JPH06124439A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH06124439A JPH06124439A JP4271343A JP27134392A JPH06124439A JP H06124439 A JPH06124439 A JP H06124439A JP 4271343 A JP4271343 A JP 4271343A JP 27134392 A JP27134392 A JP 27134392A JP H06124439 A JPH06124439 A JP H06124439A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
- oxygen
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録再生機器に使用される磁気テープに
おいて、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体の
信頼性と電磁変換特性のアンバランスを解決した磁気記
録媒体の製造方法の提供を目的とする。 【構成】 処理用原反上の蒸着磁性層の蒸着時に形成さ
れた表面酸化層をスパッタエッチとグロー酸化の交互処
理により緻密な酸化層に置換することで、信頼性と電気
特性を共に改善した状態で量産できるようにする。
おいて、強磁性金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体の
信頼性と電磁変換特性のアンバランスを解決した磁気記
録媒体の製造方法の提供を目的とする。 【構成】 処理用原反上の蒸着磁性層の蒸着時に形成さ
れた表面酸化層をスパッタエッチとグロー酸化の交互処
理により緻密な酸化層に置換することで、信頼性と電気
特性を共に改善した状態で量産できるようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高密度磁気記録に適する
強磁性金属薄膜を磁性層とする耐久性と記録特性に優れ
た磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
強磁性金属薄膜を磁性層とする耐久性と記録特性に優れ
た磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、記録すべき情
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。多くの提案がなされているが、現在実用に供さ
れているものは特開昭５３−５８２０６号公報に開示さ
れているような強磁性金属自身の酸化物で柱状微粒子の
表面が被覆された構造をもち記録特性と耐久性をバラン
ス良く改善したもので、構成元素はＣｏ，Ｎｉ，Ｏから
なり（特開昭５６−１５０１４号公報）、これらの磁気
記録層を形成するのは、酸素ガスを介在させながらＣ
ｏ，Ｃｏ−Ｎｉを電子ビーム蒸着する方法が代表的で酸
素の導入については幾つかの提案があるが基材近傍で、
入射角規制を行う部分に近い位置が良く用いられている
（特開昭５４−１９１９９号公報、特開昭５８−３２２
３４号公報）。更に実用性能の改善を図る為に保護膜の
検討が進められている中でも、硬度を高めた炭素膜（特
開昭５３−１４３０２６号公報）や他の薄層介在による
一層の改善が行われてきている（例えば特開昭６１−２
４２３２３号公報、特開昭６２−１６７６１６号公
報）。これらの膜はプラズマを応用した、スパッタリン
グ法、イオンビームデポジション法、プラズマＣＶＤ法
等で蒸着によって強磁性金属薄膜形成後に付与される。
更に必要な処理の後、テープ状、ディスク状に加工され
て使用されている。
報量の増大は著しく、磁気記録についても可能な限り記
録密度を高める対応が要請され、短波長化、狭トラック
化に耐える高性能磁気記録媒体の開発が盛んになってき
ている。多くの提案がなされているが、現在実用に供さ
れているものは特開昭５３−５８２０６号公報に開示さ
れているような強磁性金属自身の酸化物で柱状微粒子の
表面が被覆された構造をもち記録特性と耐久性をバラン
ス良く改善したもので、構成元素はＣｏ，Ｎｉ，Ｏから
なり（特開昭５６−１５０１４号公報）、これらの磁気
記録層を形成するのは、酸素ガスを介在させながらＣ
ｏ，Ｃｏ−Ｎｉを電子ビーム蒸着する方法が代表的で酸
素の導入については幾つかの提案があるが基材近傍で、
入射角規制を行う部分に近い位置が良く用いられている
（特開昭５４−１９１９９号公報、特開昭５８−３２２
３４号公報）。更に実用性能の改善を図る為に保護膜の
検討が進められている中でも、硬度を高めた炭素膜（特
開昭５３−１４３０２６号公報）や他の薄層介在による
一層の改善が行われてきている（例えば特開昭６１−２
４２３２３号公報、特開昭６２−１６７６１６号公
