
例による磁気記録媒体は、狭トラック条件での高密度デ
ィジタル記録を良好なエラー率で行うことができるとい
った優れた効果がある。
例による磁気記録媒体は、狭トラック条件での高密度デ
ィジタル記録を良好なエラー率で行うことができるとい
った優れた効果がある。
【００２４】以上のように本実施例によれば磁性膜上に
炭素原子と水素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を
形成することで炭素膜と磁性膜の付着強度が水素結合に
よって更に強固になり、微小部分でも均一で、ダイヤモ
ンド構造をとる結晶が多く占めるようになり薄く構成し
ても優れた保護効果を持ち、安定なＳ／Ｎ比を保ち、狭
トラックでのディジタル記録で良好なエラー率をくり返
し使用でも得ることができる磁気記録媒体が製造可能に
なる。
炭素原子と水素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を
形成することで炭素膜と磁性膜の付着強度が水素結合に
よって更に強固になり、微小部分でも均一で、ダイヤモ
ンド構造をとる結晶が多く占めるようになり薄く構成し
ても優れた保護効果を持ち、安定なＳ／Ｎ比を保ち、狭
トラックでのディジタル記録で良好なエラー率をくり返
し使用でも得ることができる磁気記録媒体が製造可能に
なる。
【００２５】（実施例３）以下本発明の第３の実施例に
ついて説明する。本発明の第３の実施例の磁気記録媒体
の製造方法を実施するために用いた磁気記録媒体の製造
装置は基本的に図２に示した物であって、炭素原子照射
ノズルと同様な構成の窒素原子照射ノズルを隣接配設し
た装置を用いれば良い。
ついて説明する。本発明の第３の実施例の磁気記録媒体
の製造方法を実施するために用いた磁気記録媒体の製造
装置は基本的に図２に示した物であって、炭素原子照射
ノズルと同様な構成の窒素原子照射ノズルを隣接配設し
た装置を用いれば良い。
【００２６】照射領域は基本的に窒素原子の照射領域が
炭素原子照射領域と同じか広くなる様に構成するのが好
ましい。
炭素原子照射領域と同じか広くなる様に構成するのが好
ましい。
【００２７】炭素と窒素の原子比率は窒素が炭素の０．
５〜４％の範囲が好ましいことからその範囲で実施する
のが望ましい。０．５％以下では後述する改善効果が少
なく、４％以上では膜がもろくなるためと推定されるヘ
ッドへの異物付着が見られる様になるからである。
５〜４％の範囲が好ましいことからその範囲で実施する
のが望ましい。０．５％以下では後述する改善効果が少
なく、４％以上では膜がもろくなるためと推定されるヘ
ッドへの異物付着が見られる様になるからである。
【００２８】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に磁気記録媒体を試作し、従来法で得ら
れたものと特性比較を行った結果について詳しく述べ
る。
るために具体的に磁気記録媒体を試作し、従来法で得ら
れたものと特性比較を行った結果について詳しく述べ
る。
【００２９】厚み５．５μｍで、長手方向，幅方向夫々
９４０、９９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのアラミドフィルム（直径１５０ÅのＳｉＯ2の超
微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹脂固定した塗布層
をあらかじめ配したものを用いた）を直径１ｍの２０℃
に冷却した回転キャンに沿わせて巻き取りながら酸素を
導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁性層を０．１８μ
形成した。磁性層のタイプとして入射角４０〜１２度の
成分で得たいわゆる垂直磁化膜で実施した。磁性層の上
に、炭素原子と窒素原子によってダイヤモンド状硬質炭
素膜を７０Å形成した。
９４０、９９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのアラミドフィルム（直径１５０ÅのＳｉＯ2の超
微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹脂固定した塗布層
をあらかじめ配したものを用いた）を直径１ｍの２０℃
に冷却した回転キャンに沿わせて巻き取りながら酸素を
導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁性層を０．１８μ
形成した。磁性層のタイプとして入射角４０〜１２度の
成分で得たいわゆる垂直磁化膜で実施した。磁性層の上
に、炭素原子と窒素原子によってダイヤモンド状硬質炭
素膜を７０Å形成した。
【００３０】炭素原子を２×１０19原子／cm2，水素原
子を１．６×１０17原子／cm2、照射して形成した（テ
ープ３ａ），炭素原子を６×１０18原子／cm2，窒素原
子を９×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ
３ｂ），炭素原子を６×１０17原子／cm2，水素原子を
２×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ３
ｃ）の３条件で実施した。
子を１．６×１０17原子／cm2、照射して形成した（テ
ープ３ａ），炭素原子を６×１０18原子／cm2，窒素原
子を９×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ
３ｂ），炭素原子を６×１０17原子／cm2，水素原子を
２×１０16原子／cm2、照射して形成した（テープ３
ｃ）の３条件で実施した。
【００３１】従来例としてメタンガスを高周波放電でイ
オン化して炭素膜を形成するプラズマＣＶＤ法でダイヤ
モンド状炭素膜を１２０Å配したものと２２０Å配した
ものを準備した。それぞれ炭素膜の上に更に潤滑剤とし
てパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布法で配
し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅の磁気
テープを試作して特性比較した。夫々の磁気テープの特
性比較は、ハイバンド８ミリビデオデッキを改造して５
μトラック、ビット長０．２μのディジタル記録を行い
エラーレートを相対比較した。耐久性についても４５
℃，１０％ＲＨで１３０パス履歴を加えた後のエラーレ
ートで評価した。
オン化して炭素膜を形成するプラズマＣＶＤ法でダイヤ
モンド状炭素膜を１２０Å配したものと２２０Å配した
ものを準備した。それぞれ炭素膜の上に更に潤滑剤とし
てパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布法で配
