JPH06114377A - 紫外線比例塩素剤自動注入装置 - Google Patents
紫外線比例塩素剤自動注入装置Info
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- JPH06114377A JPH06114377A JP29375392A JP29375392A JPH06114377A JP H06114377 A JPH06114377 A JP H06114377A JP 29375392 A JP29375392 A JP 29375392A JP 29375392 A JP29375392 A JP 29375392A JP H06114377 A JPH06114377 A JP H06114377A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線量を検出することによって、塩素剤注
入量を補正し、適正な塩素剤注入量を達成する。 【構成】 前塩素処理工程において、塩素剤注入量演算
手段によって演算された塩素剤注入量を、紫外線検出手
段によって検出された紫外線量に基づいて注入量補正手
段によって補正し、この補正された塩素注入量にしたが
って塩素剤注入制御手段によって塩素剤を注入する。
入量を補正し、適正な塩素剤注入量を達成する。 【構成】 前塩素処理工程において、塩素剤注入量演算
手段によって演算された塩素剤注入量を、紫外線検出手
段によって検出された紫外線量に基づいて注入量補正手
段によって補正し、この補正された塩素注入量にしたが
って塩素剤注入制御手段によって塩素剤を注入する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、原水に塩素剤を注入
する前塩素処理工程を持つ浄水処理工程にあって、前塩
素処理工程における紫外線比例塩素剤自動注入装置に関
する。
する前塩素処理工程を持つ浄水処理工程にあって、前塩
素処理工程における紫外線比例塩素剤自動注入装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】水道水の消毒は、飲料水の安全を確保す
るために、水中の病原生物を除去すると共に、配水系統
における不測の汚染から水道水を防護することを目的と
して行うもので、通常の浄水方法（例えば、沈澱、濾過
等）では、水中の細菌類を完全に除去することは難しい
ために、一般には浄水処理工程の最終段階で濾過水に塩
素剤を注入（後塩素処理）して殺菌するようになってい
る。
るために、水中の病原生物を除去すると共に、配水系統
における不測の汚染から水道水を防護することを目的と
して行うもので、通常の浄水方法（例えば、沈澱、濾過
等）では、水中の細菌類を完全に除去することは難しい
ために、一般には浄水処理工程の最終段階で濾過水に塩
素剤を注入（後塩素処理）して殺菌するようになってい
る。
【０００３】塩素剤の使用は、「水道法施行規則（昭和
３２年厚生省令第４５号）」及びこれに関連する「厚生
省環境衛生局長通達」によって定められており、消毒効
果が確実で大量の水を容易に消毒でき、また消毒の効果
が残留する利点を有するものである。
３２年厚生省令第４５号）」及びこれに関連する「厚生
省環境衛生局長通達」によって定められており、消毒効
果が確実で大量の水を容易に消毒でき、また消毒の効果
が残留する利点を有するものである。
【０００４】しかし、近年水道水源の汚濁が進み、最終
段階による消毒のみでは飲料水の安全確保が難しい状況
から、処理前の原水に塩素剤を注入（前塩素処理）し、
浄水処理を行っているが、この前塩素処理による浄水方
法においては、トリハロメタン（総称）の生成が問題と
なっている。
段階による消毒のみでは飲料水の安全確保が難しい状況
から、処理前の原水に塩素剤を注入（前塩素処理）し、
浄水処理を行っているが、この前塩素処理による浄水方
法においては、トリハロメタン（総称）の生成が問題と
なっている。
【０００５】水道水のトリハロメタンは、浄水処理に不
可欠な過程である塩素処理工程で、自然界に由来するフ
ミン酸またはフルボ酸などのフミン質（腐植質）等の原
水中の有機物質と遊離残留塩素が化学反応して生成され
る有機塩素化合物で、発ガン性があり、健康への影響が
問題となっていることから、トリハロメタンの生成を如
何に少なくするかという低減化対策が水道維持管理上の
重要な問題となっている。
可欠な過程である塩素処理工程で、自然界に由来するフ
ミン酸またはフルボ酸などのフミン質（腐植質）等の原
水中の有機物質と遊離残留塩素が化学反応して生成され
る有機塩素化合物で、発ガン性があり、健康への影響が
問題となっていることから、トリハロメタンの生成を如
何に少なくするかという低減化対策が水道維持管理上の
重要な問題となっている。
【０００６】反面、屋外に設置された沈澱池及び濾過池
においては、太陽から照射される紫外線を直接受けるた
めに、塩素剤のハロゲン元素が紫外線に影響されやすい
