JPH06122645A - ２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法 - Google Patents
２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 式Ｉのインダン−１，３−ジオン類に、
（１）．式IIの２−プロペニルアルコール類またはその
炭酸エステルをパラジウム（Ｏ）触媒存在下反応させる
か、または（２）．２−プロペニルアルコール類を酸触
媒存在下反応させる、式IIIの２−（２−置換−２−プ
ロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法。 （Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基またはベンジ
ル基を表し、Ａは（置換）１，３−ブタジエニレン基ま
たは１，３−アザブタジエニレン基を表す。） （Ｒ２は（置換）フェニル基またはピチジル基を表し、
Ｒ３は水素原子または Ｒ４−Ｃ（＝Ｏ）− （Ｒ４は低級アルキル基または低級アルコキシ基）を表
す。） （Ｒ１，Ｒ２およびＡは既に定義したとおりである。） 【効果】 医薬、農薬の合成中間体として有用な目的化
合物が高収率で容易に得られる。
（１）．式IIの２−プロペニルアルコール類またはその
炭酸エステルをパラジウム（Ｏ）触媒存在下反応させる
か、または（２）．２−プロペニルアルコール類を酸触
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ロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法。 （Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基またはベンジ
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Ｒ３は水素原子または Ｒ４−Ｃ（＝Ｏ）− （Ｒ４は低級アルキル基または低級アルコキシ基）を表
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合物が高収率で容易に得られる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医薬・農薬の合成中間
体、例えば特開平２−３０４０４３に示される除草剤の
中間体として有用な２−（２−置換−２−プロペニル）
インダン−１，３−ジオン類を、高い選択率にて製造す
る方法に関する。
体、例えば特開平２−３０４０４３に示される除草剤の
中間体として有用な２−（２−置換−２−プロペニル）
インダン−１，３−ジオン類を、高い選択率にて製造す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、２−（２−置換−２−プロペニ
ル）インダン−１，３−ジオン類を製造する方法として
は、インダン−１，３−ジオン類に、下記一般式［Ｖ］
ル）インダン−１，３−ジオン類を製造する方法として
は、インダン−１，３−ジオン類に、下記一般式［Ｖ］
【０００３】
【化８】
【０００４】（上記式中、Ｒ5 は置換されていてもよい
フェニル基またはピリジル基を表し、Ｘは塩素、臭素、
ヨウ素等のハロゲン原子、またはアルキルスルホニルオ
キシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等を表す。）
で表されるハロゲン化合物またはスルホニルオキシ化合
物を、塩基存在下反応させる方法が知られている（特開
平２−３０４０４３）。
フェニル基またはピリジル基を表し、Ｘは塩素、臭素、
ヨウ素等のハロゲン原子、またはアルキルスルホニルオ
キシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等を表す。）
で表されるハロゲン化合物またはスルホニルオキシ化合
物を、塩基存在下反応させる方法が知られている（特開
平２−３０４０４３）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記した公知の方法に
よって２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−
１，３−ジオン類を製造する場合、副生成物として、下
記一般式［VI］
よって２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−
１，３−ジオン類を製造する場合、副生成物として、下
記一般式［VI］
【０００６】
【化９】
【０００７】（上記式中、Ｂは置換されていてもよい
１，３−ブタジエニレン基または１，３−アザブタジエ
ニレン基を表す。）で表される縮合体、あるいは下記一
般式［VII ］
１，３−ブタジエニレン基または１，３−アザブタジエ
ニレン基を表す。）で表される縮合体、あるいは下記一
般式［VII ］
【０００８】
【化１０】
【０００９】（上記式中、ＢおよびＲ5 は既に定義した
とおりであり、Ｒ6 は水素原子、低級アルキル基等を表
す。）で表される３−（２−置換−２−プロペニルオキ
