JPH0611717B2 - 共役ジエン化合物の製造法 - Google Patents

共役ジエン化合物の製造法

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JPH0611717B2
JPH0611717B2 JP13933086A JP13933086A JPH0611717B2 JP H0611717 B2 JPH0611717 B2 JP H0611717B2 JP 13933086 A JP13933086 A JP 13933086A JP 13933086 A JP13933086 A JP 13933086A JP H0611717 B2 JPH0611717 B2 JP H0611717B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、共役ジエン化合物の製造法に関する。さらに
詳しくは、1,3−ブタジニル金属化合物と有機ハロゲン
化物から一段階で共役ジエン化合物を製造する方法に関
する。
共役ジエン化合物は、有機中間体及び高分子工業原料と
して有用なものである。
〔従来の技術〕
共役ジエン化合物の製造法は、数多くのものが報告され
ている。例えば、1,3−ジイン,共役エンインを部分還
元する方法、アセチレン化合物を利用する方法、ビニル
ハライドを利用する方法、ウィティッヒ反応(Wittig反
応)を利用する方法(Sir D.Barton,W.D.Ollis編、"COM
PREHENSIVE ORGANICCHEMISTRY"Pergamon Press Ltd,197
9)、有機スズ化合物を用いる方法(Tetrahedron,1981,3
967)等を挙げることができる。しかし、従来知られてい
る方法は、いづれもジエン結合の導入を多段階で行い、
従って反応工程が長くなる欠点を有している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、従来段階的に行われていたジエン結合
の導入を一段階で行い効率的にジエン化合物を製造する
方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、1,3−ブタジエニル金属化合物を用い一段階
でジエン結合を導入する効率的なジエン化合物の製造法
であり、以下その詳細を説明する。
〔作用〕
本発明は一般式(1) CH2=CH CH=CHM (1) (MはMgXあるいはLiから選ばれ、Xは塩素,臭素ある
いはヨウ素から選ばれる。) で表わされる1,3−ブタジエニル金属化合物と一般式(2) RX (2) (RはC1〜C20のアルキル基,アラルキル基から選ば
れ、Xは塩素,臭素,ヨウ素から選ばれる。)で表わさ
れる有機ハロゲン化物を銅触媒存在下反応させ、一般式
(3) CH2=CH CH=CHR (3) (Rは(2)と同様) で表わされるジエン化合物を製造する方法である。
1,3−ブタジエニル金属化合物としては、例えば、1,3−
ブタジエニルマグネシウムクロライド,1,3−ブタジエ
ニルマグネシウムブロマイド,1,3−ブタジエニルマグ
ネシウムヨーダイド等のグリニャール試薬あるいは1,3
−ブタジエニルリチウムを挙げることができる。グリニ
ャール試薬は、本発明者らの開発した方法(日本化学会
第50回春季年会予稿集IV06(1985))によ
り、調製することができる。
リチウム化合物は、本発明者らが開発した1−トリブチ
ルスタニル−1,3−ブタジエン(日本化学会第49春季
年会予稿集2Z07(1984))のような有機スズ化
合物とn−ブチルリチウム,s−ブチルリチウム,メチ
ルリチウム等のアルキルリチウムをエーテル,THF等
のエーテル溶媒を用いて、−50〜−80℃の低温下不
活性ガス雰囲気で反応させることにより調製することが
できる。
有機ハロゲン化物としては、ヨウ化メチル,ヨウ化エチ
ル,臭化プロピル,臭化ブチル,ヨウ化ブチル,臭化ペ
ンチル,臭化ヘキシル,ヨウ化ヘキシル等のアルキルハ
ライド、臭化ベンジル,ヨウ化ベンジル等のアラルキル
ハライドを挙げることができる。
銅触媒としては、1価の銅化合物であればどのようなも
のでもよく、ヨウ化第一銅,臭化第一銅等をあげること
ができる。さらに、銅化合物の溶解性を増加させるため
に、ジメチルスルフィド等の溶解助剤を添加することも
できる。
1,3−ブタジエニル金属化合物と有機ハライドの反応は
窒素,アルゴン等の不活性気流下で行う。
反応溶媒としては、ジエチルエーテル,THF,モノグ
ライム,ジグライム等の溶媒が用いられる。1,3−ブタ
ジエニル金属化合物として、グリニャール試薬を用いる
場合、銅触媒量は、有機ハロゲン化物1モルに対し5〜
50モル%、好ましくは10〜30モル%である。
グリニャール試薬の量は、有機ハロゲン化物1モルに対
し1.0モル以上が好ましい。
本反応は、銅触媒及び有機ハロゲン化物を含むエーテル
溶液にグリニャール試薬を添加することにより実施する
ことができる。添加時の反応温度は−50〜−20℃で
行うことが好ましいが、添加終了後は何ら冷却を行う必
要はなく、0〜25℃で反応を行うことができる。
反応時間は、30分以上であれば十分である。1,3−ブ
タジエニル金属化合物としてリチウム化合物を用いる場
合、銅触媒はなくとも反応は進行するが、銅触媒を存在
させると収率が向上し好ましい。
銅触媒量は、有機ハロゲン化物1モルに対し0.2〜2.0モ
ル、好ましくは0.5〜1.5モルである。
リチウム化合物は有機ハロゲン化物1モルに対し1.0モ
ル以上用いることが好ましい。
