JPH0611274A - パルス式ガス導入装置 - Google Patents
パルス式ガス導入装置Info
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- JPH0611274A JPH0611274A JP16767592A JP16767592A JPH0611274A JP H0611274 A JPH0611274 A JP H0611274A JP 16767592 A JP16767592 A JP 16767592A JP 16767592 A JP16767592 A JP 16767592A JP H0611274 A JPH0611274 A JP H0611274A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】処理物の内部にまで所定濃度の処理ガスを有効
に接触させることができ、処理ガスの使用量も節約で
き、炉の安全性も高めることができるようにする。 【構成】処理ガスＸおよびフローガスＹをそれぞれタイ
トボックス２の内外空間Ｓ1 、Ｓ2 にほぼ同時にパルス
状に導入し、しかる後、タイトボックス２の内側空間Ｓ
1 を排気系路６を介して真空排気するという制御をコン
トローラ７からの命令を通じて繰り返す。
に接触させることができ、処理ガスの使用量も節約で
き、炉の安全性も高めることができるようにする。 【構成】処理ガスＸおよびフローガスＹをそれぞれタイ
トボックス２の内外空間Ｓ1 、Ｓ2 にほぼ同時にパルス
状に導入し、しかる後、タイトボックス２の内側空間Ｓ
1 を排気系路６を介して真空排気するという制御をコン
トローラ７からの命令を通じて繰り返す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、焼結炉を始めとする各
種の工業炉一般に適用して、処理物の含有酸素量、炭素
量、窒素量などを適切にコントロールすることができる
パルス式ガス導入装置に関するものである。
種の工業炉一般に適用して、処理物の含有酸素量、炭素
量、窒素量などを適切にコントロールすることができる
パルス式ガス導入装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、従来の脱脂・焼結炉において
は、脱脂後、焼結開始前の段階で、処理物に含まれる含
有炭素量をコントロールする処理が行なわれることがあ
る。すなわち、脱脂後のブラウン体においてはある程度
のバインダーが処理物中に残留しているのが通例であ
り、ステンレスの射出成形にあってはこのような残留炭
素をことごとく嫌うし、超硬合金の射出成形にあっては
高い強度を得るために含有炭素を過不足なく所定比率で
含んでいることが要求される。このような事情から、脱
脂後、焼結開始前において、処理物にたとえば水素など
の処理ガスを接触させ、粒子間に残存するバインダーを
洗い流し炭素量をコントロールするようにしている。
は、脱脂後、焼結開始前の段階で、処理物に含まれる含
有炭素量をコントロールする処理が行なわれることがあ
る。すなわち、脱脂後のブラウン体においてはある程度
のバインダーが処理物中に残留しているのが通例であ
り、ステンレスの射出成形にあってはこのような残留炭
素をことごとく嫌うし、超硬合金の射出成形にあっては
高い強度を得るために含有炭素を過不足なく所定比率で
含んでいることが要求される。このような事情から、脱
脂後、焼結開始前において、処理物にたとえば水素など
の処理ガスを接触させ、粒子間に残存するバインダーを
洗い流し炭素量をコントロールするようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、そのような
処理を行なうための従来装置は、ヒータや断熱材などの
炉材が処理ガスと反応し炉内汚染が発生する事態を防止
する観点より、通気性を有したタイトボックスの内側空
間に連通する部位に開口する第１のガス導入系路と、前
記タイトボックスの外側空間に連通する部位に開口する
第２のガス導入系路と、前記タイトボックスの内側空間
を排気する排気系路とを備えてなるのが一般的である。
すなわち、このものは水素などの処理ガスを第１のガス
導入系路を通じてタイトボックス内に導入するととも
に、窒素などのフローガスを第２のガス導入系路を通じ
てタイトボックス外に導入し、このときフローガスを処