ことから水中での分解が顕著に影響を受け、滅菌効果が
減少するという問題点があり、天候の微妙な変化に追従
した塩素剤の投入が困難であることから、紫外線による
分解量を見込んで塩素剤の投入量を多く設定する傾向に
あった。
においては、太陽から照射される紫外線を直接受けるた
めに、塩素剤のハロゲン元素が紫外線に影響されやすい
ことから水中での分解が顕著に影響を受け、滅菌効果が
減少するという問題点があり、天候の微妙な変化に追従
した塩素剤の投入が困難であることから、紫外線による
分解量を見込んで塩素剤の投入量を多く設定する傾向に
あった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このために、この発明
は、紫外線量を検出することによって、塩素剤注入量を
補正し、適正な塩素剤の注入を達成することのできる紫
外線比例塩素剤自動注入装置を提供することにある。
は、紫外線量を検出することによって、塩素剤注入量を
補正し、適正な塩素剤の注入を達成することのできる紫
外線比例塩素剤自動注入装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】しかして、この発明は、
浄水場に取水された原水に塩素剤を注入する前塩素処理
工程を持つ浄水処理において、取水量から塩素剤注入量
を演算する塩素剤注入量演算手段と、照射される紫外線
量を検出する紫外線量検出手段と、この紫外線検出手段
によって検出された紫外線量に基づき、前記塩素剤注入
量演算手段によって演算された塩素剤注入量を補正する
注入量補正手段と、この注入量補正手段によって補正さ
れた塩素剤注入量を注入する塩素剤注入制御手段とを具
備することにある。
浄水場に取水された原水に塩素剤を注入する前塩素処理
工程を持つ浄水処理において、取水量から塩素剤注入量
を演算する塩素剤注入量演算手段と、照射される紫外線
量を検出する紫外線量検出手段と、この紫外線検出手段
によって検出された紫外線量に基づき、前記塩素剤注入
量演算手段によって演算された塩素剤注入量を補正する
注入量補正手段と、この注入量補正手段によって補正さ
れた塩素剤注入量を注入する塩素剤注入制御手段とを具
備することにある。
【０００９】
【作用】したがって、この発明においては、前塩素処理
工程において、塩素剤注入量演算手段によって演算され
た塩素剤注入量を、紫外線検出手段によって検出された
紫外線量に基づいて注入量補正手段によって補正し、こ
の補正された塩素注入量にしたがって塩素剤注入量制御
手段によって塩素剤を注入するために、紫外線によって
分解される塩素量に対応して塩素剤注入量を調節でき、
常に適量の塩素注入量が可能となり、上記課題を達成で
きるものである。
工程において、塩素剤注入量演算手段によって演算され
た塩素剤注入量を、紫外線検出手段によって検出された
紫外線量に基づいて注入量補正手段によって補正し、こ
の補正された塩素注入量にしたがって塩素剤注入量制御
手段によって塩素剤を注入するために、紫外線によって
分解される塩素量に対応して塩素剤注入量を調節でき、
常に適量の塩素注入量が可能となり、上記課題を達成で
きるものである。
【００１０】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面により
説明する。浄水場は、図１に示すように、少なくとも処
理池として、着水井１、混和池２、フロック形成池３、
沈澱池４、急速濾過池（濾過池）５、及び浄水池６を有
しており、また、これに付随した図示しない施設によっ
て構成されるものである。
説明する。浄水場は、図１に示すように、少なくとも処
理池として、着水井１、混和池２、フロック形成池３、
沈澱池４、急速濾過池（濾過池）５、及び浄水池６を有
しており、また、これに付随した図示しない施設によっ
て構成されるものである。
【００１１】着水井１は、河川等に配された図示しない
取水施設としての取水塔から、取水された表流水（原
水）が、導水施設としての導水管路を経て到達するとこ
ろで、到着した原水の水位の動揺を安定させ、原水流量
を測定し、後続の薬品投入、沈澱、濾過等の一連の浄水
処理が正確に且つ容易に行えるようにするためのもの
で、原水水質異常時の粉末活性炭の投入、高濁時などの
アルカリ剤・凝集補助剤の注入、濾過池濾材の洗浄排水
等の返送水の受水等の機能を合わせ持つものである。
取水施設としての取水塔から、取水された表流水（原
水）が、導水施設としての導水管路を経て到達するとこ
ろで、到着した原水の水位の動揺を安定させ、原水流量
を測定し、後続の薬品投入、沈澱、濾過等の一連の浄水
処理が正確に且つ容易に行えるようにするためのもの
で、原水水質異常時の粉末活性炭の投入、高濁時などの
アルカリ剤・凝集補助剤の注入、濾過池濾材の洗浄排水
等の返送水の受水等の機能を合わせ持つものである。
【００１２】混和池２は、前記着水井１における凝集剤
等の投入の後、ただちに急速な撹拌を与え、原水中の均
一にまた充分に拡散させるための撹拌機７を有してい
る。これは、凝集剤が水中において加水分解して重合反