し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅の磁気
テープを試作して特性比較した。夫々の磁気テープの特
性比較は、ハイバンド８ミリビデオデッキを改造して５
μトラック、ビット長０．２μのディジタル記録を行い
エラーレートを相対比較した。耐久性についても４５
℃，１０％ＲＨで１３０パス履歴を加えた後のエラーレ
ートで評価した。
【００３２】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
磁気記録媒体の特性を（表３）に比較して示している。
磁気記録媒体の特性を（表３）に比較して示している。
【００３３】
【表３】
【００３４】この（表３）から明らかなように、本実施
例による磁気記録媒体は、狭トラック条件での高密度デ
ィジタル記録を良好なエラー率で行うことができるとい
った優れた効果がある。
例による磁気記録媒体は、狭トラック条件での高密度デ
ィジタル記録を良好なエラー率で行うことができるとい
った優れた効果がある。
【００３５】以上のように本実施例によれば磁性膜上に
炭素原子と窒素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を
形成することで炭素膜と磁性膜の付着強度が強固にな
り、微小部分でも均一で、ダイヤモンド構造をとる結晶
が少なくても硬さがでるようになり薄く構成しても優れ
た保護効果を持ち、安定なＳ／Ｎ比を保ち、狭トラック
でのディジタル記録で良好なエラー率を繰り返し使用で
も得ることができる磁気記録媒体が製造可能になる。
炭素原子と窒素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を
形成することで炭素膜と磁性膜の付着強度が強固にな
り、微小部分でも均一で、ダイヤモンド構造をとる結晶
が少なくても硬さがでるようになり薄く構成しても優れ
た保護効果を持ち、安定なＳ／Ｎ比を保ち、狭トラック
でのディジタル記録で良好なエラー率を繰り返し使用で
も得ることができる磁気記録媒体が製造可能になる。
【００３６】以上のように第１〜第３の実施例では磁気
テープで実施した例について詳しく説明したが、保護膜
を必要とする磁気ディスクや光ディスク等についても同
様な効果を得られるものである。又、磁性薄膜上に直接
ダイヤモンド状硬質炭素膜を形成したが、公知のプラズ
マ重合処理等の前処理と組み合わせてもよい。
テープで実施した例について詳しく説明したが、保護膜
を必要とする磁気ディスクや光ディスク等についても同
様な効果を得られるものである。又、磁性薄膜上に直接
ダイヤモンド状硬質炭素膜を形成したが、公知のプラズ
マ重合処理等の前処理と組み合わせてもよい。
【００３７】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、磁性膜上に
炭素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を形成するこ
とで狭トラック化した高密度記録で優れたＳ／Ｎ比を繰
り返し使用においても安定に保持しうる磁気記録媒体を
再現良く大量に得ることができる。
炭素原子によりダイヤモンド状硬質炭素膜を形成するこ
とで狭トラック化した高密度記録で優れたＳ／Ｎ比を繰
り返し使用においても安定に保持しうる磁気記録媒体を
再現良く大量に得ることができる。
【図１】本発明の第１の実施例に用いた磁気記録媒体製
造装置の要部拡大断面図
造装置の要部拡大断面図
【図２】本発明の第２の実施例に用いた磁気記録媒体製
造装置の要部拡大断面図
造装置の要部拡大断面図
【図３】従来の磁気記録媒体の拡大断面図
６ 原反 １０，１１ 炭素原子照射ノズル １２ 水素原子照射ノズル
Claims (3)
- 【請求項１】 磁性薄膜上に炭素原子によりダイヤモン
ド状硬質炭素膜を形成する磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 磁性薄膜上に炭素原子と水素原子により
ダイヤモンド状硬質炭素膜を形成する磁気記録媒体の製
造方法。 - 【請求項３】 磁性薄膜上に炭素原子と窒素原子により
ダイヤモンド状硬質炭素膜を形成する磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4259566A JPH06111299A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4259566A JPH06111299A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06111299A true JPH06111299A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=17335909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4259566A Pending JPH06111299A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06111299A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9096918B2 (en) | 2004-11-19 | 2015-08-04 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Facility for production of high strength steel sheet or hot dip zinc coated high strength steel sheet excellent in elongation and hole expandability |
-
1992
- 1992-09-29 JP JP4259566A patent/JPH06111299A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9096918B2 (en) | 2004-11-19 | 2015-08-04 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Facility for production of high strength steel sheet or hot dip zinc coated high strength steel sheet excellent in elongation and hole expandability |
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