理ガスよりも高圧に設定しておき、これらのガス導入に
並行してタイトボックスの内側空間を排気系路を通じて
排気することにより、炉内にタイトボックスの外側空間
から内側空間に向かう定常的なフローガスの流れを生ぜ
しめ、この流れに沿って、タイトボックスの内側空間に
導入される危険度の高い処理ガスや該タイトボックスの
内側空間で発生するワックスベーパなどをタイトボック
スの外側空間に漏出させることなく、排気系路を通じて
直接炉外に排出せしめるようにしている。
処理を行なうための従来装置は、ヒータや断熱材などの
炉材が処理ガスと反応し炉内汚染が発生する事態を防止
する観点より、通気性を有したタイトボックスの内側空
間に連通する部位に開口する第１のガス導入系路と、前
記タイトボックスの外側空間に連通する部位に開口する
第２のガス導入系路と、前記タイトボックスの内側空間
を排気する排気系路とを備えてなるのが一般的である。
すなわち、このものは水素などの処理ガスを第１のガス
導入系路を通じてタイトボックス内に導入するととも
に、窒素などのフローガスを第２のガス導入系路を通じ
てタイトボックス外に導入し、このときフローガスを処
理ガスよりも高圧に設定しておき、これらのガス導入に
並行してタイトボックスの内側空間を排気系路を通じて
排気することにより、炉内にタイトボックスの外側空間
から内側空間に向かう定常的なフローガスの流れを生ぜ
しめ、この流れに沿って、タイトボックスの内側空間に
導入される危険度の高い処理ガスや該タイトボックスの
内側空間で発生するワックスベーパなどをタイトボック
スの外側空間に漏出させることなく、排気系路を通じて
直接炉外に排出せしめるようにしている。
【０００４】ところが、このような構成のものでは、タ
イトボックスの内側空間に導入される処理ガスが常にフ
ローガスで希釈された状態となる。このため、高濃度の
処理ガスを処理物に接触させることが難しいという問題
がある。また、フローガスの流入量によってタイトボッ
クスの内側空間における処理ガスの濃度が微妙に変化す
るので、その濃度設定が極めて難しいという不具合もあ
る。さらに、処理ガスはフローガスの流れに沿って処理
物の表面を撫でて通過するだけであるから、処理物の内
部にまでガスを含浸させることが難しいという問題も抱
える。その上、このようにガスの接触が非効率的である
と、処理ガスが多量に必要になり、コスト高となる不具
合や、そのガスが起爆性のものである場合に危険度が高
くなるという不具合も抱える。
イトボックスの内側空間に導入される処理ガスが常にフ
ローガスで希釈された状態となる。このため、高濃度の
処理ガスを処理物に接触させることが難しいという問題
がある。また、フローガスの流入量によってタイトボッ
クスの内側空間における処理ガスの濃度が微妙に変化す
るので、その濃度設定が極めて難しいという不具合もあ
る。さらに、処理ガスはフローガスの流れに沿って処理
物の表面を撫でて通過するだけであるから、処理物の内
部にまでガスを含浸させることが難しいという問題も抱
える。その上、このようにガスの接触が非効率的である
と、処理ガスが多量に必要になり、コスト高となる不具
合や、そのガスが起爆性のものである場合に危険度が高
くなるという不具合も抱える。
【０００５】本発明は、このような課題に着目してなさ
れたものであって、処理物の内部にまで所要濃度の処理
ガスを有効に接触させることができ、処理ガスの使用量
も節約でき、炉の安全性も高めることができるようにし
たパルス式ガス導入装置を提供することを目的としてい
る。
れたものであって、処理物の内部にまで所要濃度の処理
ガスを有効に接触させることができ、処理ガスの使用量
も節約でき、炉の安全性も高めることができるようにし
たパルス式ガス導入装置を提供することを目的としてい
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
達成するために、次のような構成を採用したものであ
る。
【０００７】すなわち、本発明のパルス式ガス導入装置
は、通気性を有したタイトボックスの内側空間に連通す
る部位に開口する第１のガス導入系路と、前記タイトボ
ックスの外側空間に連通する部位に開口する第２のガス
導入系路と、前記タイトボックスの内側空間を排気する
排気系路と、前記第１、第２のガス導入系路をほぼ同時
に且つ間欠的にパルス状に開閉するとともに両系路を閉
じている間に前記排気系路を開く制御を行なう制御手段