応し、水中の懸濁コロイドと反応する速度が早いことか
ら、急速に撹拌する必要があるからである。
等の投入の後、ただちに急速な撹拌を与え、原水中の均
一にまた充分に拡散させるための撹拌機７を有してい
る。これは、凝集剤が水中において加水分解して重合反
応し、水中の懸濁コロイドと反応する速度が早いことか
ら、急速に撹拌する必要があるからである。
【００１３】フロック形成池３は、混和池２と沈澱池４
の間に位置し、沈澱池４と一体に形成されたもので、凝
集した微小フロックを大きく成長させるために、適度な
撹拌を行うものである。この撹拌は、水流自体のエネル
ギーを利用したもので、水のもっている水頭を撹拌に利
用した上下・水平複合迂流式により、フロック粒径が小
さい初期には強い撹拌を与え、フロックが大きく成長す
るにつれて段階的に撹拌強度を下げていくようにしたも
ので、具体的には、フロック形成池３の後段に行くにつ
れて、水路幅などを広げて平均流速を遅くし、水流自体
のエネルギーを軽減するようにしたものである。
の間に位置し、沈澱池４と一体に形成されたもので、凝
集した微小フロックを大きく成長させるために、適度な
撹拌を行うものである。この撹拌は、水流自体のエネル
ギーを利用したもので、水のもっている水頭を撹拌に利
用した上下・水平複合迂流式により、フロック粒径が小
さい初期には強い撹拌を与え、フロックが大きく成長す
るにつれて段階的に撹拌強度を下げていくようにしたも
ので、具体的には、フロック形成池３の後段に行くにつ
れて、水路幅などを広げて平均流速を遅くし、水流自体
のエネルギーを軽減するようにしたものである。
【００１４】沈澱池４は、浮遊物質やフロックの大部分
を重力沈降作用によって除去するもので、後続の濾過池
５にかかる負担を軽減するためのものである。尚、沈澱
池４には、沈澱、緩衝及び排泥の３つの機能がある。
を重力沈降作用によって除去するもので、後続の濾過池
５にかかる負担を軽減するためのものである。尚、沈澱
池４には、沈澱、緩衝及び排泥の３つの機能がある。
【００１５】濾過池（急速濾過池）５は、原水中の懸濁
物質を凝集、混和・撹拌、沈澱した処理水を粒状層に比
較的速い流速で通し、主として濾材８での付着による捕
捉と、濾材表面での抑留、濾過でのふるい分け作用、阻
止作用と重力沈降作用により、濁質除去作用を行うもの
である。尚、本実施例においては、濾材８は、玉砂利
（サンドイッチ型配列）と珪砂を層にして形成したもの
である。
物質を凝集、混和・撹拌、沈澱した処理水を粒状層に比
較的速い流速で通し、主として濾材８での付着による捕
捉と、濾材表面での抑留、濾過でのふるい分け作用、阻
止作用と重力沈降作用により、濁質除去作用を行うもの
である。尚、本実施例においては、濾材８は、玉砂利
（サンドイッチ型配列）と珪砂を層にして形成したもの
である。
【００１６】浄水池６は、浄水処理の運転管理上生じる
濾過水量と送水量との間の不均衡を調節緩和すると共
に、事故、故障時の対応、水源及び水質異常時における
水質変動への対応、施設の点検、保全作業等に備えて浄
水を貯留するためのもので、浄水施設の最終段階の施設
である。
濾過水量と送水量との間の不均衡を調節緩和すると共
に、事故、故障時の対応、水源及び水質異常時における
水質変動への対応、施設の点検、保全作業等に備えて浄
水を貯留するためのもので、浄水施設の最終段階の施設
である。
【００１７】以上の構成の浄水場を通過する原水を消毒
殺菌するために、塩素剤として次亜塩素酸ソーダを用い
た次亜塩素酸ソーダ注入制御装置（塩素剤注入制御装
置）１０が設けられている。この塩素剤注入制御装置１
０は、例えば図２に示すように、コントロールユニット
２０、駆動回路２１，２２、塩素剤収容タンク２５、こ
の塩素剤収容タンク２５と塩素注入口２６，２７を連通
する配管上に設けられた空気式流量制御弁２３，２４と
によって構成され、このコントロールユニット２０に
は、少なくとも着水井１から混和池２に至る配管上に取
付られた流量計１１と、混和池２内の下流に設けられた
残留塩素検出器１２と、紫外線検出器１３と、濾過池５
の濾材８の下流に設けられた残留塩素検出器１４と、浄
水池６内の下流に設けられた残留塩素検出器１５からの
信号が入力されるものである。尚、コントロールユニッ
ト２０は、前塩素処理コンピュータ２０ａと、後塩素処
理コンピュータ２０ｂとによって構成され、各コンピュ
ータ２０ａ，２０ｂは、少なくとも図示しない中央演算
処理装置（ＣＰＵ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡ
Ｍ）、読出専用メモリ（ＲＯＭ）、入出力ポート（Ｉ／
Ｏ）等から構成されたそれ自体公知のマイクロコンピュ
ータを有するものである。
殺菌するために、塩素剤として次亜塩素酸ソーダを用い
た次亜塩素酸ソーダ注入制御装置（塩素剤注入制御装
置）１０が設けられている。この塩素剤注入制御装置１
０は、例えば図２に示すように、コントロールユニット
２０、駆動回路２１，２２、塩素剤収容タンク２５、こ
