JPH0611274A - Pulse type gas introduction device - Google Patents

Pulse type gas introduction device

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Publication number
JPH0611274A
JPH0611274A JP16767592A JP16767592A JPH0611274A JP H0611274 A JPH0611274 A JP H0611274A JP 16767592 A JP16767592 A JP 16767592A JP 16767592 A JP16767592 A JP 16767592A JP H0611274 A JPH0611274 A JP H0611274A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
tight box
gas introduction
inner space
processing gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP16767592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Nakamu
栄治 中務
Ippei Yamauchi
一平 山内
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP16767592A priority Critical patent/JPH0611274A/en
Publication of JPH0611274A publication Critical patent/JPH0611274A/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】処理物の内部にまで所定濃度の処理ガスを有効
に接触させることができ、処理ガスの使用量も節約で
き、炉の安全性も高めることができるようにする。 【構成】処理ガスXおよびフローガスYをそれぞれタイ
トボックス2の内外空間S1 、S2 にほぼ同時にパルス
状に導入し、しかる後、タイトボックス2の内側空間S
1 を排気系路6を介して真空排気するという制御をコン
トローラ7からの命令を通じて繰り返す。
(57) [Summary] [Purpose] A processing gas of a predetermined concentration can be effectively brought into contact with the inside of the processed material, the amount of the processing gas used can be saved, and the safety of the furnace can be improved. . [Structure] The processing gas X and the flow gas Y are introduced into the inner and outer spaces S 1 and S 2 of the tight box 2 in a pulsed manner almost at the same time, and thereafter, the inner space S of the tight box 2 is introduced.
The control of evacuating 1 through the exhaust system path 6 is repeated according to the command from the controller 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、焼結炉を始めとする各
種の工業炉一般に適用して、処理物の含有酸素量、炭素
量、窒素量などを適切にコントロールすることができる
パルス式ガス導入装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is applicable to various industrial furnaces including a sintering furnace in general, and can control the oxygen content, carbon content, nitrogen content, etc. of the processed material in a pulse system. The present invention relates to a gas introduction device.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、従来の脱脂・焼結炉において
は、脱脂後、焼結開始前の段階で、処理物に含まれる含
有炭素量をコントロールする処理が行なわれることがあ
る。すなわち、脱脂後のブラウン体においてはある程度
のバインダーが処理物中に残留しているのが通例であ
り、ステンレスの射出成形にあってはこのような残留炭
素をことごとく嫌うし、超硬合金の射出成形にあっては
高い強度を得るために含有炭素を過不足なく所定比率で
含んでいることが要求される。このような事情から、脱
脂後、焼結開始前において、処理物にたとえば水素など
の処理ガスを接触させ、粒子間に残存するバインダーを
洗い流し炭素量をコントロールするようにしている。
2. Description of the Related Art For example, in a conventional degreasing / sintering furnace, a treatment for controlling the amount of carbon contained in a treated product may be performed after degreasing and before the start of sintering. That is, it is usual that a certain amount of binder remains in the treated material in the degreased brown body, and in injection molding of stainless steel, such residual carbon is completely disliked, and injection of cemented carbide is avoided. In molding, in order to obtain high strength, the carbon content is required to be contained in a predetermined ratio without excess or deficiency. Under such circumstances, after degreasing and before the start of sintering, a treatment gas such as hydrogen is brought into contact with the treated material to wash away the binder remaining between particles to control the carbon content.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、そのような
処理を行なうための従来装置は、ヒータや断熱材などの
炉材が処理ガスと反応し炉内汚染が発生する事態を防止
する観点より、通気性を有したタイトボックスの内側空
間に連通する部位に開口する第1のガス導入系路と、前
記タイトボックスの外側空間に連通する部位に開口する
第2のガス導入系路と、前記タイトボックスの内側空間
を排気する排気系路とを備えてなるのが一般的である。
すなわち、このものは水素などの処理ガスを第1のガス
導入系路を通じてタイトボックス内に導入するととも
に、窒素などのフローガスを第2のガス導入系路を通じ
てタイトボックス外に導入し、このときフローガスを処
理ガスよりも高圧に設定しておき、これらのガス導入に
並行してタイトボックスの内側空間を排気系路を通じて
排気することにより、炉内にタイトボックスの外側空間
から内側空間に向かう定常的なフローガスの流れを生ぜ
しめ、この流れに沿って、タイトボックスの内側空間に
導入される危険度の高い処理ガスや該タイトボックスの
内側空間で発生するワックスベーパなどをタイトボック
スの外側空間に漏出させることなく、排気系路を通じて
直接炉外に排出せしめるようにしている。
By the way, the conventional apparatus for carrying out such a treatment is, from the viewpoint of preventing the situation in which the furnace material such as the heater and the heat insulating material reacts with the processing gas to cause the contamination in the furnace, A first gas introduction system passage opening at a site communicating with the inner space of the airtight tight box; a second gas introduction system passage opening at a site communicating with the outer space of the tight box; It is generally provided with an exhaust system passage for exhausting the inner space of the box.
That is, this gas introduces a processing gas such as hydrogen into the tight box through the first gas introduction system passage and a flow gas such as nitrogen outside the tight box through the second gas introduction system passage. The flow gas is set to a pressure higher than that of the processing gas, and the inner space of the tight box is exhausted through an exhaust system passage in parallel with the introduction of these gases, so that the inside space of the tight box goes from the outer space of the tight box to the inner space. Generates a steady flow of the flow gas, and along this flow, process gas with high risk that is introduced into the inner space of the tight box and wax vapor generated in the inner space of the tight box are outside the tight box. It is designed to be discharged directly to the outside of the furnace through an exhaust system passage without leaking to the space.

【0004】ところが、このような構成のものでは、タ
イトボックスの内側空間に導入される処理ガスが常にフ
ローガスで希釈された状態となる。このため、高濃度の
処理ガスを処理物に接触させることが難しいという問題
がある。また、フローガスの流入量によってタイトボッ
クスの内側空間における処理ガスの濃度が微妙に変化す
るので、その濃度設定が極めて難しいという不具合もあ
る。さらに、処理ガスはフローガスの流れに沿って処理
物の表面を撫でて通過するだけであるから、処理物の内
部にまでガスを含浸させることが難しいという問題も抱
える。その上、このようにガスの接触が非効率的である
と、処理ガスが多量に必要になり、コスト高となる不具
合や、そのガスが起爆性のものである場合に危険度が高
くなるという不具合も抱える。
However, with such a structure, the processing gas introduced into the inner space of the tight box is always diluted with the flow gas. Therefore, there is a problem that it is difficult to bring the high-concentration processing gas into contact with the processed material. Further, since the concentration of the processing gas in the inner space of the tight box slightly changes depending on the inflow amount of the flow gas, there is a problem that it is extremely difficult to set the concentration. Further, since the processing gas only passes by stroking the surface of the processing object along the flow of the flow gas, there is a problem that it is difficult to impregnate the inside of the processing object with the gas. In addition, such inefficient gas contact requires a large amount of processing gas, which leads to high cost and high risk when the gas is explosive. I also have defects.

【0005】本発明は、このような課題に着目してなさ
れたものであって、処理物の内部にまで所要濃度の処理
ガスを有効に接触させることができ、処理ガスの使用量
も節約でき、炉の安全性も高めることができるようにし
たパルス式ガス導入装置を提供することを目的としてい
る。
The present invention has been made in view of these problems, and it is possible to effectively bring a processing gas having a required concentration into the inside of a processed material, and to save the amount of the processing gas used. It is an object of the present invention to provide a pulse type gas introduction device capable of improving the safety of the furnace.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
The present invention adopts the following constitution in order to achieve the above object.

【0007】すなわち、本発明のパルス式ガス導入装置
は、通気性を有したタイトボックスの内側空間に連通す
る部位に開口する第1のガス導入系路と、前記タイトボ
ックスの外側空間に連通する部位に開口する第2のガス
導入系路と、前記タイトボックスの内側空間を排気する
排気系路と、前記第1、第2のガス導入系路をほぼ同時
に且つ間欠的にパルス状に開閉するとともに両系路を閉
じている間に前記排気系路を開く制御を行なう制御手段
とを具備してなることを特徴とする。
That is, the pulse-type gas introduction device of the present invention communicates with the first gas introduction system passage opened at a portion communicating with the inner space of the airtight tight box and the outer space of the tight box. The second gas introduction system passage opened to the site, the exhaust system passage for exhausting the inner space of the tight box, and the first and second gas introduction system passages are opened and closed substantially simultaneously and intermittently in a pulse shape. In addition, it is characterized by comprising control means for controlling the opening of the exhaust system passage while both system passages are closed.

【0008】[0008]

【作用】このような構成によると、制御手段を通じて第
1、第2のガス導入系路をほぼ同時に開にしたときに、
タイトボックスの内外空間に所定の処理ガスとフローガ
スがそれぞれ導入される。その時点では、タイトボック
スの内側空間における処理ガスの濃度はほぼ100%で
ある。その後、処理ガスが通気性を有したタイトボック
スを介してタイトボックスの外側空間に漏出する前に制
御手段を通じて排気系路を開にすると、タイトボックス
の内側空間の処理ガスが直接炉外に排出され始めるとと
もに、タイトボックスの外側空間から内側空間に徐々に
フローガスが流入してくる。したがって、これに伴い、
タイトボックスの内側空間における処理ガスの分圧に対
するフローガスの分圧が次第に高くなる。そして、タイ
トボックスの外側空間から内側空間にフローガスの大半
が流入した頃には、タイトボックスの内側空間に存在し
ていた処理ガスが殆ど炉外に排出され、後を追うように
してフローガスも炉外に排出される。この時点でタイト
ボックスの内外空間は真空排気された状態になる。そし
て、次のサイクルで、制御手段は排気系路を閉じ、再び
第1、第2のガス導入系路をほぼ同時に開にし、タイト
ボックスの内外空間に所定のガスを導入する。
According to this structure, when the first and second gas introduction system passages are opened almost simultaneously through the control means,
Predetermined processing gas and flow gas are introduced into the inner and outer spaces of the tight box, respectively. At that time, the concentration of the processing gas in the inner space of the tight box is almost 100%. After that, if the exhaust gas passage is opened through the control means before the processing gas leaks to the outer space of the tight box through the tight box having air permeability, the processing gas in the inner space of the tight box is directly discharged to the outside of the furnace. At the same time, the flow gas gradually flows from the outer space of the tight box into the inner space. Therefore, with this,
The partial pressure of the flow gas with respect to the partial pressure of the processing gas in the inner space of the tight box gradually increases. Then, when most of the flow gas flows from the outer space of the tight box to the inner space, most of the process gas existing in the inner space of the tight box is discharged to the outside of the furnace, so that the flow gas can be followed up. Is also discharged outside the furnace. At this point, the inner and outer spaces of the tight box are evacuated. Then, in the next cycle, the control means closes the exhaust system passage and opens the first and second gas introduction system passages almost at the same time again to introduce a predetermined gas into the inner and outer spaces of the tight box.

【0009】したがって、このようなサイクルを繰り返
すと、排気系路が作動したときに処理物はその内部にま
で真空排気され、その次に第1のガス導入系路を通じて
処理ガスがタイトボックスの内側空間に導入されたとき
に処理ガスが容易に処理物の内部にまで吸収、含浸され
ることになる。このように、本発明によると処理物を言
わばブリージング(呼吸)させることができ、その結
果、従来に比べて処理物の内部にまで有効にガスを接触
させて、所定の処理を適確に行わしめることが可能にな
る。勿論、処理ガスの存在がタイトボックスの内側空間
にのみ制限されることから、炉内汚染を惹起する不具合
も回避することができる。その上、このように処理ガス
を処理物に効率良く接触させることができることから、
ガスの消費量を節約でき、そのガスが起爆性のものであ
る場合にも使用量が少ないため炉の安全性を高めること
ができる。
Therefore, if such a cycle is repeated, the processed material is vacuum-exhausted to the inside when the exhaust system passage is activated, and then the processed gas is passed through the first gas introduction system passage to the inside of the tight box. When introduced into the space, the processing gas is easily absorbed and impregnated into the inside of the processed material. As described above, according to the present invention, it is possible to breathe the processed material, so that the gas is effectively contacted with the inside of the processed material as compared with the conventional case, and the predetermined processing is appropriately performed. It becomes possible to tighten. Of course, since the existence of the processing gas is limited only to the inner space of the tight box, it is possible to avoid the problem of causing contamination in the furnace. Moreover, since the processing gas can be efficiently brought into contact with the object to be processed in this way,
Gas consumption can be saved, and even if the gas is detonating, the amount used is small and the safety of the furnace can be improved.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の一実施例を、図面を参照して
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0011】このパルス式ガス導入装置が適用される炉
1は、図1に示すように、炉壁1aの内部に、処理物W
を挿脱する蓋2aを備えるとともに全体が多孔質の素材
からなりある程度の隙間も有したタイトボックス2を配
置している。そして、このタイトボックス2を、周囲に
配置したヒータ3によって加熱するようにしている。
As shown in FIG. 1, a furnace 1 to which this pulse-type gas introduction device is applied has a treatment object W inside a furnace wall 1a.
A tight box 2 is provided which is provided with a lid 2a for inserting / removing and is made of a porous material as a whole and has a certain gap. Then, the tight box 2 is heated by the heater 3 arranged around it.

【0012】このような炉1に対して、本実施例のパル
ス式ガス導入装置は、第1のガス導入系路4と、第2の
ガス導入系路5と、排気系路6と、制御手段たるコント
ローラ7とを具備して構成される。
For such a furnace 1, the pulse-type gas introduction device of this embodiment has a first gas introduction system passage 4, a second gas introduction system passage 5, an exhaust system passage 6, and a control system. And a controller 7 as means.

【0013】第1のガス導入系路4は、水素H2 やメタ
ンCH4 、アンモニアNH3 などの処理ガスXを充填し
たガスボンベ4aの供給端を排気系路6に接続してなる
もので、ガスボンベ4aからの処理ガスXの流量を調量
する流量調節弁4bと、当該系路4を開閉する弁4cと
をその途中にシリアルに介在させており、制御信号aに
応じて前記タイトボックス2の内側空間S1 に所定流量
の処理ガスXを導入するようになっている。第2のガス
導入系路5は、窒素N2 やAr等のフローガスYを充填
したガスボンベ5aの供給端を炉壁1aを貫通した部位
に連通させてなるもので、ガスボンベ5aからのフロー
ガスYの流量を調量する流量調節弁5bと、当該系路5
を開閉する弁5cとをその途中にシリアルに介在させて
おり、制御信号bに応じてタイトボックス2の外側空間
2 に所定流量のフローガスYを導入するようになって
いる。なお、これらの流量調節弁4b、5bが許容する
ガスX、Yの流量比Q1 、Q2 としては、例えば、タイ
トボックス2の内側空間S1 の容積をVI 、外側空間S
2 の容積をVO とした場合に、VI :VO に等しくなる
ように設定しておく。全圧は大気圧以下となるようにし
ておく。排気系路6は、タイトボックス2の内側空間S
1 を真空ポンプ6aの吸気口に接続してなるもので、制
御信号cに応じて系路を開閉する弁6bをその途中に介
在させ、またその弁6bの上流から分岐させた位置にチ
ェック弁6cを併設している。さらに、本実施例のもの
は、タイトボックス2の外側空間S2 を真空ポンプ6a
に接続する補助排気系路8が設けてあり、この補助排気
系路8は、制御信号dに応じて作動する弁8aと、メカ
ニカルブースタポンプ8bとをその途中にシリアルに介
在させている。
The first gas introduction system passage 4 is formed by connecting a supply end of a gas cylinder 4a filled with a processing gas X such as hydrogen H 2 , methane CH 4 and ammonia NH 3 to an exhaust system passage 6. A flow rate control valve 4b that controls the flow rate of the processing gas X from the gas cylinder 4a and a valve 4c that opens and closes the system path 4 are serially interposed in the middle thereof, and the tight box 2 is responsive to the control signal a. A processing gas X having a predetermined flow rate is introduced into the inner space S 1 of the. The second gas introduction passage 5 is formed by connecting the supply end of the gas cylinder 5a filled with the flow gas Y such as nitrogen N 2 or Ar to the portion penetrating the furnace wall 1a. A flow rate control valve 5b for controlling the flow rate of Y and the system path 5 concerned.
A valve 5c for opening and closing the valve is serially interposed in the middle thereof, and a predetermined flow rate of the flow gas Y is introduced into the outer space S 2 of the tight box 2 in accordance with the control signal b. The flow rate ratios Q 1 and Q 2 of the gases X and Y allowed by the flow rate control valves 4b and 5b are, for example, the volume of the inner space S 1 of the tight box 2 is V I , and the outer space S is
When the volume of 2 is V O , it is set to be equal to V I : V O. Keep the total pressure below atmospheric pressure. The exhaust system passage 6 has an inner space S of the tight box 2.
1 is connected to the intake port of the vacuum pump 6a, and a valve 6b that opens and closes the system according to the control signal c is interposed in the middle thereof, and a check valve is provided at a position branched from the upstream of the valve 6b. 6c is attached. Further, in this embodiment, the vacuum pump 6a is installed in the outer space S 2 of the tight box 2.
An auxiliary exhaust system passage 8 connected to is provided with a valve 8a that operates in response to a control signal d and a mechanical booster pump 8b that are serially interposed in the middle of the valve 8a.

【0014】そして、前記各弁4c、5c、6b、8a
をコントローラ7に接続している。このコントローラ7
は、例えばマイクロコンピュータシステムなどにより構
成されるもので、前記第1、第2のガス導入系路4、5
をほぼ同時に且つ間欠的にパルス状に開閉するととも
に、両系路4、5を閉じている間に前記排気系路6を開
くという制御を行なうための適宜のシーケンス制御プロ
グラムを格納しており、そのプログラムに沿って前記各
弁4c、5c、6b、8aに適時、制御信号a、b、
c、dを出力するようになっている。
Then, each of the valves 4c, 5c, 6b and 8a.
Are connected to the controller 7. This controller 7
Is constituted by, for example, a microcomputer system, and the first and second gas introduction system passages 4, 5 are provided.
Stores an appropriate sequence control program for controlling the opening and closing of the exhaust system path 6 while closing both system paths 4 and 5 at the same time and intermittently and intermittently. According to the program, the control signals a, b, and
It outputs c and d.

【0015】次に、本実施例の作動を、図1および図2
を参照して説明する。先ず、コントローラ7を通じて第
1、第2のガス導入系路4、5をほぼ同時に開にし、タ
イトボックス2の内外空間S1 、S2 にそれぞれ処理ガ
スXおよびフローガスYを導入する。その時点では、タ
イトボックス2の内側空間S1 における処理ガスXの濃
度はほぼ100%である。勿論、外側空間S2 における
フローガスYの濃度もほぼ100%である。その後、処
理ガスXが通気性を有したタイトボックス2を介して外
側空間S2 に流出する前にコントローラ7が排気系路6
を開にする。すると、タイトボックス2の内側空間S1
に存在する処理ガスXが真空ポンプ6aに引かれて直接
炉1の外に排出され始めるとともに、タイトボックス2
の外側空間S2 から内側空間S1 に徐々にフローガスY
が流入してくる。したがって、これに伴い、タイトボッ
クス2の内側空間S1 における処理ガスXの分圧に対す
るフローガスYの分圧が次第に高くなる。そして、タイ
トボックス2の外側空間S2 から内側空間S1 にフロー
ガスYの大半が流入した頃には、タイトボックス2の内
側空間S1 に存在していた処理ガスXが殆ど炉1の外に
排出され、後を追うようにしてフローガスYも炉1の外
に排出される。この時点でタイトボックス2の内外空間
1 、S2 は真空排気された状態になる。そして、次の
サイクルで、コントローラ7は排気系路6を閉じ、再び
第1、第2のガス導入系路4、5を開にし、タイトボッ
クス2の内外空間S1 、S2 に処理ガスXおよびフロー
ガスYを導入する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS.
Will be described with reference to. First, the first and second gas introduction system passages 4 and 5 are opened almost simultaneously through the controller 7, and the processing gas X and the flow gas Y are introduced into the inner and outer spaces S 1 and S 2 of the tight box 2 , respectively. At that time, the concentration of the processing gas X in the inner space S 1 of the tight box 2 is almost 100%. Of course, the concentration of the flow gas Y in the outer space S 2 is almost 100%. After that, before the processing gas X flows into the outer space S 2 through the tight box 2 having air permeability, the controller 7 sets the exhaust system passage 6
Open. Then, the inner space S 1 of the tight box 2
Process gas X existing in the tight box 2 is pulled by the vacuum pump 6a and directly discharged to the outside of the furnace 1.
Flow gas Y gradually from the outer space S 2 to the inner space S 1
Comes in. Therefore, along with this, the partial pressure of the flow gas Y with respect to the partial pressure of the processing gas X in the inner space S 1 of the tight box 2 gradually increases. Then, the time from the outer space S 2 tight box 2 inside the space S 1 is the majority of the flow gas Y has flowed in, outside of the processing gas X most furnace 1 which has been present inside the space S 1 tight box 2 Then, the flow gas Y is also discharged to the outside of the furnace 1 in the following manner. At this time, the inner and outer spaces S 1 and S 2 of the tight box 2 are evacuated. Then, in the next cycle, the controller 7 closes the exhaust system passage 6 and opens the first and second gas introduction system passages 4 and 5 again, and the process gas X is supplied to the inner and outer spaces S 1 and S 2 of the tight box 2. And the flow gas Y is introduced.

【0016】したがって、このようなサイクルを繰り返
すと、排気系路6が作動したときに処理物Wはその内部
にまで真空排気され、その次に第1のガス導入系路4を
通じて処理ガスXがタイトボックス2の内側空間S1
導入されたときに、処理ガスXが図3に示すように容易
に処理物Wの内部にまで吸収、含浸されることになる。
このように、本発明によると処理物Wを言わばブリージ
ング(呼吸)させることができ、その結果、図4に示す
ように処理ガスXが単に処理物Wの表面を撫でて通過す
るだけで内部にまで浸透しない従来手法に比べて、処理
物Wの内部にまで有効に処理ガスXを接触させることが
でき、所定の処理を適確に行わしめることが可能にな
る。勿論、処理ガスXがタイトボックス2の内側空間S
1 にのみ制限されることから、炉内汚染を惹起する不具
合も解消されることになる。その上、このように処理ガ
スXを処理物Wに効率良く接触させることができること
から、処理ガスXの消費量を節約でき、そのガスXが水
素H2 のような起爆性のものである場合にも使用量が少
ないため炉の安全性を高めることができる。
Therefore, if such a cycle is repeated, the processed material W is evacuated to the inside when the exhaust system path 6 is activated, and then the processing gas X is passed through the first gas introduction system path 4. When being introduced into the inner space S 1 of the tight box 2, the processing gas X is easily absorbed and impregnated into the inside of the processed material W as shown in FIG.
As described above, according to the present invention, the processed material W can be breathed, so to speak, and as a result, as shown in FIG. 4, the processing gas X simply strokes the surface of the processed material W and passes inside. Compared with the conventional method that does not penetrate, the processing gas X can be effectively brought into contact with the inside of the processing object W, and the predetermined processing can be performed accurately. Of course, the processing gas X is the inner space S of the tight box 2.
Since it is limited to 1 , problems that cause contamination in the furnace will also be resolved. Moreover, since the processing gas X can be efficiently brought into contact with the processing object W in this manner, the consumption amount of the processing gas X can be saved, and the gas X is an explosive one such as hydrogen H 2. Moreover, the safety of the furnace can be improved because the amount used is small.

【0017】なお、本発明は上述した実施例のみに限定
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で
種々変形が可能である。例えば、弁の開閉のタイミング
を若干ずらして効果を高めてもよい。一例として、フロ
ーガスを導入する時間を長くすることにより、処理ガス
Xをチェック弁6cを介して大気に放出した後に、フロ
ーガスYを真空ポンプ6aで排気するようにしてもよ
い。また、真空排気を十分に行ないたい時には、ある程
度排気が進行した時点でタイトボックス2の扉2aを開
け、弁8aを開き、補助排気系路8を作動させてもよ
い。タイトボックスの通気性を増加させるためにチェッ
ク弁を追加してもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, but various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the effect may be enhanced by slightly shifting the timing of opening and closing the valve. As an example, the flow gas Y may be exhausted by the vacuum pump 6a after the processing gas X is released to the atmosphere through the check valve 6c by prolonging the time for introducing the flow gas. In addition, when it is desired to perform sufficient vacuum exhaust, the door 2a of the tight box 2 may be opened, the valve 8a may be opened, and the auxiliary exhaust system passage 8 may be operated when exhaust has progressed to some extent. Check valves may be added to increase the tight box breathability.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように、処理ガ
スおよびフローガスをそれぞれタイトボックスの内外空
間にパルス状に導入し、しかる後、タイトボックスの内
側空間を真空排気するという動作を繰り返すことによ
り、処理物を言わばフリージング(呼吸)させることが
でき、その結果、従来に比べて処理物の内部にまで有効
にガスを接触させて、所定の処理を適確に行わしめるこ
とが可能になる。勿論、処理ガスの存在をタイトボック
スの内側空間にのみ制限することができるので、炉内汚
染も有効に防止することができる。また、このように処
理ガスを処理物に効率良く接触させることができること
から、ガスの消費量を節約でき、そのガスが起爆性のも
のである場合にも使用量が少ないため炉の安全性を高め
ることができる。
As described above, the present invention repeats the operation of introducing the processing gas and the flow gas into the inner and outer spaces of the tight box in a pulsed manner and then evacuating the inner space of the tight box. By doing so, the processed product can be freezing (breathing), and as a result, the gas can be effectively contacted to the inside of the processed product compared to the conventional method, and the predetermined processing can be performed accurately. Become. Of course, since the existence of the processing gas can be limited only to the inner space of the tight box, the contamination in the furnace can be effectively prevented. In addition, since the process gas can be efficiently brought into contact with the object to be processed in this way, the gas consumption can be saved, and even if the gas is explosive, the amount used is small and the safety of the furnace is improved. Can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す概略的な構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例におけるガス導入のタイミングを示す
グラフ。
FIG. 2 is a graph showing a gas introduction timing in the example.

【図3】同実施例によって処理物がブリージングする様
子を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing how the processed product breathes according to the embodiment.

【図4】従来装置によって処理物にガスが接触する様子
を示す図3に対応した図。
FIG. 4 is a view corresponding to FIG. 3, showing a state in which a gas comes into contact with a processed material by a conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 …内側空間 S2 …外側空間 2…タイトボックス 4…第1のガス導入系路 5…第2のガス導入系路 6…排気系路 7…制御手段(コントローラ)S 1 ... Inner space S 2 ... Outer space 2 ... Tight box 4 ... First gas introduction system path 5 ... Second gas introduction system path 6 ... Exhaust system path 7 ... Control means (controller)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】通気性を有したタイトボックスの内側空間
に連通する部位に開口する第1のガス導入系路と、前記
タイトボックスの外側空間に連通する部位に開口する第
2のガス導入系路と、前記タイトボックスの内側空間を
排気する排気系路と、前記第1、第2のガス導入系路を
ほぼ同時に且つ間欠的にパルス状に開閉するとともに両
系路を閉じている間に前記排気系路を開く制御を行なう
制御手段とを具備してなることを特徴とするパルス式ガ
ス導入装置。
1. A first gas introduction system passage opening at a site communicating with the inner space of a tight box having air permeability, and a second gas introduction system opening at a site communicating with the outer space of the tight box. A passage, an exhaust system passage for exhausting the inner space of the tight box, and the first and second gas introduction system passages are opened and closed at substantially the same time and intermittently in a pulse shape, and both passages are closed. A pulse-type gas introduction device comprising: a control unit that controls the opening of the exhaust system passage.
JP16767592A 1992-06-25 1992-06-25 Pulse type gas introduction device Pending JPH0611274A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002107066A (en) * 2000-09-28 2002-04-10 Shinwa Jitsugyo Kk Heat treatment furnace and its operation method

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