とを具備してなることを特徴とする。
は、通気性を有したタイトボックスの内側空間に連通す
る部位に開口する第１のガス導入系路と、前記タイトボ
ックスの外側空間に連通する部位に開口する第２のガス
導入系路と、前記タイトボックスの内側空間を排気する
排気系路と、前記第１、第２のガス導入系路をほぼ同時
に且つ間欠的にパルス状に開閉するとともに両系路を閉
じている間に前記排気系路を開く制御を行なう制御手段
とを具備してなることを特徴とする。
【０００８】
【作用】このような構成によると、制御手段を通じて第
１、第２のガス導入系路をほぼ同時に開にしたときに、
タイトボックスの内外空間に所定の処理ガスとフローガ
スがそれぞれ導入される。その時点では、タイトボック
スの内側空間における処理ガスの濃度はほぼ１００％で
ある。その後、処理ガスが通気性を有したタイトボック
スを介してタイトボックスの外側空間に漏出する前に制
御手段を通じて排気系路を開にすると、タイトボックス
の内側空間の処理ガスが直接炉外に排出され始めるとと
もに、タイトボックスの外側空間から内側空間に徐々に
フローガスが流入してくる。したがって、これに伴い、
タイトボックスの内側空間における処理ガスの分圧に対
するフローガスの分圧が次第に高くなる。そして、タイ
トボックスの外側空間から内側空間にフローガスの大半
が流入した頃には、タイトボックスの内側空間に存在し
ていた処理ガスが殆ど炉外に排出され、後を追うように
してフローガスも炉外に排出される。この時点でタイト
ボックスの内外空間は真空排気された状態になる。そし
て、次のサイクルで、制御手段は排気系路を閉じ、再び
第１、第２のガス導入系路をほぼ同時に開にし、タイト
ボックスの内外空間に所定のガスを導入する。
１、第２のガス導入系路をほぼ同時に開にしたときに、
タイトボックスの内外空間に所定の処理ガスとフローガ
スがそれぞれ導入される。その時点では、タイトボック
スの内側空間における処理ガスの濃度はほぼ１００％で
ある。その後、処理ガスが通気性を有したタイトボック
スを介してタイトボックスの外側空間に漏出する前に制
御手段を通じて排気系路を開にすると、タイトボックス
の内側空間の処理ガスが直接炉外に排出され始めるとと
もに、タイトボックスの外側空間から内側空間に徐々に
フローガスが流入してくる。したがって、これに伴い、
タイトボックスの内側空間における処理ガスの分圧に対
するフローガスの分圧が次第に高くなる。そして、タイ
トボックスの外側空間から内側空間にフローガスの大半
が流入した頃には、タイトボックスの内側空間に存在し
ていた処理ガスが殆ど炉外に排出され、後を追うように
してフローガスも炉外に排出される。この時点でタイト
ボックスの内外空間は真空排気された状態になる。そし
て、次のサイクルで、制御手段は排気系路を閉じ、再び
第１、第２のガス導入系路をほぼ同時に開にし、タイト
ボックスの内外空間に所定のガスを導入する。
【０００９】したがって、このようなサイクルを繰り返
すと、排気系路が作動したときに処理物はその内部にま
で真空排気され、その次に第１のガス導入系路を通じて
処理ガスがタイトボックスの内側空間に導入されたとき
に処理ガスが容易に処理物の内部にまで吸収、含浸され
ることになる。このように、本発明によると処理物を言
わばブリージング（呼吸）させることができ、その結
果、従来に比べて処理物の内部にまで有効にガスを接触
させて、所定の処理を適確に行わしめることが可能にな
る。勿論、処理ガスの存在がタイトボックスの内側空間
にのみ制限されることから、炉内汚染を惹起する不具合
も回避することができる。その上、このように処理ガス
を処理物に効率良く接触させることができることから、
ガスの消費量を節約でき、そのガスが起爆性のものであ
る場合にも使用量が少ないため炉の安全性を高めること
ができる。
すと、排気系路が作動したときに処理物はその内部にま
で真空排気され、その次に第１のガス導入系路を通じて
処理ガスがタイトボックスの内側空間に導入されたとき
に処理ガスが容易に処理物の内部にまで吸収、含浸され
ることになる。このように、本発明によると処理物を言
わばブリージング（呼吸）させることができ、その結
果、従来に比べて処理物の内部にまで有効にガスを接触
させて、所定の処理を適確に行わしめることが可能にな
る。勿論、処理ガスの存在がタイトボックスの内側空間
にのみ制限されることから、炉内汚染を惹起する不具合
も回避することができる。その上、このように処理ガス
を処理物に効率良く接触させることができることから、
ガスの消費量を節約でき、そのガスが起爆性のものであ
る場合にも使用量が少ないため炉の安全性を高めること
ができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図面を参照して
説明する。
説明する。
【００１１】このパルス式ガス導入装置が適用される炉
１は、図１に示すように、炉壁１ａの内部に、処理物Ｗ
を挿脱する蓋２ａを備えるとともに全体が多孔質の素材
からなりある程度の隙間も有したタイトボックス２を配
置している。そして、このタイトボックス２を、周囲に
配置したヒータ３によって加熱するようにしている。
１は、図１に示すように、炉壁１ａの内部に、処理物Ｗ
を挿脱する蓋２ａを備えるとともに全体が多孔質の素材
からなりある程度の隙間も有したタイトボックス２を配
置している。そして、このタイトボックス２を、周囲に
配置したヒータ３によって加熱するようにしている。
【００１２】このような炉１に対して、本実施例のパル
ス式ガス導入装置は、第１のガス導入系路４と、第２の
ガス導入系路５と、排気系路６と、制御手段たるコント
ローラ７とを具備して構成される。
ス式ガス導入装置は、第１のガス導入系路４と、第２の
ガス導入系路５と、排気系路６と、制御手段たるコント
ローラ７とを具備して構成される。
【００１３】第１のガス導入系路４は、水素Ｈ2 やメタ
ンＣＨ4 、アンモニアＮＨ3 などの処理ガスＸを充填し
たガスボンベ４ａの供給端を排気系路６に接続してなる
もので、ガスボンベ４ａからの処理ガスＸの流量を調量
する流量調節弁４ｂと、当該系路４を開閉する弁４ｃと
をその途中にシリアルに介在させており、制御信号ａに
応じて前記タイトボックス２の内側空間Ｓ1 に所定流量
の処理ガスＸを導入するようになっている。第２のガス
導入系路５は、窒素Ｎ2 やＡｒ等のフローガスＹを充填
したガスボンベ５ａの供給端を炉壁１ａを貫通した部位
に連通させてなるもので、ガスボンベ５ａからのフロー
ガスＹの流量を調量する流量調節弁５ｂと、当該系路５
を開閉する弁５ｃとをその途中にシリアルに介在させて
おり、制御信号ｂに応じてタイトボックス２の外側空間
Ｓ2 に所定流量のフローガスＹを導入するようになって
いる。なお、これらの流量調節弁４ｂ、５ｂが許容する
ガスＸ、Ｙの流量比Ｑ1 、Ｑ2 としては、例えば、タイ
トボックス２の内側空間Ｓ1 の容積をＶI 、外側空間Ｓ
2 の容積をＶO とした場合に、ＶI ：ＶO に等しくなる
ように設定しておく。全圧は大気圧以下となるようにし
ておく。排気系路６は、タイトボックス２の内側空間Ｓ
1 を真空ポンプ６ａの吸気口に接続してなるもので、制
御信号ｃに応じて系路を開閉する弁６ｂをその途中に介
在させ、またその弁６ｂの上流から分岐させた位置にチ
ェック弁６ｃを併設している。さらに、本実施例のもの
は、タイトボックス２の外側空間Ｓ2 を真空ポンプ６ａ
に接続する補助排気系路８が設けてあり、この補助排気
系路８は、制御信号ｄに応じて作動する弁８ａと、メカ
ニカルブースタポンプ８ｂとをその途中にシリアルに介
在させている。
ンＣＨ4 、アンモニアＮＨ3 などの処理ガスＸを充填し
たガスボンベ４ａの供給端を排気系路６に接続してなる
もので、ガスボンベ４ａからの処理ガスＸの流量を調量
する流量調節弁４ｂと、当該系路４を開閉する弁４ｃと
をその途中にシリアルに介在させており、制御信号ａに
応じて前記タイトボックス２の内側空間Ｓ1 に所定流量
の処理ガスＸを導入するようになっている。第２のガス
導入系路５は、窒素Ｎ2 やＡｒ等のフローガスＹを充填
したガスボンベ５ａの供給端を炉壁１ａを貫通した部位
に連通させてなるもので、ガスボンベ５ａからのフロー
ガスＹの流量を調量する流量調節弁５ｂと、当該系路５
を開閉する弁５ｃとをその途中にシリアルに介在させて
おり、制御信号ｂに応じてタイトボックス２の外側空間
Ｓ2 に所定流量のフローガスＹを導入するようになって
いる。なお、これらの流量調節弁４ｂ、５ｂが許容する
ガスＸ、Ｙの流量比Ｑ1 、Ｑ2 としては、例えば、タイ
トボックス２の内側空間Ｓ1 の容積をＶI 、外側空間Ｓ
2 の容積をＶO とした場合に、ＶI ：ＶO に等しくなる
ように設定しておく。全圧は大気圧以下となるようにし
ておく。排気系路６は、タイトボックス２の内側空間Ｓ
1 を真空ポンプ６ａの吸気口に接続してなるもので、制
御信号ｃに応じて系路を開閉する弁６ｂをその途中に介
在させ、またその弁６ｂの上流から分岐させた位置にチ
ェック弁６ｃを併設している。さらに、本実施例のもの
は、タイトボックス２の外側空間Ｓ2 を真空ポンプ６ａ
に接続する補助排気系路８が設けてあり、この補助排気
系路８は、制御信号ｄに応じて作動する弁８ａと、メカ
ニカルブースタポンプ８ｂとをその途中にシリアルに介
在させている。
【００１４】そして、前記各弁４ｃ、５ｃ、６ｂ、８ａ
をコントローラ７に接続している。このコントローラ７
は、例えばマイクロコンピュータシステムなどにより構
成されるもので、前記第１、第２のガス導入系路４、５
をほぼ同時に且つ間欠的にパルス状に開閉するととも
に、両系路４、５を閉じている間に前記排気系路６を開
くという制御を行なうための適宜のシーケンス制御プロ
グラムを格納しており、そのプログラムに沿って前記各
弁４ｃ、５ｃ、６ｂ、８ａに適時、制御信号ａ、ｂ、
ｃ、ｄを出力するようになっている。
をコントローラ７に接続している。このコントローラ７
は、例えばマイクロコンピュータシステムなどにより構
成されるもので、前記第１、第２のガス導入系路４、５
をほぼ同時に且つ間欠的にパルス状に開閉するととも
に、両系路４、５を閉じている間に前記排気系路６を開
くという制御を行なうための適宜のシーケンス制御プロ
グラムを格納しており、そのプログラムに沿って前記各
弁４ｃ、５ｃ、６ｂ、８ａに適時、制御信号ａ、ｂ、
ｃ、ｄを出力するようになっている。
【００１５】次に、本実施例の作動を、図１および図２
を参照して説明する。先ず、コントローラ７を通じて第
１、第２のガス導入系路４、５をほぼ同時に開にし、タ
イトボックス２の内外空間Ｓ1 、Ｓ2 にそれぞれ処理ガ
スＸおよびフローガスＹを導入する。その時点では、タ
イトボックス２の内側空間Ｓ1 における処理ガスＸの濃
度はほぼ１００％である。勿論、外側空間Ｓ2 における
フローガスＹの濃度もほぼ１００％である。その後、処
理ガスＸが通気性を有したタイトボックス２を介して外
側空間Ｓ2 に流出する前にコントローラ７が排気系路６
を開にする。すると、タイトボックス２の内側空間Ｓ1
に存在する処理ガスＸが真空ポンプ６ａに引かれて直接
炉１の外に排出され始めるとともに、タイトボックス２
の外側空間Ｓ2 から内側空間Ｓ1 に徐々にフローガスＹ
が流入してくる。したがって、これに伴い、タイトボッ
クス２の内側空間Ｓ1 における処理ガスＸの分圧に対す
るフローガスＹの分圧が次第に高くなる。そして、タイ
トボックス２の外側空間Ｓ2 から内側空間Ｓ1 にフロー
ガスＹの大半が流入した頃には、タイトボックス２の内
側空間Ｓ1 に存在していた処理ガスＸが殆ど炉１の外に
排出され、後を追うようにしてフローガスＹも炉１の外
に排出される。この時点でタイトボックス２の内外空間
Ｓ1 、Ｓ2 は真空排気された状態になる。そして、次の
サイクルで、コントローラ７は排気系路６を閉じ、再び
第１、第２のガス導入系路４、５を開にし、タイトボッ
クス２の内外空間Ｓ1 、Ｓ2 に処理ガスＸおよびフロー
ガスＹを導入する。
を参照して説明する。先ず、コントローラ７を通じて第
１、第２のガス導入系路４、５をほぼ同時に開にし、タ
イトボックス２の内外空間Ｓ1 、Ｓ2 にそれぞれ処理ガ
スＸおよびフローガスＹを導入する。その時点では、タ
イトボックス２の内側空間Ｓ1 における処理ガスＸの濃
度はほぼ１００％である。勿論、外側空間Ｓ2 における
フローガスＹの濃度もほぼ１００％である。その後、処
理ガスＸが通気性を有したタイトボックス２を介して外
側空間Ｓ2 に流出する前にコントローラ７が排気系路６
を開にする。すると、タイトボックス２の内側空間Ｓ1
に存在する処理ガスＸが真空ポンプ６ａに引かれて直接
炉１の外に排出され始めるとともに、タイトボックス２
の外側空間Ｓ2 から内側空間Ｓ1 に徐々にフローガスＹ
が流入してくる。したがって、これに伴い、タイトボッ
クス２の内側空間Ｓ1 における処理ガスＸの分圧に対す
るフローガスＹの分圧が次第に高くなる。そして、タイ
トボックス２の外側空間Ｓ2 から内側空間Ｓ1 にフロー
ガスＹの大半が流入した頃には、タイトボックス２の内
側空間Ｓ1 に存在していた処理ガスＸが殆ど炉１の外に
排出され、後を追うようにしてフローガスＹも炉１の外
に排出される。この時点でタイトボックス２の内外空間