報）。これらの膜はプラズマを応用した、スパッタリン
グ法、イオンビームデポジション法、プラズマＣＶＤ法
等で蒸着によって強磁性金属薄膜形成後に付与される。
更に必要な処理の後、テープ状、ディスク状に加工され
て使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では酸素導入量を増加すると保磁力は増加する
ものの、飽和磁束密度が減少し最適導入量で得られるＳ
／Ｎ比の最大値がより高密度記録で必要な値に対して低
く、耐久性とＳ／Ｎ比のバランス点が不十分である媒体
しか製造出来ないといった問題点を有していた。
来の構成では酸素導入量を増加すると保磁力は増加する
ものの、飽和磁束密度が減少し最適導入量で得られるＳ
／Ｎ比の最大値がより高密度記録で必要な値に対して低
く、耐久性とＳ／Ｎ比のバランス点が不十分である媒体
しか製造出来ないといった問題点を有していた。
【０００４】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、狭トラック高密度記録を可能にする、耐久性と高出
力特性を兼ね備えた薄型の磁気記録媒体の製造方法を提
供することを目的とする。
で、狭トラック高密度記録を可能にする、耐久性と高出
力特性を兼ね備えた薄型の磁気記録媒体の製造方法を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体の製造方法は酸素雰囲気で強磁
性金属を蒸着して得られた部分酸化膜の表面をスパッタ
エッチとグロー酸化による交互処理をくり返し行うよう
にしたものである。
に本発明の磁気記録媒体の製造方法は酸素雰囲気で強磁
性金属を蒸着して得られた部分酸化膜の表面をスパッタ
エッチとグロー酸化による交互処理をくり返し行うよう
にしたものである。
【０００６】
【作用】この構成によって酸素雰囲気で強磁性金属を蒸
着して得られる部分酸化膜の厚み方向の表面酸化膜が蒸
着時に得られた状態よりも、より緻密で硬い酸化膜にな
ることで表面酸化層厚みを増やさずにバランスがとれる
ので耐久性と高Ｓ／Ｎを兼ね備えた薄型の磁気記録媒体
を再現よく製造できるようになる。
着して得られる部分酸化膜の厚み方向の表面酸化膜が蒸
着時に得られた状態よりも、より緻密で硬い酸化膜にな
ることで表面酸化層厚みを増やさずにバランスがとれる
ので耐久性と高Ｓ／Ｎを兼ね備えた薄型の磁気記録媒体
を再現よく製造できるようになる。
【０００７】
（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【０００８】図１において、１は処理用原反で高分子フ
ィルム上の強磁性金属博膜が少なくとも酸素雰囲気でＣ
ｏ，Ｃｏ−Ｎｉ等を電子ビーム蒸着して形成されてい
て、厚み方向の表面に、蒸着時に形成された１００〜２
００Å程度の表面酸化層をもった構造をしていることが
前提となる。２，３は温度制御された回転支持体で、接
地電位とするか、電位を付与できるように絶縁構成とす
るかは適宜選択出来る。４は送り出し軸、５は巻き取り
軸である。６ａ，６ｂは放電電極Ａで７ａ，７ｂは放電
電極Ｂで電極の形状、寸法、材質等は特に狭い条件に限
定する必要はなく、例えばアルミニウムで曲面で、ほぼ
回転支持体と同心状に配設してやれば充分である。尚６
ａ，６ｂは酸化層の除去を目的に作動させ、７ａ，７ｂ
は新たに酸化層を形成するために作動させるために動作
圧力、ガス種などを独立に制御できる、隔壁、排気系な
どは公知技術を最適化する（図示していない）必要があ
る。８は回転ローラーである。
ィルム上の強磁性金属博膜が少なくとも酸素雰囲気でＣ
ｏ，Ｃｏ−Ｎｉ等を電子ビーム蒸着して形成されてい
て、厚み方向の表面に、蒸着時に形成された１００〜２
００Å程度の表面酸化層をもった構造をしていることが
前提となる。２，３は温度制御された回転支持体で、接
地電位とするか、電位を付与できるように絶縁構成とす
るかは適宜選択出来る。４は送り出し軸、５は巻き取り
軸である。６ａ，６ｂは放電電極Ａで７ａ，７ｂは放電
電極Ｂで電極の形状、寸法、材質等は特に狭い条件に限
定する必要はなく、例えばアルミニウムで曲面で、ほぼ
回転支持体と同心状に配設してやれば充分である。尚６
ａ，６ｂは酸化層の除去を目的に作動させ、７ａ，７ｂ
は新たに酸化層を形成するために作動させるために動作
圧力、ガス種などを独立に制御できる、隔壁、排気系な
どは公知技術を最適化する（図示していない）必要があ
る。８は回転ローラーである。
【０００９】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に上記した構成の装置を用い磁気記録媒
体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行った
結果について詳しく述べる。
るために具体的に上記した構成の装置を用い磁気記録媒