の塩素剤収容タンク２５と塩素注入口２６，２７を連通
する配管上に設けられた空気式流量制御弁２３，２４と
によって構成され、このコントロールユニット２０に
は、少なくとも着水井１から混和池２に至る配管上に取
付られた流量計１１と、混和池２内の下流に設けられた
残留塩素検出器１２と、紫外線検出器１３と、濾過池５
の濾材８の下流に設けられた残留塩素検出器１４と、浄
水池６内の下流に設けられた残留塩素検出器１５からの
信号が入力されるものである。尚、コントロールユニッ
ト２０は、前塩素処理コンピュータ２０ａと、後塩素処
理コンピュータ２０ｂとによって構成され、各コンピュ
ータ２０ａ，２０ｂは、少なくとも図示しない中央演算
処理装置（ＣＰＵ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡ
Ｍ）、読出専用メモリ（ＲＯＭ）、入出力ポート（Ｉ／
Ｏ）等から構成されたそれ自体公知のマイクロコンピュ
ータを有するものである。
【００１８】以下、前記コントロールユニット２０の前
塩素処理コンピュータ２０ａで実行される前塩素処理に
ついて、図３に示す機能ブロック図に従って説明する。
塩素処理コンピュータ２０ａで実行される前塩素処理に
ついて、図３に示す機能ブロック図に従って説明する。
【００１９】前塩素処理は、原水に塩素剤（次亜塩素酸
ソーダ）を投入するためのもので、先ず、紫外線検出器
１３からの紫外線量出力Ｘ３、混和池２に設けられた残
留塩素検出器１２からの急撹水残塩信号Ｘ４、及び流量
計１１からの取水流量信号Ｘ２が入力される。
ソーダ）を投入するためのもので、先ず、紫外線検出器
１３からの紫外線量出力Ｘ３、混和池２に設けられた残
留塩素検出器１２からの急撹水残塩信号Ｘ４、及び流量
計１１からの取水流量信号Ｘ２が入力される。
【００２０】紫外線量出力Ｘ３は、紫外線量補正係数演
算手段１００において紫外線補正係数Ｆ（Ｘ３）に変換
される。具体的には、図５で示すように実験により最適
な値として得られた数値によって連続した特性線を形成
し、この特性線に従って演算するものである。この特性
線図は、紫外線量と、屋根をもたないフロック形成池
３、沈澱池４、及び濾過池５において、紫外線の照射に
よる塩素剤（この場合は、次亜塩素酸ソーダ）の分解量
に対して、後工程の残留塩素量を一定とする塩素剤注入
量との関係により求められたものである。
算手段１００において紫外線補正係数Ｆ（Ｘ３）に変換
される。具体的には、図５で示すように実験により最適
な値として得られた数値によって連続した特性線を形成
し、この特性線に従って演算するものである。この特性
線図は、紫外線量と、屋根をもたないフロック形成池
３、沈澱池４、及び濾過池５において、紫外線の照射に
よる塩素剤（この場合は、次亜塩素酸ソーダ）の分解量
に対して、後工程の残留塩素量を一定とする塩素剤注入
量との関係により求められたものである。
【００２１】この紫外線補正係数Ｆ（Ｘ３）は、さらに
ポイント１１０において補正係数Ｐ６が乗じられ、紫外
線補正量Ｘ３’が求められ、前塩素注入率ＳＶ１’演算
手段１２０に入力される。尚、補正係数Ｐ６は、紫外線
補正係数Ｆ（Ｘ３）の塩素剤注入率ＳＶ１’への重み付
けとして、実験により求められたものである。
ポイント１１０において補正係数Ｐ６が乗じられ、紫外
線補正量Ｘ３’が求められ、前塩素注入率ＳＶ１’演算
手段１２０に入力される。尚、補正係数Ｐ６は、紫外線
補正係数Ｆ（Ｘ３）の塩素剤注入率ＳＶ１’への重み付
けとして、実験により求められたものである。
【００２２】急撹水残塩信号Ｘ４は、着水井１において
投入された塩素剤の混和池２における残留塩素量を検出
したもので、下記の注入率補正は、この残留塩素量を一
定とするように行われるものである。この注入率補正に
おいて、急撹水残塩信号Ｘ４は、塩素コントローラー
（ＣｌＣ）１３０において、急撹水残塩設定値ＳＶ１
（０〜５ppm)に基づき、一定周期毎に急撹水残塩調節出
力ＭＶ１に演算変換される。一方、急撹水残塩設定値Ｓ
Ｖ１は、前記急撹水残塩調節出力ＭＶ１とは別経路で、
ポイント１４０に進み、ここで注入比率演算係数Ｐ１０
が乗じられて、注入率設定値ＳＶが得られるものであ
る。また、急撹水残塩設定値ＳＶ１から下記する前塩素
注入量Ｑ1 演算手段１３０に使用される取水流量バイア
ス設定Ｐ１が、演算設定されるものである。
投入された塩素剤の混和池２における残留塩素量を検出
したもので、下記の注入率補正は、この残留塩素量を一
定とするように行われるものである。この注入率補正に
おいて、急撹水残塩信号Ｘ４は、塩素コントローラー
（ＣｌＣ）１３０において、急撹水残塩設定値ＳＶ１
（０〜５ppm)に基づき、一定周期毎に急撹水残塩調節出
力ＭＶ１に演算変換される。一方、急撹水残塩設定値Ｓ
Ｖ１は、前記急撹水残塩調節出力ＭＶ１とは別経路で、
ポイント１４０に進み、ここで注入比率演算係数Ｐ１０
が乗じられて、注入率設定値ＳＶが得られるものであ
る。また、急撹水残塩設定値ＳＶ１から下記する前塩素
注入量Ｑ1 演算手段１３０に使用される取水流量バイア
ス設定Ｐ１が、演算設定されるものである。
【００２３】前塩素注入率ＳＶ１’（通常、０〜５ｐｐ
ｍ）は、下記の数式１により演算されるもので、急撹水
残塩設定値ＳＶ、急撹水残留塩素調節出力ＭＶ１、及び
紫外線補正量Ｘ３’により決定されるものである。これ
により、前塩素注入量Ｑ1 を決定する前塩素注入率ＳＶ
１’が演算されるために、前塩素注入率ＳＶ１’の補正
項のひとつである紫外線補正量Ｘ３’によって、前塩素
注入量Ｑ1 が補正されることとなるものである。
ｍ）は、下記の数式１により演算されるもので、急撹水
残塩設定値ＳＶ、急撹水残留塩素調節出力ＭＶ１、及び
紫外線補正量Ｘ３’により決定されるものである。これ
により、前塩素注入量Ｑ1 を決定する前塩素注入率ＳＶ
１’が演算されるために、前塩素注入率ＳＶ１’の補正
項のひとつである紫外線補正量Ｘ３’によって、前塩素
注入量Ｑ1 が補正されることとなるものである。
【００２４】
【数１】ＳＶ１’＝ＳＶ＋（ＭＶ１−０．５）＋Ｘ３’
【００２５】取水流量信号Ｘ２は、フィルター（ＬＡＧ
１）１５０及びポイント１６０を通過することによって
演算用取水流量Ｘ２’（Ｘ２’＝Ｘ２・Ｐ３＋Ｐ５）に
変換され、前塩素注入量Ｑ1 演算手段１３０において下
記する数式２によって前塩素注入量Ｑ1 （通常、０〜４
０リットル／ｈ）が演算されるものである。
１）１５０及びポイント１６０を通過することによって
演算用取水流量Ｘ２’（Ｘ２’＝Ｘ２・Ｐ３＋Ｐ５）に
変換され、前塩素注入量Ｑ1 演算手段１３０において下
記する数式２によって前塩素注入量Ｑ1 （通常、０〜４
０リットル／ｈ）が演算されるものである。
【００２６】
【数２】 Ｑ1 ＝Ｋ1 （Ｘ２’＋Ｐ１）・ＳＶ１’／Ｐ７＋Ｐ２
【００２７】尚、Ｋ1 は演算定数であり、Ｐ１は取水量
バイアス設定、Ｐ７は次亜塩素酸ソーダ濃度設定、Ｐ２
は前塩素処理時の注入量バイアスである。
バイアス設定、Ｐ７は次亜塩素酸ソーダ濃度設定、Ｐ２
は前塩素処理時の注入量バイアスである。
【００２８】この演算結果は、スイッチ１７０のカスケ
ード端子（Ｃ）に出力され、このスイッチ１７０の設定
によって塩素注入量コントローラー１８０に送られるも
のである。この塩素注入コントローラー１８０におい
て、例えば実際の塩素注入量を検出して出力される前塩
素注入量Ｘ１若しくは前回の前塩素注入量を記憶したメ
モリから呼び出された前塩素注入量Ｘ１に相当する信号
と、前塩素注入量Ｑ1 とによって、ダンパ制御若しくは
ＰＩＤ制御が成され、これによって得られた制御信号Ｑ
C1がスイッチ１８０に出力されるものである。
ード端子（Ｃ）に出力され、このスイッチ１７０の設定
によって塩素注入量コントローラー１８０に送られるも
のである。この塩素注入コントローラー１８０におい
て、例えば実際の塩素注入量を検出して出力される前塩
素注入量Ｘ１若しくは前回の前塩素注入量を記憶したメ
モリから呼び出された前塩素注入量Ｘ１に相当する信号
と、前塩素注入量Ｑ1 とによって、ダンパ制御若しくは
ＰＩＤ制御が成され、これによって得られた制御信号Ｑ
C1がスイッチ１８０に出力されるものである。
【００２９】スイッチ１８０においてカスケード／オー
ト（Ｃ／Ａ）が選択された場合には、前記制御信号ＱC1
が、空気式流量制御弁２３を制御するＶ１操作出力とし
てコントロールユニット２０から駆動回路２１に出力さ
れ、この駆動回路２１によって流量制御弁２３が制御さ
れて塩素剤収容タンク２５に収容された塩素剤（次亜塩
素酸ソーダ）が塩素剤投入口２６から着水井１の原水に
注入されるものである。
ト（Ｃ／Ａ）が選択された場合には、前記制御信号ＱC1
が、空気式流量制御弁２３を制御するＶ１操作出力とし
てコントロールユニット２０から駆動回路２１に出力さ
れ、この駆動回路２１によって流量制御弁２３が制御さ
れて塩素剤収容タンク２５に収容された塩素剤（次亜塩
素酸ソーダ）が塩素剤投入口２６から着水井１の原水に
注入されるものである。
【００３０】尚、以上のカスケード制御の場合は、スイ
ッチ１７０はＣ端子側に接続され、スイッチ１９０はＣ
／Ａ端子側に接続されるもので、オート制御の場合は、
スイッチ１７０は、Ａ／Ｍ端子側に接続され、スイッチ
１９０はＣ／Ａ端子側に接続されるものである。この場
合、Ｖ１操作出力は、前塩素注入量Ｘ１による制御とな
り、この前塩素注入量Ｘ１によって一定の塩素注入量と
なるものである。
ッチ１７０はＣ端子側に接続され、スイッチ１９０はＣ
／Ａ端子側に接続されるもので、オート制御の場合は、
スイッチ１７０は、Ａ／Ｍ端子側に接続され、スイッチ
１９０はＣ／Ａ端子側に接続されるものである。この場
合、Ｖ１操作出力は、前塩素注入量Ｘ１による制御とな
り、この前塩素注入量Ｘ１によって一定の塩素注入量と
なるものである。
【００３１】また、マニュアル制御の場合には、スイッ
チ１７０はＡ／Ｍ端子側に、スイッチ１９０はＭ側に接
続されることにより、前塩素制御は事実上停止すること
となるもので、これによりマニュアル制御が実行できる
ものである。
チ１７０はＡ／Ｍ端子側に、スイッチ１９０はＭ側に接
続されることにより、前塩素制御は事実上停止すること
となるもので、これによりマニュアル制御が実行できる
ものである。
【００３２】以上説明したように、この発明に係る前塩
素処理によれば、屋根のないフロック形成池３、沈澱池
４及び濾過池５において紫外線により分解される次亜塩
素酸ソーダの量を補填できるために、後塩素処理に送ら
れる浄水処理水の残留塩素量を常に一定とすることがで
き、もって下記する後塩素処理を通常通り行うことがで
きるものである。
素処理によれば、屋根のないフロック形成池３、沈澱池
４及び濾過池５において紫外線により分解される次亜塩
素酸ソーダの量を補填できるために、後塩素処理に送ら
れる浄水処理水の残留塩素量を常に一定とすることがで
き、もって下記する後塩素処理を通常通り行うことがで
きるものである。
【００３３】図４に示す後塩素処理コンピュータ２０ｂ
で実行される後塩素処理は、最終段階の浄水に塩素剤
（次亜塩素酸ソーダ）を投入するためのもので、先ず、
濾過池５に設けられた残留塩素検出器１４からの濾過池
残塩信号Ｘ６、及び浄水池６に設けられた残留塩素検出
器１５からの浄水池残塩信号Ｘ７が入力される。
で実行される後塩素処理は、最終段階の浄水に塩素剤
（次亜塩素酸ソーダ）を投入するためのもので、先ず、
濾過池５に設けられた残留塩素検出器１４からの濾過池
残塩信号Ｘ６、及び浄水池６に設けられた残留塩素検出
器１５からの浄水池残塩信号Ｘ７が入力される。
【００３４】濾過池残塩信号Ｘ６は、フィルター（ＬＡ
Ｇ２）３００及びポイント３１０を通過することによっ
て補正係数Ｘ６’に変換（Ｘ６’＝Ｐ４・Ｘ６＋Ｐ１
１）され、後塩素注入率演算ＳＶ２’演算手段３２０に
入力されるものである。
Ｇ２）３００及びポイント３１０を通過することによっ
て補正係数Ｘ６’に変換（Ｘ６’＝Ｐ４・Ｘ６＋Ｐ１
１）され、後塩素注入率演算ＳＶ２’演算手段３２０に
入力されるものである。
【００３５】また、浄水池残塩信号Ｘ７は、塩素コント
ローラー（ＣｌＣ）３３０において、急撹水残塩設定値
ＳＶ２（０〜１ppm)に基づき、一定周期毎に浄水残塩調
節出力ＭＶ２に演算変換され、後塩素注入率演算ＳＶ
２’演算手段３２０に入力されるものである。また、急
撹水残塩設定値ＳＶ２も、後塩素注入率演算ＳＶ２’演
算手段３２０に入力されるものである。
ローラー（ＣｌＣ）３３０において、急撹水残塩設定値
ＳＶ２（０〜１ppm)に基づき、一定周期毎に浄水残塩調
節出力ＭＶ２に演算変換され、後塩素注入率演算ＳＶ
２’演算手段３２０に入力されるものである。また、急
撹水残塩設定値ＳＶ２も、後塩素注入率演算ＳＶ２’演
算手段３２０に入力されるものである。
【００３６】これによって、後塩素注入率演算ＳＶ２’
演算手段３２０において下記する数式３によって後塩素
注入率演算ＳＶ２’が演算されるものである。
演算手段３２０において下記する数式３によって後塩素
注入率演算ＳＶ２’が演算されるものである。
【００３７】
【数３】 ＳＶ２’＝（ＳＶ２−Ｘ６’）＋（ＭＶ２−０．５）
【００３８】この演算結果は、後塩素注入量Ｑ2 演算手
段３３０に送られ、さらに前記前塩素処理から入力され
た前記演算用取水流量Ｘ２’が後塩素注入量Ｑ2 演算手
段３３０に入力されて、下記する数式４により後塩素注
入量Ｑ2 （０〜１５リットル／ｈ）が演算されるもので
ある。
段３３０に送られ、さらに前記前塩素処理から入力され
た前記演算用取水流量Ｘ２’が後塩素注入量Ｑ2 演算手
段３３０に入力されて、下記する数式４により後塩素注
入量Ｑ2 （０〜１５リットル／ｈ）が演算されるもので
ある。
【００３９】
【数４】 Ｑ2 ＝Ｋ2 （Ｘ２’＋Ｐ１）ＳＶ２’／Ｐ７＋Ｐ１２
【００４０】尚、Ｋ2 は演算定数であり、Ｐ１２は後塩
素処理時の注入量バイアスである。
素処理時の注入量バイアスである。
【００４１】これによって演算された後塩素注入量Ｑ2
は、スイッチ３４０のカスケード（Ｃ）端子に入力さ
れ、このスイッチ３４０の選択によって塩素注入量コン
トローラー（ＦＣ）３５０に入力されるものである。こ
のＦＣ３５０には、前述の前塩素処理と同様に後塩素注
入量Ｘ５が入力され、前記ＦＣ１８０と同様の制御を行
って制御信号ＱC2が設定され、スイッチ３６０を介して
Ｖ２操作出力としてコントロールユニット２０から駆動
回路２２に出力され、この駆動回路２２によって空気式
流量制御弁２４が制御されて、塩素剤収容タンク２５に
収容された塩素剤（次亜塩素酸ソーダ）が、塩素剤投入
口２７から濾過池５の浄水に注入されるものである。
は、スイッチ３４０のカスケード（Ｃ）端子に入力さ
れ、このスイッチ３４０の選択によって塩素注入量コン
トローラー（ＦＣ）３５０に入力されるものである。こ
のＦＣ３５０には、前述の前塩素処理と同様に後塩素注
入量Ｘ５が入力され、前記ＦＣ１８０と同様の制御を行
って制御信号ＱC2が設定され、スイッチ３６０を介して