シ）−１−インデノン類が生成する。このため、収率が
低下し、また精製のための操作が必要となる。
とおりであり、Ｒ6 は水素原子、低級アルキル基等を表
す。）で表される３−（２−置換−２−プロペニルオキ
シ）−１−インデノン類が生成する。このため、収率が
低下し、また精製のための操作が必要となる。
【００１０】本発明は上記問題点を解決し、２−（２−
置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類を
選択的、かつ高収率で製造する方法を提供することを目
的とする。
置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類を
選択的、かつ高収率で製造する方法を提供することを目
的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、以下に示す方
法（１）および（２）により、２−（２−置換−２−プ
ロペニル）インダン−１，３−ジオン類を製造する方法
を見いだすに至った。即ち本発明の要旨は、下記一般式
［Ｉ］
題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、以下に示す方
法（１）および（２）により、２−（２−置換−２−プ
ロペニル）インダン−１，３−ジオン類を製造する方法
を見いだすに至った。即ち本発明の要旨は、下記一般式
［Ｉ］
【００１２】
【化１１】
【００１３】（上記式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキ
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基またはベンジル基を表し、Ａは置換されてい
てもよい、１，３−ブタジエニレン基、または１，３−
アザブタジエニレン基を表す。）で表される、インダン
−１，３−ジオン類に下記一般式［II］
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基またはベンジル基を表し、Ａは置換されてい
てもよい、１，３−ブタジエニレン基、または１，３−
アザブタジエニレン基を表す。）で表される、インダン
−１，３−ジオン類に下記一般式［II］
【００１４】
【化１２】
【００１５】（上記式中、Ｒ2 は置換されていてもよい
フェニル基またはピリジル基を表し、Ｒ3 は水素原子、
または
フェニル基またはピリジル基を表し、Ｒ3 は水素原子、
または
【００１６】
【化１３】
【００１７】（式中Ｒ4 は低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を表す。）で表される２−プロペニルアルコ
ール類、またはその炭酸エステルを、パラジウム（Ｏ）
触媒存在下反応させる（本発明方法（１））かあるい
は、下記一般式［Ｉ］
ルコキシ基を表す。）で表される２−プロペニルアルコ
ール類、またはその炭酸エステルを、パラジウム（Ｏ）
触媒存在下反応させる（本発明方法（１））かあるい
は、下記一般式［Ｉ］
【００１８】
【化１４】
【００１９】（上記式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキ
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基またはベンジル基を表し、Ａは置換されてい
てもよい、１，３−ブタジエニレン基、または１，３−
アザブタジエニレン基を表す。）で表される、インダン
−１，３−ジオン類に下記一般式［IV］
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基またはベンジル基を表し、Ａは置換されてい
てもよい、１，３−ブタジエニレン基、または１，３−
アザブタジエニレン基を表す。）で表される、インダン
−１，３−ジオン類に下記一般式［IV］
【００２０】
【化１５】
【００２１】（上記式中、Ｒ2 は置換されていてもよい
フェニル基またはピリジル基を表す。）で表される２−
プロペニルアルコール類を、酸触媒存在下反応させる
（本発明方法（２））ことを特徴とする下記一般式［II
I ］
フェニル基またはピリジル基を表す。）で表される２−
プロペニルアルコール類を、酸触媒存在下反応させる
（本発明方法（２））ことを特徴とする下記一般式［II
I ］
【００２２】
【化１６】
【００２３】（上記式中、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＡは既に定
義したとおりである。）で表される２−（２−置換−２
−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法に
存する。以下、本発明を詳細に説明する。
義したとおりである。）で表される２−（２−置換−２
−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法に
存する。以下、本発明を詳細に説明する。
【００２４】上記一般式［Ｉ］中のＲ1 としては水素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、２−