体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行った
結果について詳しく述べる。
【００１０】厚み７．１μｍで、長手方向、幅方向夫々
５４０、５９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径１５
０ÅのＳｉＯ2の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を
直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き
取りながら酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁
性層を０．１８μ形成した。酸素ガス導入ノズルは最小
入射角４０度とし、その入射角を決定するマスクの先端
部に直径８mmのステンレスパイプに０．２mmの直径の孔
を１５mmピッチで配した酸素ガス導入ノズルから０．８
１／ｍｉｎに制御して導入した。表面の酸化層は１１０
〜１１５Åであった。この状態を原反Ａとし、原反Ａを
図１に示した装置で、回転支持体（直径５０cm，接地電
位、２個）、放電電極Ａ（Ａｌ，曲率２８cm，周長３０
cm）、放電電極Ｂ（Ａｌ，曲率２９cm，周長４０cm）、
スパッタエッチング条件：ＤＣ；８００Ｖ，１ＫＷ，Ａ
ｒ０．０２Ｔｏｒｒ、グロー酸化条件；ＲＦ１００ＫH
z，８００Ｗ，酸素０．０８Ｔｏｒｒの条件に統一し
て、原反Ａの送り速度と処理回数（エッチングとグロー
酸化で１回として数える）を変えてテープを準備した。
３回以上の処理回数は反転機構を利用して真空内で巻き
戻して繰り返し処理したものである。
５４０、５９０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ３
０Åのポリエチレンテレフタレートフィルム（直径１５
０ÅのＳｉＯ2の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた）を
直径１ｍの２０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き
取りながら酸素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁
性層を０．１８μ形成した。酸素ガス導入ノズルは最小
入射角４０度とし、その入射角を決定するマスクの先端
部に直径８mmのステンレスパイプに０．２mmの直径の孔
を１５mmピッチで配した酸素ガス導入ノズルから０．８
１／ｍｉｎに制御して導入した。表面の酸化層は１１０
〜１１５Åであった。この状態を原反Ａとし、原反Ａを
図１に示した装置で、回転支持体（直径５０cm，接地電
位、２個）、放電電極Ａ（Ａｌ，曲率２８cm，周長３０
cm）、放電電極Ｂ（Ａｌ，曲率２９cm，周長４０cm）、
スパッタエッチング条件：ＤＣ；８００Ｖ，１ＫＷ，Ａ
ｒ０．０２Ｔｏｒｒ、グロー酸化条件；ＲＦ１００ＫH
z，８００Ｗ，酸素０．０８Ｔｏｒｒの条件に統一し
て、原反Ａの送り速度と処理回数（エッチングとグロー
酸化で１回として数える）を変えてテープを準備した。
３回以上の処理回数は反転機構を利用して真空内で巻き
戻して繰り返し処理したものである。
【００１１】送り速度１０ｍ／ｍｉｎ，処理２回（テー
プ１ａ）、１０ｍ／ｍｉｎ，３回（テープ１ｂ）、送り
速度２０ｍ／ｍｉｎ，２回（テープ１ｃ）、２０ｍ／ｍ
ｉｎ，４回（テープ１ｄ）、２０ｍ／ｍｉｎ，６回（テ
ープ１ｅ）と従来例は処理しないものを準備した。
プ１ａ）、１０ｍ／ｍｉｎ，３回（テープ１ｂ）、送り
速度２０ｍ／ｍｉｎ，２回（テープ１ｃ）、２０ｍ／ｍ
ｉｎ，４回（テープ１ｄ）、２０ｍ／ｍｉｎ，６回（テ
ープ１ｅ）と従来例は処理しないものを準備した。
【００１２】１ａ〜１ｅについてはそれぞれ磁性層の上
に、ダイヤモンド状硬質炭素膜を６０Å形成した。従来
例のみ厚みを６０Åと１５０Å２種類用意した。その形
成はメタンガスを高周波放電でイオン化して炭素膜を形
成するプラズマＣＶＤ法で行った。炭素膜の上に更に潤
滑剤としてパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布
法で配し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅
の磁気テープを試作して特性比較した。夫々の磁気テー
プの特性比較は、ハイバンド８ミリビデオデッキを改造
して記録波長０．４７μｍ、トラックピッチ９μｍでＳ
／Ｎ比の相対比較で行った。磁気テープの長さは１００
ｍとし、ランダムに５巻選び出して５巻の平均値で表示
した。スチル特性はテンションを２５ｇに増加させて４
０℃、５％ＲＨで比較した。本実施例による磁気記録媒
体の特性と比較例の磁気記録媒体の特性を（表１）に比
較して示している。