Ｖ２操作出力としてコントロールユニット２０から駆動
回路２２に出力され、この駆動回路２２によって空気式
流量制御弁２４が制御されて、塩素剤収容タンク２５に
収容された塩素剤（次亜塩素酸ソーダ）が、塩素剤投入
口２７から濾過池５の浄水に注入されるものである。
【００４２】尚、スイッチ３４０及びスイッチ３６０の
切替は、前述のスイッチ１７０及びスイッチ１９０と同
様である。
切替は、前述のスイッチ１７０及びスイッチ１９０と同
様である。
【００４３】さらに、前塩素注入量Ｘ１及び後塩素注入
量Ｘ５は、ポイント３８０において加算されて積算計３
９０において注入量の総計が計測されるものである。
量Ｘ５は、ポイント３８０において加算されて積算計３
９０において注入量の総計が計測されるものである。
【００４４】以上の前塩素処理及び後塩素処理におい
て、紫外線量を検出することによって着水井１に注入さ
れる塩素剤の量を補正できるために、フロック形成池
３、沈澱池４及び濾過池５での塩素剤による殺菌消毒作
用を安定して行え、濾過池４に至る水質を安定させるこ
とができるものである。さらに、濾過池４における水質
の安定性は、後塩素処理における塩素注入量を安定させ
ることができるために、適正な塩素剤を含む浄水が得ら
れ、塩素臭のない美味しい水を得ることができるもので
ある。
て、紫外線量を検出することによって着水井１に注入さ
れる塩素剤の量を補正できるために、フロック形成池
３、沈澱池４及び濾過池５での塩素剤による殺菌消毒作
用を安定して行え、濾過池４に至る水質を安定させるこ
とができるものである。さらに、濾過池４における水質
の安定性は、後塩素処理における塩素注入量を安定させ
ることができるために、適正な塩素剤を含む浄水が得ら
れ、塩素臭のない美味しい水を得ることができるもので
ある。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように、前塩素処理におけ
る塩素注入量を紫外線量によって補正することにより、
前塩素処理時の塩素剤注入量を適正にできると共に、浄
水処理の最終段階に供給される水の残留塩素量を安定さ
せることができることから後塩素処理時の塩素剤注入量
を抑制できるために、塩素剤の注入総量を減少させるこ
とができ、経済性を良くすることができると共に、安全
で良質な塩素臭のない美味しい水を得ることができるも
のである。また、塩素剤の適正投入が達成されることに
より、発ガン物質のトリハロメタン（総称）の生成を抑
制できるものである。
る塩素注入量を紫外線量によって補正することにより、
前塩素処理時の塩素剤注入量を適正にできると共に、浄
水処理の最終段階に供給される水の残留塩素量を安定さ
せることができることから後塩素処理時の塩素剤注入量
を抑制できるために、塩素剤の注入総量を減少させるこ
とができ、経済性を良くすることができると共に、安全
で良質な塩素臭のない美味しい水を得ることができるも
のである。また、塩素剤の適正投入が達成されることに
より、発ガン物質のトリハロメタン（総称）の生成を抑
制できるものである。
【図１】本発明の実施例に係る浄水場の構成を示した説
明図である。
明図である。
【図２】塩素剤注入制御装置の概略構成図である。
【図３】前塩素処理を示した機能ブロック図である。
【図４】後塩素処理を示した機能ブロック図である。
【図５】紫外線補正係数値演算を示した特性線図であ
る。
る。
１ 着水井 ２ 混和池 ３ フロック形成池 ４ 沈澱池 ５ 濾過池 ６ 浄水池 １０ 塩素剤注入制御装置 １１ 流量計 １２，１４，１５ 残留塩素検出器 １３ 紫外線検出器 ２０ コントロールユニット ２１，２２ 駆動回路 ２３，２４ 空気式流量制御弁 ２５ 塩素剤収容タンク
Claims (1)
- 【請求項１】 浄水場に取水された原水に塩素剤を注入
する前塩素処理工程を持つ浄水処理において、 取水量から塩素剤注入量を演算する塩素剤注入量演算手
段と、 照射される紫外線量を検出する紫外線量検出手段と、 この紫外線検出手段によって検出された紫外線量に基づ
き、前記塩素剤注入量演算手段によって演算された塩素
剤注入量を補正する注入量補正手段と、 この注入量補正手段によって補正された塩素剤注入量を
注入する塩素剤注入制御手段とを具備することを特徴と
する紫外線比例塩素剤自動注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29375392A JPH06114377A (ja) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | 紫外線比例塩素剤自動注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29375392A JPH06114377A (ja) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | 紫外線比例塩素剤自動注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06114377A true JPH06114377A (ja) | 1994-04-26 |
Family
ID=17798784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29375392A Pending JPH06114377A (ja) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | 紫外線比例塩素剤自動注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06114377A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6007686A (en) * | 1994-08-26 | 1999-12-28 | Medical Discoveries, Inc. | System for elctrolyzing fluids for use as antimicrobial agents |
| US6117285A (en) * | 1994-08-26 | 2000-09-12 | Medical Discoveries, Inc. | System for carrying out sterilization of equipment |
| KR100320660B1 (ko) * | 1999-07-03 | 2002-01-19 | 임정규 | 정수장의 염소요구량 자동결정방법 및 그 장치 |
| WO2013125671A1 (ja) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 株式会社明治 | 比例混合システム |
| JP2020168606A (ja) * | 2019-04-03 | 2020-10-15 | 株式会社東芝 | 塩素注入制御装置、塩素注入制御システム、塩素注入制御方法及びコンピュータプログラム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470191A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-15 | Toshiba Corp | Preliminary chlorine injection control device for water treating plant |
| JPH03165892A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-17 | Meidensha Corp | 浄水場の前塩素注入制御装置 |
| JPH03224694A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-03 | Toshiba Corp | 浄水場の塩素注入制御装置 |
-
1992
- 1992-10-07 JP JP29375392A patent/JPH06114377A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6470191A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-15 | Toshiba Corp | Preliminary chlorine injection control device for water treating plant |
| JPH03165892A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-17 | Meidensha Corp | 浄水場の前塩素注入制御装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6117285A (en) * | 1994-08-26 | 2000-09-12 | Medical Discoveries, Inc. | System for carrying out sterilization of equipment |
| KR100320660B1 (ko) * | 1999-07-03 | 2002-01-19 | 임정규 | 정수장의 염소요구량 자동결정방법 및 그 장치 |
| WO2013125671A1 (ja) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 株式会社明治 | 比例混合システム |
| JP2020168606A (ja) * | 2019-04-03 | 2020-10-15 | 株式会社東芝 | 塩素注入制御装置、塩素注入制御システム、塩素注入制御方法及びコンピュータプログラム |
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