メチルプロピル基等の低級アルキル基、フルオロメチル
基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ク
ロロジフルオロメチル基またはブロモジフルオロメチル
基等の低級ハロアルキル基、ビニル基、アリル基、１−
プロペニル基、１−メチルビニル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基または２−メチルアリル基等の低級アル
ケニル基、プロパルギル基または１−メチル−２−プロ
ピニル基等の低級アルキニル基、ベンジル基等が挙げら
れ、Ａとしてはハロゲン原子、低級アルキル基等で置換
されていてもよい、１，３−ブタジエニレン基、または
１，３−アザブタジエニレン基が挙げられる。
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、２−
メチルプロピル基等の低級アルキル基、フルオロメチル
基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ク
ロロジフルオロメチル基またはブロモジフルオロメチル
基等の低級ハロアルキル基、ビニル基、アリル基、１−
プロペニル基、１−メチルビニル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基または２−メチルアリル基等の低級アル
ケニル基、プロパルギル基または１−メチル−２−プロ
ピニル基等の低級アルキニル基、ベンジル基等が挙げら
れ、Ａとしてはハロゲン原子、低級アルキル基等で置換
されていてもよい、１，３−ブタジエニレン基、または
１，３−アザブタジエニレン基が挙げられる。
【００２５】上記一般式［II］または［IV］中の２−プ
ロペニルアルコール類のＲ2 およびＲ5 としてはハロゲ
ン原子、ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基等で置換
されていてもよいフェニル基またはピリジル基が挙げら
れ、また２−プロペニルアルコールの炭酸エステル中に
含まれるＲ4 としては、メチル基、エチル基、プロピル
基等の低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ピルオキシ基等の低級アルコキシ基が挙げられる。
ロペニルアルコール類のＲ2 およびＲ5 としてはハロゲ
ン原子、ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基等で置換
されていてもよいフェニル基またはピリジル基が挙げら
れ、また２−プロペニルアルコールの炭酸エステル中に
含まれるＲ4 としては、メチル基、エチル基、プロピル
基等の低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ピルオキシ基等の低級アルコキシ基が挙げられる。
【００２６】上記一般式［II］又は［IV］の化合物の使
用量は上記一般式［Ｉ］の化合物とおよそ同じモル数で
よい。本発明方法（１）において、反応に供されるパラ
ジウム（Ｏ）触媒としては、ＰｄＬ4 ，ＰｄＲ7 Ｌ2 ，
ＰｄＲ7 3 およびＰｄＲ8 （式中、Ｒ7 はエチレン、ス
チレン等アルケンを表し、Ｒ8 はジベンジリデンアセト
ン等を表し、Ｌはトリフェニルホスフィン、トリメチル
ホスフィン等のリン化合物を表す。）等の錯体が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。また、これ
らのパラジウム（Ｏ）触媒は、酸化ホウ素、塩化スズ
（II）等の金属化合物との共存下反応を行なうことも可
能である。
用量は上記一般式［Ｉ］の化合物とおよそ同じモル数で
よい。本発明方法（１）において、反応に供されるパラ
ジウム（Ｏ）触媒としては、ＰｄＬ4 ，ＰｄＲ7 Ｌ2 ，
ＰｄＲ7 3 およびＰｄＲ8 （式中、Ｒ7 はエチレン、ス
チレン等アルケンを表し、Ｒ8 はジベンジリデンアセト
ン等を表し、Ｌはトリフェニルホスフィン、トリメチル
ホスフィン等のリン化合物を表す。）等の錯体が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。また、これ
らのパラジウム（Ｏ）触媒は、酸化ホウ素、塩化スズ
（II）等の金属化合物との共存下反応を行なうことも可
能である。
【００２７】本発明方法（２）において、反応に供され
る酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、ｎ−プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸
等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化スズ
（IV）、塩化チタン（IV）または硫酸等の無機酸が挙げ
られる。本発明において反応に供される触媒の量は、原
料である一般式［Ｉ］の化合物に対し０．１〜５重量％
である。
る酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、ｎ−プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸
等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化スズ
（IV）、塩化チタン（IV）または硫酸等の無機酸が挙げ
られる。本発明において反応に供される触媒の量は、原
料である一般式［Ｉ］の化合物に対し０．１〜５重量％
である。
【００２８】本発明の反応の温度は、通常０〜２５０
℃、好ましくは２０〜２００℃の範囲にある。本発明方
法（１）において、反応は無溶媒または溶媒中で行なわ
れる。好適に使用される溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クメン、モノクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。
℃、好ましくは２０〜２００℃の範囲にある。本発明方
法（１）において、反応は無溶媒または溶媒中で行なわ
れる。好適に使用される溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クメン、モノクロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。
【００２９】本発明方法（２）において、反応は無溶媒
または溶媒中で行なわれる。好適に使用される溶媒とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、
モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等があげられ
る。本発明において、反応中生成する水を除去しながら
反応を行なったり、あるいはアセトンジメチルアセター
ル等の脱水剤を共存させて反応を行なうこともできる。
または溶媒中で行なわれる。好適に使用される溶媒とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、
モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等があげられ
る。本発明において、反応中生成する水を除去しながら
反応を行なったり、あるいはアセトンジメチルアセター
ル等の脱水剤を共存させて反応を行なうこともできる。
【００３０】なお、一般式［II］または［IV］で表わさ
れるアルコール類は、例えば、Journal of Organometal
lic Chemistry, 91(1975) C1−C3に記載された方法によ
り、合成することができる。本発明によって得られる一
般式［III ］の化合物は除草活性を有する化合物合成の
中間体として有用な化合物である。例えば一般式［III
］の化合物を水性溶媒中で過酸、過酸化水素等と反応
させると、除草活性を有する下記一般式［VIII］の化合
物が得られる。
れるアルコール類は、例えば、Journal of Organometal
lic Chemistry, 91(1975) C1−C3に記載された方法によ
り、合成することができる。本発明によって得られる一
般式［III ］の化合物は除草活性を有する化合物合成の
中間体として有用な化合物である。例えば一般式［III
］の化合物を水性溶媒中で過酸、過酸化水素等と反応
させると、除草活性を有する下記一般式［VIII］の化合
物が得られる。
【００３１】
【化１７】
【００３２】（上記式中、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＡは既に定
義したとおりである。）
義したとおりである。）
【００３３】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えないか
ぎり、以下の実施例に限定されるものではない。
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えないか
ぎり、以下の実施例に限定されるものではない。
【００３４】実施例１ ２−［２−（３−クロロフェニル）−２−プロペニル］
−２−エチルインダン−１，３−ジオンの合成 ２−エチルインダン−１，３−ジオン１．０ｇ（０．０
０５７ｍｏｌ）、３−クロロ−α−（ヒドロキシメチ
ル）スチレン１．０ｇ（１．０３当量）、テトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．０１
ｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、窒素気流
下、７時間加熱還流した。溶媒を減圧留去したのち、
水、酢酸エチルを加えて分液した。有機層を濃縮し、得
られた残渣をヘキサン、酢酸エチルにて再結晶し、２−
［２−（３−クロロフェニル）−２−プロペニル］−２
−エチルインダン−１，３−ジオン１．５ｇを得た。
（収率８４％）得られた化合物のＮＭＲスペクトルは、
以下の通りであった。
−２−エチルインダン−１，３−ジオンの合成 ２−エチルインダン−１，３−ジオン１．０ｇ（０．０
０５７ｍｏｌ）、３−クロロ−α−（ヒドロキシメチ
ル）スチレン１．０ｇ（１．０３当量）、テトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）０．０１
ｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、窒素気流
下、７時間加熱還流した。溶媒を減圧留去したのち、
水、酢酸エチルを加えて分液した。有機層を濃縮し、得
られた残渣をヘキサン、酢酸エチルにて再結晶し、２−
［２−（３−クロロフェニル）−２−プロペニル］−２
−エチルインダン−１，３−ジオン１．５ｇを得た。
（収率８４％）得られた化合物のＮＭＲスペクトルは、
以下の通りであった。
【００３５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 −ＴＭＳ）δ：
０．６７（ｔ，３Ｈ）１．８３（ｑ，２Ｈ）２．６７
（ｄｄ，２Ｈ）２．７１（ｄｄ，２Ｈ）６．８５−７．
３０（ｍ，４Ｈ）７．６０−８．１５（ｍ，４Ｈ）
０．６７（ｔ，３Ｈ）１．８３（ｑ，２Ｈ）２．６７
（ｄｄ，２Ｈ）２．７１（ｄｄ，２Ｈ）６．８５−７．
３０（ｍ，４Ｈ）７．６０−８．１５（ｍ，４Ｈ）
【００３６】実施例２ ２−［２−（３−クロロフェニル）−２−プロペニル］
インダン−１，３−ジオンの合成 インダン−１，３−ジオン０．８６ｇ（０．００５９ｍ
ｏｌ）、３−クロロ−α−（ヒドロキシメチル）スチレ
ン１．１ｇ（１．０当量）、アセトンジメチルアセター
ル０．６１ｇ（１．０当量）、ｐ−トルエンスルホン酸
０．０４ｇ、トルエン１０ｍｌの混合液を、７時間加熱
還流した。反応系を水で洗浄した後、濃縮し、得られた
残渣をカラムクロマトグラフィー（展開系；ヘキサン／
酢酸エチル＝４／１）にて精製し、２−［２−（３−ク
ロロフェニル）−２−プロペニル］インダン−１，３−
ジオン０．９ｇを得た。（収率５４％） 得られたＮＭＲスペクトルは、以下の通りであった。
インダン−１，３−ジオンの合成 インダン−１，３−ジオン０．８６ｇ（０．００５９ｍ
ｏｌ）、３−クロロ−α−（ヒドロキシメチル）スチレ
ン１．１ｇ（１．０当量）、アセトンジメチルアセター
ル０．６１ｇ（１．０当量）、ｐ−トルエンスルホン酸
０．０４ｇ、トルエン１０ｍｌの混合液を、７時間加熱
還流した。反応系を水で洗浄した後、濃縮し、得られた
残渣をカラムクロマトグラフィー（展開系；ヘキサン／
酢酸エチル＝４／１）にて精製し、２−［２−（３−ク
ロロフェニル）−２−プロペニル］インダン−１，３−
ジオン０．９ｇを得た。（収率５４％） 得られたＮＭＲスペクトルは、以下の通りであった。
【００３７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 −ＴＭＳ）δ：
３．１３（２Ｈ，Ｓ）５．１９（１Ｈ，Ｓ）５．２９
（１Ｈ，Ｓ）７．１８−７．３０（４Ｈ，ｍ）７．８０
（２Ｈ，ｄｄ）７．８９（２Ｈ，ｄｄ）
３．１３（２Ｈ，Ｓ）５．１９（１Ｈ，Ｓ）５．２９
（１Ｈ，Ｓ）７．１８−７．３０（４Ｈ，ｍ）７．８０
（２Ｈ，ｄｄ）７．８９（２Ｈ，ｄｄ）
【００３８】比較例１ ２−［２−（３−クロロフェニル）−２−プロペニル］
−２−エチルインダン−１，３−ジオンの合成 ２−エチルインダン−１，３−ジオン１．７４ｇ（０．
０１ｍｏｌ）を乾燥ジメチルセロソルブ１０ｍｌに溶解
し、これに５０％水素化ナトリウム０．４８ｇ（１．０
当量）を加え、３０分間室温で攪拌した。次いで、３−
クロロ−α−（クロロメチル）スチレン１．８７ｇ
（１．０当量）を加え、７０℃にて５時間加熱還流し
た。反応混合物に注水し、酢酸エチルにて抽出し、有機
層を飽和食塩水にて水洗した後濃縮し、得られた残渣を
カラムクロマトグラフィー（展開系；ヘキサン／酢酸エ
チル＝６／１）にて精製し、２−［２−（３−クロロフ
ェニル）−２−プロペニル］−２−エチルインダン−
１，３−ジオン１．６２ｇを得た。（収率５０％）
−２−エチルインダン−１，３−ジオンの合成 ２−エチルインダン−１，３−ジオン１．７４ｇ（０．
０１ｍｏｌ）を乾燥ジメチルセロソルブ１０ｍｌに溶解
し、これに５０％水素化ナトリウム０．４８ｇ（１．０
当量）を加え、３０分間室温で攪拌した。次いで、３−
クロロ−α−（クロロメチル）スチレン１．８７ｇ
（１．０当量）を加え、７０℃にて５時間加熱還流し
た。反応混合物に注水し、酢酸エチルにて抽出し、有機
層を飽和食塩水にて水洗した後濃縮し、得られた残渣を
カラムクロマトグラフィー（展開系；ヘキサン／酢酸エ
チル＝６／１）にて精製し、２−［２−（３−クロロフ
ェニル）−２−プロペニル］−２−エチルインダン−
１，３−ジオン１．６２ｇを得た。（収率５０％）
【００３９】比較例２ ２−［２−（３−クロロフェニル）−２−プロペニル］
インダン−１，３−ジオンの合成 １，３−インダンジオン２０ｇ（０．１３７ｍｏｌ）を
２０％水酸化カリウム水溶液７６ｍｌに溶解し、これに
３−クロロ−α−（クロロメチル）スチレン２６ｇ
（１．０当量）を加え、８０℃にて１．５時間加熱攪拌
した。氷水冷却下塩酸水を加えて酸性とした後、酢酸エ
チルにて抽出、有機層を濃縮、得られた残渣をカラムク
ロマトグラフィー（展開系；ヘキサン／酢酸エチル＝５
／１）にて精製し、２−［２−（３−クロロフェニル）
プロペン−３−イル］インダン−１，３−ジオン１５ｇ
を得た。（収率３０％）。目的生成物以外に上記一般式
［VI］の縮合体および上記一般式［VII ］のインデノン
類に対応する副生成物が多量に生成した。