に、ダイヤモンド状硬質炭素膜を６０Å形成した。従来
例のみ厚みを６０Åと１５０Å２種類用意した。その形
成はメタンガスを高周波放電でイオン化して炭素膜を形
成するプラズマＣＶＤ法で行った。炭素膜の上に更に潤
滑剤としてパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布
法で配し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅
の磁気テープを試作して特性比較した。夫々の磁気テー
プの特性比較は、ハイバンド８ミリビデオデッキを改造
して記録波長０．４７μｍ、トラックピッチ９μｍでＳ
／Ｎ比の相対比較で行った。磁気テープの長さは１００
ｍとし、ランダムに５巻選び出して５巻の平均値で表示
した。スチル特性はテンションを２５ｇに増加させて４
０℃、５％ＲＨで比較した。本実施例による磁気記録媒
体の特性と比較例の磁気記録媒体の特性を（表１）に比
較して示している。
【００１３】
【表１】
【００１４】この（表１）から明らかなように、本実施
例によって製造された磁気記録媒体は、狭トラック記録
での高密度記録で耐久性と高いＳ／Ｎ比を実現出来ると
いった優れた効果が得られることがわかり優れた製造方
法であることが理解される。
例によって製造された磁気記録媒体は、狭トラック記録
での高密度記録で耐久性と高いＳ／Ｎ比を実現出来ると
いった優れた効果が得られることがわかり優れた製造方
法であることが理解される。
【００１５】以上の様に本実施例の製造方法によれば、
酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られた部分酸化膜
の表面をスパッタエッチとグロー酸化による交互処理を
くり返し行うことで、狭トラック化した高密度記録で優
れたＳ／Ｎ比を繰り返し使用においても安定に保持しう
る磁気記録媒体を再現良く大量に得ることが出来る。
酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られた部分酸化膜
の表面をスパッタエッチとグロー酸化による交互処理を
くり返し行うことで、狭トラック化した高密度記録で優
れたＳ／Ｎ比を繰り返し使用においても安定に保持しう
る磁気記録媒体を再現良く大量に得ることが出来る。
【００１６】（実施例２）以下本発明の第２の実施例に
ついて説明する。本発明の第２の実施例の磁気記録媒体
の製造方法を実施するための磁気記録媒体の製造装置の
要部構成は実施例１と同様のものを用いた。放電ガスは
酸素ガス１００％と酸素と水素の比率を１０：１に混合
したガスの２種類とした。
ついて説明する。本発明の第２の実施例の磁気記録媒体
の製造方法を実施するための磁気記録媒体の製造装置の
要部構成は実施例１と同様のものを用いた。放電ガスは
酸素ガス１００％と酸素と水素の比率を１０：１に混合
したガスの２種類とした。
【００１７】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に上記した構成の装置を用い磁気記録媒
体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行った
結果について詳しく述べる。
るために具体的に上記した構成の装置を用い磁気記録媒
体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行った
結果について詳しく述べる。
【００１８】厚み６．１μｍで、長手方向、幅方向夫々
９４０、１０５０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ
３０Åのポリイミドフィルム（直径１５０ÅのＳｉＯ2
の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹脂固定した塗
布層をあらかじめ配したものを用いた）を直径１ｍの２
０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き取りながら酸
素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁性層を０．１
８μ形成した。酸素ガス導入ノズルは最小入射角２０度
とし、その入射角を決定するマスクの先端部に直径８mm
のステンレスパイプに０．２mmの直径の孔を１５mmピッ
チで配した酸素ガス導入ノズルから０．８１／ｍｉｎに
制御して導入した。最大入射角は４２度で、垂直方向に
酸化容易軸を持つＣｏ−Ｏ膜で表面の酸化層は１２０〜
１２５Åであった。この状態を原反Ｂとし、原反Ｂを図
１に示した装置で、回転支持体（直径５０cm，接地電
位、２個）、放電電極Ａ（Ａｌ，曲率２８cm，周長３０
cm）、放電電極Ｂ（Ａｌ，曲率２９cm，周長４０cm）、
スパッタエッチング条件：ＤＣ；９００Ｖ，１ＫＷ，