Ｓ1 、Ｓ2 は真空排気された状態になる。そして、次の
サイクルで、コントローラ７は排気系路６を閉じ、再び
第１、第２のガス導入系路４、５を開にし、タイトボッ
クス２の内外空間Ｓ1 、Ｓ2 に処理ガスＸおよびフロー
ガスＹを導入する。
【００１６】したがって、このようなサイクルを繰り返
すと、排気系路６が作動したときに処理物Ｗはその内部
にまで真空排気され、その次に第１のガス導入系路４を
通じて処理ガスＸがタイトボックス２の内側空間Ｓ1 に
導入されたときに、処理ガスＸが図３に示すように容易
に処理物Ｗの内部にまで吸収、含浸されることになる。
このように、本発明によると処理物Ｗを言わばブリージ
ング（呼吸）させることができ、その結果、図４に示す
ように処理ガスＸが単に処理物Ｗの表面を撫でて通過す
るだけで内部にまで浸透しない従来手法に比べて、処理
物Ｗの内部にまで有効に処理ガスＸを接触させることが
でき、所定の処理を適確に行わしめることが可能にな
る。勿論、処理ガスＸがタイトボックス２の内側空間Ｓ
1 にのみ制限されることから、炉内汚染を惹起する不具
合も解消されることになる。その上、このように処理ガ
スＸを処理物Ｗに効率良く接触させることができること
から、処理ガスＸの消費量を節約でき、そのガスＸが水
素Ｈ2 のような起爆性のものである場合にも使用量が少
ないため炉の安全性を高めることができる。
すと、排気系路６が作動したときに処理物Ｗはその内部
にまで真空排気され、その次に第１のガス導入系路４を
通じて処理ガスＸがタイトボックス２の内側空間Ｓ1 に
導入されたときに、処理ガスＸが図３に示すように容易
に処理物Ｗの内部にまで吸収、含浸されることになる。
このように、本発明によると処理物Ｗを言わばブリージ
ング（呼吸）させることができ、その結果、図４に示す
ように処理ガスＸが単に処理物Ｗの表面を撫でて通過す
るだけで内部にまで浸透しない従来手法に比べて、処理
物Ｗの内部にまで有効に処理ガスＸを接触させることが
でき、所定の処理を適確に行わしめることが可能にな
る。勿論、処理ガスＸがタイトボックス２の内側空間Ｓ
1 にのみ制限されることから、炉内汚染を惹起する不具
合も解消されることになる。その上、このように処理ガ
スＸを処理物Ｗに効率良く接触させることができること
から、処理ガスＸの消費量を節約でき、そのガスＸが水
素Ｈ2 のような起爆性のものである場合にも使用量が少
ないため炉の安全性を高めることができる。
【００１７】なお、本発明は上述した実施例のみに限定
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で
種々変形が可能である。例えば、弁の開閉のタイミング
を若干ずらして効果を高めてもよい。一例として、フロ
ーガスを導入する時間を長くすることにより、処理ガス
Ｘをチェック弁６ｃを介して大気に放出した後に、フロ
ーガスＹを真空ポンプ６ａで排気するようにしてもよ
い。また、真空排気を十分に行ないたい時には、ある程
度排気が進行した時点でタイトボックス２の扉２ａを開
け、弁８ａを開き、補助排気系路８を作動させてもよ
い。タイトボックスの通気性を増加させるためにチェッ
ク弁を追加してもよい。
されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で
種々変形が可能である。例えば、弁の開閉のタイミング
を若干ずらして効果を高めてもよい。一例として、フロ
ーガスを導入する時間を長くすることにより、処理ガス
Ｘをチェック弁６ｃを介して大気に放出した後に、フロ
ーガスＹを真空ポンプ６ａで排気するようにしてもよ
い。また、真空排気を十分に行ないたい時には、ある程
度排気が進行した時点でタイトボックス２の扉２ａを開
け、弁８ａを開き、補助排気系路８を作動させてもよ
い。タイトボックスの通気性を増加させるためにチェッ
ク弁を追加してもよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、処理ガ
スおよびフローガスをそれぞれタイトボックスの内外空
間にパルス状に導入し、しかる後、タイトボックスの内
側空間を真空排気するという動作を繰り返すことによ
り、処理物を言わばフリージング（呼吸）させることが
でき、その結果、従来に比べて処理物の内部にまで有効
にガスを接触させて、所定の処理を適確に行わしめるこ
とが可能になる。勿論、処理ガスの存在をタイトボック
スの内側空間にのみ制限することができるので、炉内汚
染も有効に防止することができる。また、このように処
理ガスを処理物に効率良く接触させることができること
から、ガスの消費量を節約でき、そのガスが起爆性のも
のである場合にも使用量が少ないため炉の安全性を高め
ることができる。
スおよびフローガスをそれぞれタイトボックスの内外空
間にパルス状に導入し、しかる後、タイトボックスの内
側空間を真空排気するという動作を繰り返すことによ
り、処理物を言わばフリージング（呼吸）させることが
でき、その結果、従来に比べて処理物の内部にまで有効
にガスを接触させて、所定の処理を適確に行わしめるこ
とが可能になる。勿論、処理ガスの存在をタイトボック
スの内側空間にのみ制限することができるので、炉内汚
染も有効に防止することができる。また、このように処
理ガスを処理物に効率良く接触させることができること
から、ガスの消費量を節約でき、そのガスが起爆性のも
のである場合にも使用量が少ないため炉の安全性を高め
ることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略的な構成図。
【図２】同実施例におけるガス導入のタイミングを示す
グラフ。
グラフ。
【図３】同実施例によって処理物がブリージングする様
子を示す図。
子を示す図。
【図４】従来装置によって処理物にガスが接触する様子
を示す図３に対応した図。
を示す図３に対応した図。
Ｓ1 …内側空間 Ｓ2 …外側空間 ２…タイトボックス ４…第１のガス導入系路 ５…第２のガス導入系路 ６…排気系路 ７…制御手段（コントローラ）
Claims (1)
- 【請求項１】通気性を有したタイトボックスの内側空間
に連通する部位に開口する第１のガス導入系路と、前記
タイトボックスの外側空間に連通する部位に開口する第
２のガス導入系路と、前記タイトボックスの内側空間を
排気する排気系路と、前記第１、第２のガス導入系路を
ほぼ同時に且つ間欠的にパルス状に開閉するとともに両
系路を閉じている間に前記排気系路を開く制御を行なう
制御手段とを具備してなることを特徴とするパルス式ガ
ス導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16767592A JPH0611274A (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | パルス式ガス導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16767592A JPH0611274A (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | パルス式ガス導入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0611274A true JPH0611274A (ja) | 1994-01-21 |
Family
ID=15854140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16767592A Pending JPH0611274A (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | パルス式ガス導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0611274A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107066A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Shinwa Jitsugyo Kk | 熱処理炉及びその操業方法 |
-
1992
- 1992-06-25 JP JP16767592A patent/JPH0611274A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107066A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Shinwa Jitsugyo Kk | 熱処理炉及びその操業方法 |
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