本反応は、銅触媒を含むエーテル溶液に、リチウム化合
物および有機ハロゲン化物を順次添加し実施することが
できる。リチウム化合物の添加時の溶液温度は、−90
〜−50℃であり、好ましくは−80〜−60℃であ
る。
有機ハロゲン化物添加時の溶液温度は、−50〜−20
℃、好ましくは−40〜−20℃である。
添加終了後反応は、0〜20℃で3〜5時間行えば終了
するが、有機ハロゲン化物添加後、添加温度で15分〜
1時間反応を行ったのち、0〜20℃で反応を行うのが
好ましい。
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
〔実施例〕
実施例1 還流冷却器,滴下漏斗およびセプタムを取りつけた30
0mの三つ口フラスコに、削状金属マグネシウム1.50
gと塩化亜鉛0.5gを入れ、十分に減圧加熱乾燥した
後、窒素置換した。1,2−ジブロモエタン0.5mの0.5
mTHF溶液を加え、更にTHF35mを加えて激
しく攪拌した。1−クロロ−1,3−ブタジエン2.82gを
滴下した後、1.5時間超音波処理を行い、さらに1.5時間
加熱還流を行った。1,10−フェナントロリンを指示薬と
し、s−ブチルアルコールにより滴定を行ったところ、
本グリニャール試薬の濃度は0.545mol/であった。
セプタムをつけた50m三つ口フラスコにヨウ化ヘキ
シル1g,ヨウ化銅200mgおよびTHF5mを入
れ、窒素気流下−30℃で上記グリニャール試薬10m
を滴下した。滴下終了後、反応温度を0℃とし、15
時間攪拌を行った。飽和塩化アンモニウム水溶液15m
を加え、反応を停止した後、反応液をエーテル抽出
(2×30m)した。抽出液は無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトにより精製し、1,3−デカジエン279mgを得
た。収率は43%であった。
実施例2,3 有機ハロゲン化物,反応温度を変えた以外は実施例1と
同様にして、ジエン化合物を得た。その結果を表1に示
す。
実施例4 セプタム,窒素導入管および塩化カルシウム管をつけた
100m三つ口フラスコに1−トリブチルスタニル−
1,3−ブタジエン3.15gおよびTHF20mを入れ
た。反応液を−78℃に冷却し、窒素気流下n−ブチル
リチウムのヘキサン溶液5.4m(7.12mmol)を滴下し
た。30分間攪拌を行った後、この溶液を100mの
三つ口フラスコにヨウ化第一銅740mgとTHF40m
を入れ、系内を窒素置換し、−78℃に冷却した溶液
に滴下した。反応液温度を−30℃まで上昇させ、ヨウ
化ヘキシル652mgの5mTHF溶液を滴下した。滴
下終了後−30℃で30分間攪拌を行い、その後ドライ
アイズアセトン浴を除去し、1時間攪拌を行った。飽和
塩化アンモニア水30mを加えて反応を停止し、エー
テル抽出(2×30m)を行った。抽出液は、飽和塩
化アンモニウム水溶液(2×30m),飽和炭酸水素
ナトリウム溶液(2×30m)で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。
溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトにより
精製を行い、1,3−デカジエン263mgを得た。収率は
62%であった。
実施例5〜6 有機ハロゲン化物,反応時間を変えた以外は実施例4と
同様にしてジエン化合物を得た。その結果を表2に示
す。
〔発明の効果〕 以上の説明から明らかなように、本発明に従えば、従来
多段階で製造されている化学工業的に重要なジエン化合
物を一段階で効率よく製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−230748(JP,A) The Journal of Org anic Chemistry,Vol. 48,No.11(1983),P.1912−1914

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(1) CH2=CHCH=CHM (1) (MはMgX,Liから選ばれ、Xは塩素,臭素,ヨウ素か
    ら選ばれる。) で表わされるブタジエニル金属化合物と一般式(2) RX (2) (RはC1〜C20のアルキル基,アラルキル基から選ば
    れ、Xは塩素,臭素,ヨウ素から選ばれる。)で表わさ
    れる有機ハロゲン化物から、一般式(3) RCH=CHCH=CH2 (3) (RはC1〜C20のアルキル基,アラルキル基から選ばれ
    る。) で表わされるジエン化合物の製造法。
JP13933086A 1986-06-17 1986-06-17 共役ジエン化合物の製造法 Expired - Lifetime JPH0611717B2 (ja)

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JPS62298539A JPS62298539A (ja) 1987-12-25
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TheJournalofOrganicChemistry,Vol.48,No.11(1983),P.1912−1914

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JPS62298539A (ja) 1987-12-25

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