０．０２Ｔｏｒｒ、グロー酸化条件；ＲＦ１００ＫHz，
７００Ｗ，０．０９Ｔｏｒｒの条件に統一して、原反Ｂ
の送り速度と処理回数（エッチングとグロー酸化で１回
として数える）を変えてテープを準備した。３回以上の
処理回数は反転機構を利用して真空内で巻き戻して繰り
返し処理したものである。
９４０、１０５０［Kg／mm2］のヤング率で、平均粗さ
３０Åのポリイミドフィルム（直径１５０ÅのＳｉＯ2
の超微粒子を平均密度２０個／μｍ2を樹脂固定した塗
布層をあらかじめ配したものを用いた）を直径１ｍの２
０℃に冷却した回転キャンに沿わせて巻き取りながら酸
素を導入してＣｏを電子ビーム蒸着して磁性層を０．１
８μ形成した。酸素ガス導入ノズルは最小入射角２０度
とし、その入射角を決定するマスクの先端部に直径８mm
のステンレスパイプに０．２mmの直径の孔を１５mmピッ
チで配した酸素ガス導入ノズルから０．８１／ｍｉｎに
制御して導入した。最大入射角は４２度で、垂直方向に
酸化容易軸を持つＣｏ−Ｏ膜で表面の酸化層は１２０〜
１２５Åであった。この状態を原反Ｂとし、原反Ｂを図
１に示した装置で、回転支持体（直径５０cm，接地電
位、２個）、放電電極Ａ（Ａｌ，曲率２８cm，周長３０
cm）、放電電極Ｂ（Ａｌ，曲率２９cm，周長４０cm）、
スパッタエッチング条件：ＤＣ；９００Ｖ，１ＫＷ，
０．０２Ｔｏｒｒ、グロー酸化条件；ＲＦ１００ＫHz，
７００Ｗ，０．０９Ｔｏｒｒの条件に統一して、原反Ｂ
の送り速度と処理回数（エッチングとグロー酸化で１回
として数える）を変えてテープを準備した。３回以上の
処理回数は反転機構を利用して真空内で巻き戻して繰り
返し処理したものである。
【００１９】送り速度１０ｍ／ｍｉｎ，処理２回（テー
プ２ａ）、１０ｍ／ｍｉｎ，３回（テープ２ｂ）、送り
速度２０ｍ／ｍｉｎ，２回（テープ２ｃ）、２０ｍ／ｍ
ｉｎ，４回（テープ２ｄ）、２０ｍ／ｍｉｎ，６回（テ
ープ２ｅ）と従来例は処理しないものを準備した。
プ２ａ）、１０ｍ／ｍｉｎ，３回（テープ２ｂ）、送り
速度２０ｍ／ｍｉｎ，２回（テープ２ｃ）、２０ｍ／ｍ
ｉｎ，４回（テープ２ｄ）、２０ｍ／ｍｉｎ，６回（テ
ープ２ｅ）と従来例は処理しないものを準備した。
【００２０】２ａ〜２ｅについてはそれぞれ磁性層の上
に、ダイヤモンド状硬質炭素膜を６０Å形成した。従来
例のみ厚みを６０Åと１５０Å２種類用意した。その形
成はメタンガスを高周波放電でイオン化して炭素膜を形
成するプラズマＣＶＤ法で行った。炭素膜の上に更に潤
滑剤としてパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布
法で配し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅
の磁気テープに加工した。これらのテープを改造した８
ミリビデオによって５μトラック、ビット長０．２μの
ディジタル記録を行いエラーレートを相対比較した。耐
久性についても５℃，８５％ＲＨで１００パス履歴を加
えた後のエラーレートで評価した。
に、ダイヤモンド状硬質炭素膜を６０Å形成した。従来
例のみ厚みを６０Åと１５０Å２種類用意した。その形
成はメタンガスを高周波放電でイオン化して炭素膜を形
成するプラズマＣＶＤ法で行った。炭素膜の上に更に潤
滑剤としてパーフルオロポリエーテルを４０Å溶液塗布
法で配し、バックコート層を０．４５μｍ形成し８mm幅
の磁気テープに加工した。これらのテープを改造した８
ミリビデオによって５μトラック、ビット長０．２μの
ディジタル記録を行いエラーレートを相対比較した。耐
久性についても５℃，８５％ＲＨで１００パス履歴を加
えた後のエラーレートで評価した。
【００２１】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
磁気記録媒体の特性を（表２）に比較して示している。
磁気記録媒体の特性を（表２）に比較して示している。
【００２２】
【表２】
【００２３】この（表２）から明らかなように、本実施
例により製造された磁気記録媒体は、狭トラック条件で
の高密度ディジタル記録を良好なエラー率で行うことが
出来るといった優れた効果がある。
例により製造された磁気記録媒体は、狭トラック条件で
の高密度ディジタル記録を良好なエラー率で行うことが
出来るといった優れた効果がある。
【００２４】以上のように本実施例によれば酸素雰囲気
で強磁性金属を蒸着して得られた部分酸化膜の表面を酸
素を含む放電ガスを用いたスパッタエッチとグロー酸化
による交互処理をくり返し行うことで、酸素を含む雰囲
気で強磁性金属を蒸着して得られる部分酸化膜の厚み方
向の表面酸化膜が蒸着時に得られた状態よりも、より緻
密で硬い酸化膜になることで表面酸化層厚みを増やさず
にバランスがとれるので耐久性と高Ｓ／Ｎ比を兼ね備え
た薄型の磁気記録媒体を再現よく製造できるようにな
る。