インダン−１，３−ジオンの合成 １，３−インダンジオン２０ｇ（０．１３７ｍｏｌ）を
２０％水酸化カリウム水溶液７６ｍｌに溶解し、これに
３−クロロ−α−（クロロメチル）スチレン２６ｇ
（１．０当量）を加え、８０℃にて１．５時間加熱攪拌
した。氷水冷却下塩酸水を加えて酸性とした後、酢酸エ
チルにて抽出、有機層を濃縮、得られた残渣をカラムク
ロマトグラフィー（展開系；ヘキサン／酢酸エチル＝５
／１）にて精製し、２−［２−（３−クロロフェニル）
プロペン−３−イル］インダン−１，３−ジオン１５ｇ
を得た。（収率３０％）。目的生成物以外に上記一般式
［VI］の縮合体および上記一般式［VII ］のインデノン
類に対応する副生成物が多量に生成した。
【００４０】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の製造法によ
れば、医薬、農薬の中間体として有用な２−（２−置換
−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類を、高
収率で容易に得ることが可能となる。
れば、医薬、農薬の中間体として有用な２−（２−置換
−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類を、高
収率で容易に得ることが可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式［Ｉ］ 【化１】 （上記式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキル基、低級ハ
ロアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基ま
たはベンジル基を表し、Ａは置換されていてもよい、
１，３−ブタジエニレン基、または１，３−アザブタジ
エニレン基を表す。）で表される、インダン−１，３−
ジオン類に下記一般式［II］ 【化２】 （上記式中、Ｒ2 は置換されていてもよいフェニル基ま
たはピリジル基を表し、Ｒ3 は水素原子、または 【化３】 （式中Ｒ4 は低級アルキル基または低級アルコキシ基を
表す。）で表される２−プロペニルアルコール類、また
はその炭酸エステルを、パラジウム（Ｏ）触媒存在下反
応させることを特徴とする下記一般式［III ］ 【化４】 （上記式中、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＡは既に定義したとおり
である。）で表される２−（２−置換−２−プロペニ
ル）インダン−１，３−ジオン類の製造法。 - 【請求項２】 下記一般式［Ｉ］ 【化５】 （上記式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキル基、低級ハ
ロアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基ま
たはベンジル基を表し、Ａは置換されていてもよい、
１，３−ブタジエニレン基、または１，３−アザブタジ
エニレン基を表す。）で表される、インダン−１，３−
ジオン類に下記一般式［IV］ 【化６】 （上記式中、Ｒ2 は置換されていてもよいフェニル基ま
たはピリジル基を表す。）で表される２−プロペニルア
ルコール類を、酸触媒存在下反応させることを特徴とす
る下記一般式［III ］ 【化７】 （上記式中、Ｒ1 ，Ｒ2 およびＡは既に定義したとおり
である。）で表される２−（２−置換−２−プロペニ
ル）インダン−１，３−ジオン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26032492A JPH06122645A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | ２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26032492A JPH06122645A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | ２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122645A true JPH06122645A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17346432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26032492A Pending JPH06122645A (ja) | 1992-09-29 | 1992-09-29 | ２−（２−置換−２−プロペニル）インダン−１，３−ジオン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06122645A (ja) |
-
1992
- 1992-09-29 JP JP26032492A patent/JPH06122645A/ja active Pending
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