JPH06112304A - 基板収納容器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 イオン注入装置等の処理装置の駆動部や真空
ポンプ等の振動により、基板が基板載置棚の所定の位置
からずれたり、回転してオリエンテーションフラットの
角度がずれない基板収納容器を提供すること。 【構成】 基板収納容器の基板載置棚３のそれぞれに、
基板５を静電吸着する一対の電極６ａ、６ｂを設けたこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置、薄膜形成装置、エッチング装置のような基板を処理
する装置等に用いられて、処理前後の基板例えばウェハ
を収納しておく基板収納容器に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば半導体用の基板のイオン注入等の
処理や、検査の過程において、基板を保存または移動さ
せるため、基板の端部を載せる多数段（例えば２５段）
の基板載置棚を備えたウエハカセットや、ウエハストッ
カ等の基板収納容器が使用されている。

【０００３】他方、この種の半導体の製造分野にあって
は、生産性の向上やクリーン度の観点から無人化が進ん
でいる。従って、前記基板収納容器から基板をロボット
等によってハンドリングする場合、各基板載置棚に基板
が所定の位置に収納されていることが好ましい。

【０００４】図４は、従来の基板収納容器の一例を示す
正面図である。この基板収納容器は、基部１の両側に設
けられた枠体２に基板５の端部を支持するように相対向
した一対の基板載置棚３が複数段形成されている。４は
天井部である。通常、これら基部１、枠体２、基板載置
棚３及び天井部４は、金属あるいは合成樹脂等で一体に
形成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記構成の
基板収納容器を用いて、イオン注入装置等の処理装置に
おいて基板５を処理すると、処理装置の駆動部や真空ポ
ンプ等の振動により、基板５が基板収納容器の基板載置
棚３の所定の位置からずれたり、回転して基板搬送ロボ
ット等でハンドリングが出来なかったり、仮にハンドリ
ングできても、オリエンテーションフラットの角度がず
れ、処理不良が発生することがあった。

【０００６】この対策として、例えば実開昭６１−１７
１２５２号公報に記載のように、前記基板載置棚の載置
面に、基板の外形に沿う座ぐりを形成したり、あるいは
基板載置棚の基板との接触面に摩擦係数の大きいラバー
を貼り付けたりしている。

【０００７】ところが、前者の座ぐりを形成した構成で
は、基板が振動によりある程度ずれないような効果を期
待することはできるが、振動により回転してしまうこと
は避けることが出来ない。また、座ぐりの効果を充分に
発揮させるには、座ぐりそのものの形状を基板の外形に
近い大きさにする必要があるが、ハンドリング面からみ
ると、基板を収納する場合、裕度の少ない座ぐりに基板
を収納するのは極めて困難であり、搬送ロボットの精度
からも制約がある。

【０００８】また、後者のラバーを貼り付ける構成で
は、摩擦力のみによるので、その効果に限界がある外、
ラバーをしわをつけずに貼り付ける必要があり、その作
業性が悪く、極めて高価なものとなる等といった不都合
があった。

【０００９】そこでこの発明は、処理装置の駆動部や真
空ポンプ等の振動により、基板が基板載置棚３の所定の
位置からずれたり、回転してオリエンテーションフラッ
トの角度がずれない基板収納容器を提供することを主た
る目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の基板収納容器は、基板載置棚のそれぞれ
に、基板を静電吸着する一対の電極を設けたことをこと
を特徴とする。

【００１１】

【作用】上記構成によれば、処理中は基板載置棚の一対
の電極に直流電源から所定の電圧を印加することによ
り、基板載置棚に載せた基板に静電吸着力が働き、これ
を所定位置に保持する。従って、処理装置の駆動部や真
空ポンプ等の振動により、基板が基板載置棚の所定の位
置からずれたり、回転することがなくなる。

【００１２】

【実施例】図１は、この発明の一実施例に係る基板収納
容器の概略構成を示す斜視図である。図２は、基板載置
棚の概略構成を示す平面図である。図３は、図１の基板
収納容器を部分的に拡大して示す正面断面図である。こ
れら図１ないし図３において、図４の従来例と同一また
は相当する部分には同一符号を付し、以下においては当
該従来例との相違点を主に説明する。

【００１３】この実施例においては、基板５を静電吸着
する一対の電極６ａ、６ｂを設けた基板載置棚３を、枠
体２を形成するスペーサー７を介して基部１と天井部４
との間に所定段積み重ね、これら基部１、スペーサー
７、基板載置棚３及び天井部４をボルト、ナット等から
なる締結具８を用いて一体に固定して構成している。９
ａ、９ｂは、前記一対の電極６ａ、６ｂに図示しない直
流電源から所定の電圧を印加するための電極端子であ
り、左右両側にある。

【００１４】前記基板載置棚３は、例えば図２に示すよ
うに、例えば厚さ１．６〜２．０ｍｍ程度のセラミック
板の裏面に、銀ペーストをシルク印刷して、陽極及び陰
極となる一対の電極６ａ、６ｂを対向して設け、その上
に合成樹脂等の絶縁物１０を塗布して、双極型静電チャ
ックを構成している。１１は、前記各電極６ａ、６ｂに
直流電圧を印加するための例えば銅製のスタッドからな
る電極端子９ａ、９ｂを挿通するための貫通孔である。

【００１５】前記貫通孔１１の周辺部１２は、前記絶縁
物１０を塗布せず、図３に示すように各電極６ａ（６
ｂ）と、隣接する段間において締結されたスタッドから
なる電極端子９ａ（９ｂ）との電気的接続を行ってい
る。１３は、絶縁物からなる絶縁カラーで、この絶縁カ
ラー１３はスペーサー７が金属で形成されている場合に
設けられ、スペーサー７と電極端子９ａ、９ｂとの間の
絶縁を保っている。

【００１６】上記構成の基板収納容器を用いて基板５を
処理する場合、例えば処理装置において基板５を処理
中、すなわち基板収納容器から基板５をハンドリングす
る時以外は、図示しない直流電源から一対の電極６ａ、
６ｂに電極端子９ａ、９ｂを通じて所定の電圧を印加す
れば、基板５は静電吸着力により基板載置棚３に保持さ
れ、従って、処理装置の駆動部や真空ポンプ等の振動に
よって、基板５が基板載置棚３の所定の位置からずれた
り、回転することがなくなる。

【００１７】前記静電吸着力は、一般的に印加電圧が高
いほど大きくなるので、基板５が処理装置等の振動によ
って基板５が基板載置棚３の所定の位置からずれたり、
回転しない電圧に設定すればよい。この値として、可能
な限り小さくして静電吸着時であっても、ロボット等の
ハンドリング装置によってハンドリングが行えるように
してもよいのは勿論である。このようにすれば、印加電
圧のオン、オフ制御が極めて簡単となり都合がよい。

【００１８】なお、上記実施例では枠体２として、金属
製のスペーサー７により形成したが、スペーサー７を絶
縁物とし、絶縁カラー１３の省略を図ってもよいのは勿
論である。また、基板載置棚３を形成するセラミック板
としては、大気中、真空中いずれの雰囲気にも、吸着力
に影響なく使用できるものがあり、その用途により適宜
選択すればよい。

【００１９】また、このような基板収納容器は、大気
中、エアロック室内および真空の処理室内のいずれにも
使用することができる。

【００２０】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、処理装
置の駆動部や真空ポンプ等の振動により、基板収納容器
内に収納された基板が基板載置棚の所定の位置からずれ
たり、回転してオリエンテーションフラットの角度がず
れるのを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の一実施例に係る基板収納容器の概
略構成を示す斜視図である。

【図２】 基板載置棚の概略構成を示す平面図である。

【図３】 図１の基板収納容器を部分的に拡大して示す
正面断面図である。

【図４】 従来の基板収納容器の一例を示す正面図であ
る。

【符号の説明】

３ 基板載置棚 ５ 基板 ６ａ、６ｂ 電極

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の端部を支持するように相対向した
   一対の基板載置棚を複数段有する基板収納容器におい
   て、前記基板載置棚のそれぞれに、基板を静電吸着する
   一対の電極を設けたことを特徴とする基板収納容器。