で強磁性金属を蒸着して得られた部分酸化膜の表面を酸
素を含む放電ガスを用いたスパッタエッチとグロー酸化
による交互処理をくり返し行うことで、酸素を含む雰囲
気で強磁性金属を蒸着して得られる部分酸化膜の厚み方
向の表面酸化膜が蒸着時に得られた状態よりも、より緻
密で硬い酸化膜になることで表面酸化層厚みを増やさず
にバランスがとれるので耐久性と高Ｓ／Ｎ比を兼ね備え
た薄型の磁気記録媒体を再現よく製造できるようにな
る。
【００２５】（実施例３）以下本発明の第３の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。図２は本発明の第
３の実施例の磁気記録媒体の製造方法を実施するための
磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図２にお
いて図１と同じ構成要素で良い部分は図１と同一の番号
を付与してある。９は回転支持体で加熱制御できるよう
循環媒体と例えば誘導加熱式の発熱体を内蔵したものが
用いられる。１０は水素ビーム照射ノズルで、１１は酸
素原子ビーム照射ノズル、１２は仕切り板である。原子
ビームの発生は例えば水素、或いは酸素のプラズマから
イオンを引き出し、電子シャワーで中性化してから磁界
を通過させて分離させて得ることが出来る。
ついて図面を参照しながら説明する。図２は本発明の第
３の実施例の磁気記録媒体の製造方法を実施するための
磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図２にお
いて図１と同じ構成要素で良い部分は図１と同一の番号
を付与してある。９は回転支持体で加熱制御できるよう
循環媒体と例えば誘導加熱式の発熱体を内蔵したものが
用いられる。１０は水素ビーム照射ノズルで、１１は酸
素原子ビーム照射ノズル、１２は仕切り板である。原子
ビームの発生は例えば水素、或いは酸素のプラズマから
イオンを引き出し、電子シャワーで中性化してから磁界
を通過させて分離させて得ることが出来る。
【００２６】実際に製造された磁気記録媒体の特性を従
来例、比較例と対比することで本発明の製造方法につい
て具体的に詳しく説明する。
来例、比較例と対比することで本発明の製造方法につい
て具体的に詳しく説明する。
【００２７】厚み６μｍのアラミドフィルム（平均粗さ
２０Å、ヤング率長手９００、幅１０５０Kg／mm2）上
に平均微粒子径１７０ÅのＳｉＯ2を平均密度４０個／
μ2で塗布固定し、以下の条件で０．２μｍのＣｏ−Ｏ
垂直磁化膜を形成した。Ｃｏはマグネシア容器内で加速
電子ビームによって加熱蒸発させて、入射角が９０度か
ら３０度の範囲の直径１ｍの回転支持体の面に沿って蒸
着した。その際酸素ガスを０．９１／ｍｉｎのレートで
導入し、蒸着は２回に分けて０．１μｍずつ行った。表
面の酸化層は１４０Åであった。水素原子は０．４ＫＶ
で酸素原子は０．６ＫＶで引き出し中性化した状態で夫
々、４×１０16，６×１０16［原子／cm2ｓｅｃ］で照
射、送り速度１０ｍ／ｍｉｎ，処理２回（テープ３
ａ）、１０ｍ／ｍｉｎ，３回（テープ３ｂ）、送り速度
２０ｍ／ｍｉｎ，２回（テープ３ｃ）、２０ｍ／ｍｉ
ｎ，４回（テープ３ｄ）、２０ｍ／ｍｉｎ，６回（テー
プ３ｅ）と従来例は処理しないものを準備した。
２０Å、ヤング率長手９００、幅１０５０Kg／mm2）上
に平均微粒子径１７０ÅのＳｉＯ2を平均密度４０個／
μ2で塗布固定し、以下の条件で０．２μｍのＣｏ−Ｏ
垂直磁化膜を形成した。Ｃｏはマグネシア容器内で加速
電子ビームによって加熱蒸発させて、入射角が９０度か
ら３０度の範囲の直径１ｍの回転支持体の面に沿って蒸
着した。その際酸素ガスを０．９１／ｍｉｎのレートで
導入し、蒸着は２回に分けて０．１μｍずつ行った。表
面の酸化層は１４０Åであった。水素原子は０．４ＫＶ
で酸素原子は０．６ＫＶで引き出し中性化した状態で夫
々、４×１０16，６×１０16［原子／cm2ｓｅｃ］で照
射、送り速度１０ｍ／ｍｉｎ，処理２回（テープ３
ａ）、１０ｍ／ｍｉｎ，３回（テープ３ｂ）、送り速度
２０ｍ／ｍｉｎ，２回（テープ３ｃ）、２０ｍ／ｍｉ
ｎ，４回（テープ３ｄ）、２０ｍ／ｍｉｎ，６回（テー
プ３ｅ）と従来例は処理しないものを準備した。
【００２８】それぞれ磁性層の上にプラズマＣＶＤ法で
ダイヤモンド状硬質炭素膜を６０Å形成し（従来例は他
に１８０Åのも試作した）た後パーフルオロステアリン
酸を３０Å配し、０．５μｍのバックコート層を配して
夫々８mm幅の磁気テープに加工した。これらのテープを
改造した８ミリビデオによって５μトラック、ビット長
０．２μのディジタル記録を行いエラーレートを相対比
較した。耐久性についても３℃，１０％ＲＨで１５０パ
ス履歴を加えた後のエラーレートで評価した。本実施例
による磁気記録媒体の特性と従来磁気記録媒体の特性を
（表３）に比較して示している。
ダイヤモンド状硬質炭素膜を６０Å形成し（従来例は他
に１８０Åのも試作した）た後パーフルオロステアリン
酸を３０Å配し、０．５μｍのバックコート層を配して
夫々８mm幅の磁気テープに加工した。これらのテープを
改造した８ミリビデオによって５μトラック、ビット長
０．２μのディジタル記録を行いエラーレートを相対比
較した。耐久性についても３℃，１０％ＲＨで１５０パ
ス履歴を加えた後のエラーレートで評価した。本実施例
による磁気記録媒体の特性と従来磁気記録媒体の特性を
（表３）に比較して示している。
【００２９】
【表３】
【００３０】この（表３）から明らかなように、本実施
例により製造された磁気記録媒体は、狭トラック条件で
の高密度ディジタル記録を良好なエラー率で行うことが
出来るといった優れた効果がある。
例により製造された磁気記録媒体は、狭トラック条件で
の高密度ディジタル記録を良好なエラー率で行うことが
出来るといった優れた効果がある。
【００３１】以上のように本実施例の製造方法によれば
酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られた部分酸化膜
の表面を水素原子処理と酸素原子処理することで、原子
が極めて活性のため、金属を蒸着して得られる部分酸化
膜の厚み方向の表面酸化膜が蒸着時に得られた状態より
も、より緻密で硬く、微視的、化学的に均一な酸化膜に
なることで表面酸化層厚みを増やさずにバランスがとれ
るので耐久性と高Ｓ／Ｎを兼ね備えた薄型の磁気記録媒
体を再現よく製造できるようになる。
酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られた部分酸化膜
の表面を水素原子処理と酸素原子処理することで、原子
が極めて活性のため、金属を蒸着して得られる部分酸化
膜の厚み方向の表面酸化膜が蒸着時に得られた状態より
も、より緻密で硬く、微視的、化学的に均一な酸化膜に
なることで表面酸化層厚みを増やさずにバランスがとれ
るので耐久性と高Ｓ／Ｎを兼ね備えた薄型の磁気記録媒
体を再現よく製造できるようになる。
【００３２】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、酸素雰囲気
で強磁性金属を蒸着して得られる部分酸化膜の厚み方向
の表面酸化膜が蒸着時に得られた状態よりも、より緻密
で硬い酸化膜になることで表面酸化層厚みを増やさずに
バランスがとれるので耐久性と高Ｓ／Ｎ比を兼ね備えた
薄型の磁気記録媒体を再現よく製造できるようになる。
で強磁性金属を蒸着して得られる部分酸化膜の厚み方向
の表面酸化膜が蒸着時に得られた状態よりも、より緻密
で硬い酸化膜になることで表面酸化層厚みを増やさずに
バランスがとれるので耐久性と高Ｓ／Ｎ比を兼ね備えた
薄型の磁気記録媒体を再現よく製造できるようになる。
【図１】本発明の第１の実施例における磁気記録媒体の
製造に用いた処理装置の要部拡大断面図
製造に用いた処理装置の要部拡大断面図
【図２】本発明の第３の実施例における磁気記録媒体の
製造に用いた処理装置の要部拡大断面図
製造に用いた処理装置の要部拡大断面図
１ 処理用原反 ６ａ，６ｂ 放電電極Ａ ７ａ，７ｂ 放電電極Ｂ １０ 水素原子ビーム照射ノズル １１ 酸素原子ビーム照射ノズル
Claims (3)
- 【請求項１】酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られ
た部分酸化膜の表面をスパッタエッチとグロー酸化によ
る交互処理をくり返し行うことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項２】酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られ
た部分酸化膜の表面を酸素を含む放電ガスを用いたスパ
ッタエッチとグロー酸化による交互処理をくり返し行う
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項３】酸素雰囲気で強磁性金属を蒸着して得られ
た部分酸化膜の表面を水素原子処理と酸素原子処理する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4271343A JPH06124439A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4271343A JPH06124439A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124439A true JPH06124439A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17498744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4271343A Pending JPH06124439A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124439A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8025954B2 (en) | 2006-11-30 | 2011-09-27 | Jamco Corporation | Sandwich panel |
| US8383231B2 (en) | 2006-11-30 | 2013-02-26 | Jamco Corporation | Sandwich panel |
-
1992
- 1992-10-09 JP JP4271343A patent/JPH06124439A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8025954B2 (en) | 2006-11-30 | 2011-09-27 | Jamco Corporation | Sandwich panel |
| US8383231B2 (en) | 2006-11-30 | 2013-02-26 | Jamco Corporation | Sandwich panel |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2563425B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06124439A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| KR960013372B1 (ko) | 자기기록매체의 제조방법 | |
| JPH04182916A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH10251851A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
| JP2987406B2 (ja) | 被膜形成方法及び形成装置 | |
| JPH06251363A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2594380B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3786980B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62185246A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06116729A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2883334B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2833444B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0757254A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2729544B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH06231457A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0687306B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH02240829A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2951892B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2946748B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06111299A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH11161947A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0740357B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05159287A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05109064A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |