JPH06122653A - 飽和単環炭化水素化合物の製造方法およびその中間体 - Google Patents

飽和単環炭化水素化合物の製造方法およびその中間体

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JPH06122653A
JPH06122653A JP5201605A JP20160593A JPH06122653A JP H06122653 A JPH06122653 A JP H06122653A JP 5201605 A JP5201605 A JP 5201605A JP 20160593 A JP20160593 A JP 20160593A JP H06122653 A JPH06122653 A JP H06122653A
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JP5201605A
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Takashi Ebata
隆 恵畑
Yukifumi Koseki
幸史 古関
Koji Okano
耕二 岡野
Hiroshi Kawakami
浩 川上
Katsuya Matsumoto
克也 松本
Hajime Matsushita
肇 松下
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Japan Tobacco Inc
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Japan Tobacco Inc
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • C07C69/675—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids of saturated hydroxy-carboxylic acids
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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Abstract

(57)【要約】 【目的】光学活性な飽和単環炭化水素化合物を選択的に
得ることができる飽和単環炭化水素化合物の製造方法お
よびその中間体を提供すること。 【構成】下記化１に示されるように、レボグルコセノン
から合成された化合物(6) に、例えばビニル基を導入
し、化合物(7) を得る。化合物(7) のビニル基の二重結
合を酸化的に切断した後水酸基を保護して化合物(9) を
得る。化合物(9) を塩基で処理し分子内アルキル化させ
て化合物(10)を得る。次に化合物(10)を還元して化合物
(11)を得、化合物(11)の一級水酸基のみをエステル化し
て飽和単環炭化水素化合物(1) を得る。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、化粧品、食品
等の加香に用いられる香気成分、農薬、または、医薬品
の合成中間体として有用な飽和単環炭化水素化合物の製
造方法およびその中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】下記化１８に示すジヒドロエピジャスミ
ン酸メチルは、ジャスミン様の香気を有する香気成分で
あり、例えば、化粧品、食品または調合香料等に広く用
いられている。
【０００３】
【化１８】 このような種類の香料では、２つの置換基がシス配置で
ある方が香気的に優れていることが知られている。
【０００４】また、最近の研究で、β−ヒドロキシル基
を有するジヒドロエピジャスミン酸誘導体が、広く植物
の生育調節等に関与していることが明らかになってい
る。
【０００５】以上のようなジヒドロジャスミン酸メチル
および下記化１９に示す飽和単環炭化水素化合物（１）
は、各種食品、化粧品や喫煙物の加香に用いられる香気
成分、医薬品、農薬、または、医薬品等の合成原料とし
て極めて有用である。
【０００６】
【化１９】 但し、Ｒ1 は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数２
〜１０のアルケニル基を示し、Ｒ2 は炭素数１〜５のア
ルキル基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。
【０００７】飽和単環炭化水素化合物（１）は、一般的
に光学活性な形で存在し、光学異性体のタイプによって
異なる性質を示すことが認められている。例えば、上述
のジヒドロエピジャスミン酸メチルでは、二つの光学異
性体の間で匂いの性質等が異なることが認められてい
る。従って、飽和単環炭化水素化合物（１）の光学異性
体を光学的に純粋な形で得ることは極めて重要である。
しかし、従来、飽和単環炭化水素化合物（１）の光学異
性体を選択的に合成できる製造方法は知られていない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の点に
鑑みてなされたものであり、光学活性な飽和単環炭化水
素化合物を選択的に得ることができる飽和単環炭化水素
化合物の製造方法およびその中間体を提供することを目
的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の飽和
単環炭化水素化合物（１）の製造方法によって達成され
る。即ち、本発明は下記（ａ）から（ｍ）の工程を具備
した（１）の製造方法である。
【００１０】（ａ）下記化２０で示されるように、レボ
グルコセノン（２）のエノン部分にアルキル基Ｒ1 を付
加することにより化合物（３）を得る工程。
【００１１】
【化２０】 但し、Ｒ1 は先に定義した通りである。
【００１２】（ｂ）下記化２１で示されるように、工程
（ａ）で得られた化合物（３）を過酸で酸化することに
より化合物（４）を得る工程。
【００１３】
【化２１】 但し、Ｒ1 は先に定義したとおりである。
【００１４】（ｃ）下記化２２で示されるように、工程
（ｂ）で得られた化合物（４）の水酸基を脱離基ＯＸ1
に変換することにより化合物（５）を得る工程。
【００１５】
【化２２】 但し、Ｒ1 は先に定義したとおりであり、Ｘ1 はＯＸ1
として脱離可能な基を示す。
【００１６】（ｄ）下記化２３で示されるように、工程
（ｃ）で得られた化合物（５）を塩基で処理することに
より化合物（６）を得る工程。
【００１７】
【化２３】 但し、Ｒ1 およびＸ1 は先に定義したとおりであり、Ｒ
3 は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。
【００１８】（ｅ）下記化２４で示されるように、工程
（ｄ）で得られた化合物（６）にアルケニル基を導入す
ることにより、化合物（７）を得る工程。
【００１９】
【化２４】 但し、Ｒ1 及びＲ3 は上記と同じ意味を示し、ｎは１〜
３の整数を示し、Ｒは水素原子又は炭素数１から（８−
ｎ）個のアルキル基を示す（但し、ｎは前述のとおりで
ある）。
【００２０】（ｆ）下記化２５で示されるように、工程
（ｅ）で得られた化合物（７）のアルケニル基の二重結
合を酸化的に切断した後に還元することにより、化合物
（８）を得る工程。
【００２１】
【化２５】 但し、Ｒ、Ｒ1 およびｎは先に定義したとおりである。
【００２２】（ｇ）下記化２６で示されるように、工程
（ｆ）で得られた化合物（８）の水酸基を脱離基ＯＸ2
に変換することにより、化合物（９）を得る工程。
【００２３】
【化２６】 但し、Ｒ1 およびｎは先に定義したとおりであり、Ｘ2
はＯＸ2 として脱離可能な基を示す。
【００２４】（ｈ）下記化２７で示されるように、工程
（ｇ）で得られた化合物（９）を塩基で処理することに
より閉環させて、化合物（１０）を得る工程。
【００２５】
【化２７】 但し、Ｒ1 、ｍ、ｎおよびＸ2 は先に定義したとおりで
ある。
【００２６】（ｉ）下記化２８で示されるように、工程
（ｈ）で得られた化合物（１０）を還元することによ
り、化合物（１１）を得る工程。
【００２７】
【化２８】 但し、Ｒ1 およびｍは先に定義したとおりである。
【００２８】（ｊ）下記化２９で示されるように、工程
（ｉ）で得られた化合物（１１）の一級水酸基のみを選
択的に脱離基ＯＸ3 に変換して、化合物（１２）を得る
工程。
【００２９】
【化２９】 但し、Ｒ1 およびｍは先に定義したとおりであり、Ｘ3
はＯＸ3 として脱離可能な基を示す。
【００３０】（ｋ）下記化３０で示されるように、工程
（ｊ）で得られた化合物（１２）の二級水酸基に保護基
Ｒ4 を導入することにより、化合物（１３）を得る工
程。
【００３１】
【化３０】 但し、Ｒ1 、ｍおよびＸ3 は先に定義したとおりであ
り、Ｒ4 は水酸基の保護基を示す。
【００３２】（ｌ）下記化３１で示されるように、式
（１３）で表される化合物にニトリル基を導入すること
により、式（１４）で表される化合物を得る工程。
【００３３】
【化３１】 但し、Ｒ1 、Ｒ4 、ｍおよびＸ3 は先に定義したとおり
である。
【００３４】（ｍ）下記化３２で示されるように、工程
（ｌ）で得られた化合物（１４）のニトリル基を加水分
解してカルボキシル基に変換した後、酸性条件下で保護
基Ｒ4 を脱離させた後にカルボキシル基をエステル化す
ることにより、飽和単環炭化水素化合物（１）を得る工
程。
【００３５】
【化３２】 但し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 およびｍは先に定義したとおり
である。
【００３６】また、本発明は、上記（ａ）から（ｍ）の
工程を具備した下記化３３に示す化合物（１’）の製造
方法であって、
【化３３】 但し、Ｒ2 及びｍは先に定義したとおりであり、Ｒ1 ’
は炭素数２から１０のアルケニル基である。
【００３７】更に、工程（ａ）においてエノン部にアル
キル基の代わりにアルケニル基を付加し、工程（ｂ）に
おいて、酸化反応の後に、生成物を更に酸化剤で処理
し、次いで水酸基の保護及びアセタール化を行ない、工
程（ｍ）において、ニトリル基の加水分解、脱保護及び
エステル化の後にWittig反応を行なう、ことを具備した
ことを特徴とする製造方法である。
【００３８】また、本発明は、下記化３４の一般式で表
される化合物（１０）を提供する。
【００３９】
【化３４】 但し、Ｒ1 は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数２
〜１０のアルケニル基を示し、ｍは１〜３の整数を示
す。
【００４０】以下、本発明の飽和単環炭化水素化合物の
製造方法を更に詳細に説明する。
【００４１】本発明の製造方法の出発原料であるレボグ
ルコセノンは、セルロースの熱分解物として広く知られ
ている。また、レボグルコセノン（２）は、同様にガラ
クトースを出発原料として、Chemistry Letters, 307-3
10(1990)に示されている方法に従って、高い光学純度で
容易に得ることができる。
【００４２】以下では、本発明の第一の側面である、化
合物（１）の製造方法について説明する。特に、簡略化
のためＲ1 基がアルキル基の場合について説明するが、
本発明はこれに限定されない。
【００４３】工程（ａ）のレボグルコセノン（２）のエ
ノン部分へアルキル基Ｒ1 を導入する反応は、例えば、
ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅の銅塩の存在下で、例えば、
アルキルリチウム、アルキルマグネシウムのようなアル
キル化剤を用いて行うことができる。この場合に、レボ
グルコセノン（２）１モルに対して、アルキル化剤を、
１．０モル〜３．０モル用いることが好ましい。更に好
ましくは１．２５モルのアルキル化剤を用いる。このア
ルキル化反応は、例えば、適当な溶媒中、不活性ガス雰
囲気下、通常−７０℃〜室温にて、３０分〜２０時間撹
拌しながら行われる。ここで用いる適当な溶媒は、例え
ば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル系溶媒、もしくはトルエン、キシレン等の有機溶媒で
あるが特に限定されるものではない。
【００４４】工程（ａ）においてレボグルコセノンの４
位に導入されるアルキル基Ｒ1 は、特に限定されない
が、炭素数が１から１０のアルキル基が好ましい。アル
キル化剤の種類は所望のアルキル基により適宜選択すれ
ば良い。
【００４５】工程（ｂ）の５員のラクトン環を形成する
反応は、適当な過酸を用いたバイヤー−ビリガー酸化に
よって行なうことができる。この場合、化合物（３）１
モルに対し、過酸を１モル〜５モル、好ましくは１モル
用いことができる。ラクトン環の形成反応に用い得る過
酸としては、例えば、過酢酸、過蟻酸、メタクロロ過安
息香酸、フタル酸の過酸化物等がある。本工程のラクト
ン環の形成反応は、前述の過酸と化合物（３）を、適当
な溶媒中、０℃〜５０℃にて１時間〜８０時間撹拌する
ことによって行われる。ここで使用する適当な溶媒とし
ては、例えば、酢酸や蟻酸の酸類や、例えば塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒である。しかし、
該溶媒は、過酸と反応せず、かつ反応後の処理を困難に
する副生成物を生じないものであれば良く、特に限定さ
れるものではない。
【００４６】工程（ｃ）において、化合物（４）の水酸
基を脱離基ＯＸ1 に変換する反応は、通常のエステル化
によって行うことができる。ＯＸ1 基は後述する工程
（ｄ）において脱離基として働く。従ってＸ1 基は、Ｏ
Ｘ1 として脱離可能な基であれば特に限定されるもので
はない。しかしながら、好ましいＸ1 基は、例えば、パ
ラトルエンスルフォニル基、メタンスルフォニル基、ト
リフルオロメタンスルフォニル基である。化合物（４）
の水酸基をＯＸ1 基に変換する反応は、例えば、Ｘ1 の
ハロゲン化物若しくは酸無水物のようなＸ1 基を有する
化合物を、（４）と供に適当な溶媒中、−１０℃〜３０
℃で３時間〜３０時間撹拌することによって行われる。
この場合、化合物 (４) １モルに対して、上記Ｘ1 基を
有する化合物を１モル〜４モル、好ましくは１．５モル
用いる。また、適当な溶媒としては、例えば、ピリジ
ン、トリエチルアミン等を使用できるが特に限定される
ものではない。
【００４７】工程（ｄ）の化合物（５）のエポキシド化
反応は、適当な溶媒中で塩基性化合物を用いて、通常０
℃〜３０℃にて２時間〜３０時間撹拌することによって
行うことができる。該塩基性化合物としては、例えば水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムのよ
うな金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウムのよ
うな炭酸塩；または、酢酸カリウム、酢酸ナトリウムの
ような酢酸塩などを用いることができる。この場合、化
合物（５）１モルに対し、上記塩基性化合物を１モル〜
３モル、好ましくは１．１モル用いることができる。本
反応で使用し得る溶媒としては、水、及び、例えば、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコールのよう
なアルコール類、並びに、それらとテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）等との混合溶媒があるが、特に限定されるも
のではない。Ｒ3 基は使用される溶媒に依存し、水又
は、水とＴＨＦの混合溶媒の場合には、Ｒ3 基は水素原
子となり、アルコールまたはアルコールおよびＴＨＦの
混合溶媒の場合には、Ｒ3 基はアルコールに対応したア
ルキル基となる。しかし、Ｒ3 基は、引き続き行われる
工程（ｅ）において脱離されるので特に限定しなくとも
良い。
【００４８】工程（ｅ）は、化合物（７）を得る工程で
ある。化合物（７）は、例えば、ヨウ化銅、臭化銅、塩
化銅等の銅塩の存在下において、化合物（６）と、例え
ば、ビニルリチウム、ビニルマグネシウムハライドのよ
うな下記化３５の一般式（Ａ）で表わされるアルケニル
金属塩とを反応することにより得ることができる。
【００４９】
【化３５】 但し、Ｒ及びｎは先に定義したとおりであり、Ｌはアル
カリ金属、又はＭｇＸ（Ｘはハロゲンを表わす）等であ
る。
【００５０】このアルケニル化反応は、例えば、適当な
溶媒中、不活性ガス雰囲気下で、−７０℃〜室温にて、
１時間から２０時間撹拌することにより行われる。ここ
で使用する適当な溶媒としては、例えば、エ−テル、テ
トラヒドロフラン等のエ−テル系溶媒や、トルエン、キ
シレン等の有機溶媒であるが、特に限定されるものでは
ない。この反応で化合物（６）の５位に導入されるアル
ケニル基は、例えば、１−アルケニル、２−アルケニル
または３−アルケニル基（それぞれ化合物（Ａ）でｎ＝
１、２、及び３に対応する。）である。化合物（Ａ）の
炭素数は、２〜１０、好ましくは２〜４である。アルケ
ニル基の種類は、後述する工程（ｈ）において閉環反応
により形成される環の種類に対応する。すなわち、アル
ケニル基が１−アルケニル基の場合には、５員環が、２
−アルケニル基の場合には６員環が、３−アルケニル基
の場合には７員環が形成される。
【００５１】工程（ｆ）の、化合物（７）からアルコ−
ル（８）を得る反応は、アルケニル基の二重結合を酸化
的に切断した後還元することにより行われる。ここで、
二重結合の酸化的切断は、化合物（７）を、オゾン、酸
化ルテニウム、四酸化オスミウムまたは過ヨウ素酸ナト
リウムのような酸化剤で処理することによって行なわれ
る。また、還元反応は、先の酸化反応で得られた生成物
を単離することなく、ジボラン、水素化ホウ素ナトリウ
ム等の還元剤と反応させることにより行うことができ
る。本工程の酸化反応及び還元反応は、例えば、適当な
溶媒中、−７０℃〜室温にて、１時間から３０時間、撹
拌することによって行われる。ここで使用する適当な溶
媒としては、例えば、四塩化炭素、塩化メチレン等のハ
ロゲン系溶媒等であるが特に限定されるものではない。
【００５２】工程（ｇ）の水酸基を脱離基ＯＸ2 に変換
する反応は、前述の工程（ｃ）と同様に、通常のエステ
ル化によって行うことができる。Ｘ2 基は、工程（ｃ）
と同様のＯＸ2 として脱離可能な基である。
【００５３】工程（ｈ）における閉環は、分子内アルキ
ル化反応によって達成される。化合物（９）の分子内ア
ルキル化反応は、化合物（９）を適当な塩基で処理する
ことにより行われる。すなわち、工程（ｅ）においてア
ルケニル基としてビニル基を導入した場合について説明
すると、下記化３６に示すように、工程（ｅ）でビニル
基が導入された化合物(VII) から、工程（ｆ），（ｇ）
を経て化合物（IX）を得る。化合物（IX）を塩基で処理
すると、２位でアニオンが発生し、発生したアニオンは
６位の炭素原子を攻撃して、ＯＸ2 の脱離を伴った分子
内アルキル化反応が起こる。これによって化合物（IX）
の２位および６位の炭素原子の間で閉環し、化合物
（Ｘ）が得られる。前述のように、形成される環の種類
は、工程（ｅ）で導入したアルケニル基の種類に依存す
る。
【００５４】
【化３６】 ここで、塩基には、リチウムジイソプロピルアミド、リ
チウムヘキサメチルジシラジド等の強塩基を用いること
が好ましい。この閉環反応は、例えば、適当な溶媒中、
不活性ガス雰囲気下、−７０℃〜室温にて、１時間から
３０時間撹拌することにより行うことができる。適当な
溶媒としては、例えば、エ−テル、テトラヒドロフラン
等を用いることができるが、特に限定されるものではな
い。
【００５５】工程（ｉ）では、還元反応によって化合物
（１０）のラクトン環が開裂して、化合物（１１）が得
られる。化合物（１０）の還元は、化合物（１０）を適
当な還元剤と処理することにより行うことができる。還
元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、
水素化ジイソブチルアルミニウム等を使用できる。この
還元反応は、適当な溶媒中、−７０℃〜室温にて、１時
間から３０時間撹拌することにより行うことができる。
ここで、適当な溶媒としては、例えば、エ−テル、テト
ラヒドロフラン等のエ−テル系溶媒や、トルエン、キシ
レン等の有機溶媒であるが特に限定されるものではな
い。
【００５６】工程（ｊ）〜（ｌ）では、化合物（１１）
の２つの水酸基のうち一級水酸基をニトリル基に選択的
に変換する。
【００５７】まず、工程（ｊ）では、化合物（１１）の
一級水酸基を選択的に脱離基ＯＸ3に変換する。一級水
酸基のＯＸ3 基への変換反応は、通常のエステル化反応
によって行うことができる。Ｘ3 基は、後述する工程
（ｌ）で脱離されるので特に限定されないが、好ましく
は、パラトルエンスルフォニル基、メタンスルフォニル
基またはトリフルオロメタンスルフォニル基である。こ
の一級水酸基のＯＸ3 基への変換反応は、例えば、Ｘ3
のハロゲン化物または酸無水物のようなＸ3 基を有する
化合物を、適当な溶媒中、−１０℃ー３０℃にて３時間
から３０時間化合物（１１）と撹拌することにより行わ
れる。この場合、化合物（１１）１モルに対して上述の
Ｘ3 基を有する化合物を、１モル〜４モル、好ましくは
１モル用いることができる。また、適当な溶媒は、例え
ば、ピリジン、トリエチルアミン等や、これらと塩化メ
チレンやクロロホルム等のハロゲン系溶媒との混合溶媒
であるが特に限定されるものではない。
【００５８】工程（ｋ）において、二級水酸基へ導入さ
れる保護基Ｒ4 は、通常水酸基の保護基として用いられ
ているものであり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基
等のアシル系の保護基、エトキシエチル基、テトラヒド
ロピラニル基等のエ−テル系の保護基、ｔ−ブチルジメ
チルシリル基、トリエチルシリル基等のシリル系の保護
基である。保護基Ｒ4 の導入は、アシル系の保護基を導
入する場合は、例えば、ピリジン、トルエチルアミン等
の塩基性化合物の存在下で、例えば、酸無水物、アシル
クロリド等を化合物（１２）と反応させればよい。
【００５９】また、エーテル系の保護基を導入する場合
には、例えば、パラトルエンスルホン酸、パラトルエン
スルホン酸ピリジン塩等の酸性化合物の存在下で、ジヒ
ドロピラン等の対応するアルケンを化合物（１２）と反
応させればよい。
【００６０】また、シリル系の保護基を導入する場合に
は、例えば、適当な溶媒中、イミダゾールやピリジン等
のアミン化合物の存在下で、例えば、トリオルガノシリ
ルクロリドまたはトリオルガノシリルトリフラートを化
合物（１２）と反応させればよい。本反応における好適
な溶媒には、例えば、ジメチルホルミアミド、塩化メチ
レンのような有機溶媒があるが、特に限定されるもので
はない。
【００６１】工程（ｌ）において、一級水酸基のニトリ
ル基への変換は、化合物（１３）を、適当な溶媒中、室
温〜１８０℃にて、１時間から３０時間撹拌しながら、
シアン化ナトリウム、シアン化カリウムのような青酸塩
と反応させることによって行なうことができる。本反応
に用いられる適当な溶媒には、例えば、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等があるが特に限定され
るものではない。
【００６２】工程（ｍ）では、まず、化合物（１４）の
ニトリル基を加水分解してカルボキシル基に変換する。
この加水分解反応は、化合物（１４）を、適当な溶媒
中、塩基として水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を
用い、室温〜１５０℃で、１時間から３０時間撹拌した
後、適当な酸で処理することにより行うことができる。
この際、二級水酸基に導入した保護基Ｒ4 が脱離する。
ここで溶媒としては、メタノールもしくはメトキシエタ
ノールのようなアルコールと水との混合溶媒を用いるこ
とができるが、特に限定されるものではない。また、酸
処理に使用できる酸には、例えば硫酸、塩酸等がある。
【００６３】また、以上のような加水分解反応により得
られた化合物を、適当な溶媒中、ジアゾメタンやジメチ
ル硫酸等のエステル化剤と反応させることによりエステ
ル体を得ることができる。エステル化に用いられる溶媒
は、エーテル、ベンゼン等の有機溶媒であるが、特に限
定されるものではない。
【００６４】次に本発明の第二の目的である下記化３７
の一般式で表される化合物（１’）の製造方法について
説明する。
【００６５】
【化３７】 但し、Ｒ1 ’Ｒ2 及びｍは先に定義したとおりである。
【００６６】工程（ａ）において、レボグルコセノン
（２）に、Ｒ1 としてアルケニル基Ｒ1 ’を導入するこ
とができる。レボグルコセノン（２）にアルケニル基Ｒ
1 ’を導入すると最終生成物としてアルケニル基Ｒ1 ’
を有する化合物（１’）が得られる。
【００６７】レボグルコセノンの４位に導入されるアル
ケニル基Ｒ1 ’は、特に限定されないが、炭素数が２か
ら１０のアルケニル基が好ましい。アルケニル化剤の種
類は所望のアルケニル基により適宜選択すれば良い。
【００６８】以下の説明では、簡便のため２−アルケニ
ル基をＲ1 ’として導入する場合について説明するが、
本発明はこれに限定されない。
【００６９】２−アルケニル基の導入は、下記化３８に
示すように、工程（ａ）においてアルキル化剤に代え
て、２−アルケニルリチウム、２−アルケニルマグネシ
ウムハライドのようなアルケニル化剤を用いることによ
り行なわれる。
【００７０】
【化３８】 但し、Ｒ5 およびＲ6 は、水素原子またはアルキル基を
示す。
【００７１】得られた２−アルケニル基を有する化合物
（３ａ）を用いて、工程（ｂ）を行なうと、下記化３９
に示すように、ラクトン環の形成と共に２−アルケニル
基の二重結合が酸化されエポキシドとなった、化合物
（４ａ）が得られる。
【００７２】
【化３９】 但し、Ｒ5 およびＲ6 は、先に定義した通りである。
【００７３】次に、下記化４０に示すように、エポキシ
ド（４ａ）を過ヨウ素酸等の酸化剤と反応させ、エポキ
シ環の炭素−炭素結合を酸化的に切断することにより化
合物（４ｂ）を得る。次に化合物（４ｂ）の５位の水酸
基に保護基Ｒ7 を導入して化合物（４ｃ）を得る。更
に、アルデヒド基を保護するために、化合物（４ｃ）の
アルデヒドをアセタール化して、化合物（４ｄ）を得
る。
【００７４】
【化４０】 但し、Ｒ5 、Ｒ6 は先に定義されたとおりであり、Ｒ7
は、水酸基の保護基を示し、Ｒ8 及びＲ9 は互いに同一
であってもよいアルキル基を示し、かつ、Ｒ8 およびＲ
9 は互いに結合して環を形成しても良い。
【００７５】このようにして得られた化合物（４ｄ）の
水酸基の保護基Ｒ7 を脱離する。得られたアルコールを
用いて上述の工程（ｃ）〜工程（ｌ）を行なう。
【００７６】次に、工程（ｌ）により得られた化合物
（１４ａ）を用いて、工程（ｍ）を行なうと、下記化４
１に示すように、ニトリル基の加水分解、エステル化、
および保護基Ｒ4 の脱離と共に、アセタール基がアルデ
ヒド基に変換されて、化合物（１５ａ）が得られる。
【００７７】
【化４１】 但し、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ8 およびＲ9 は先に定義したとお
りである。
【００７８】この後、下記化４２で示されるように、化
合物（１５ａ）をWittig反応にかけることにより、化合
物（１）のＲ1 として２−アルケニル基を有する化合物
（１’ａ）が得られる。
【００７９】
【化４２】 但し、Ｒ2 は先に定義した通りであり、Ｒ10、Ｒ11は、
水素原子またはアルキル基を示す。
【００８０】化合物（１５ａ）は直接にWittig反応かけ
てもよいが、アルデヒド基をカルボキシル基に変換した
後にWittig反応を行なうこともできる。
【００８１】以上のようにして、化合物（１）のＲ1 と
してアルケニル基Ｒ1 ’を有する化４３の化合物
（１’）が得られる。
【００８２】
【化４３】 但し、Ｒ1 ’、Ｒ2 及びｍは先に定義したとおりであ
る。
【００８３】
【実施例】以下、本発明の飽和単環炭化水素の製造方法
を適用してジヒドロエピジャスミン酸メチルを製造した
実施例について詳細に説明する。
【００８４】［Ａ］ １，６−アンヒドロ−３，４−ジ
デオキシ−４−Ｃ−ペンチル−β−Ｄ−エリスロ−ヘキ
ソピラノ−ス−２−ウロ−ス［化合物（３）］の合成 ヨウ化銅５．７２ｇ（３０ｍｍｏｌ）及びペンチルリチ
ウム７５ｍｌ（０．８Ｎ，６０ｍｍｏｌ）より常法に従
って調製したジメチル銅リチウム溶液中に−６０℃で、
レボグルコセノン３．５１ｇ（２５ｍｍｏｌ）の無水エ
−テル溶液１０ｍｌを滴下した。滴下後３０分間、反応
溶液を−６０℃で撹拌した後、反応温度を０℃まで上昇
させた。次いで、反応溶液を飽和塩化アンモニウム水溶
液中にあけ、室温で３０分撹拌した後、不溶物を濾別し
た。得られた濾液から有機層を分離し、水層を塩化メチ
レンで抽出した。得られた抽出液を先に分離した有機層
と合わせて、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濾過後濾液を濃縮し、得られた残渣
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：エ−テル＝１０：１〜２：１）で精製し、さらに得
られた生成物を減圧蒸留して、化合物（３）４．０１ｇ
（８１．０％）を得た。
【００８５】得られた生成物の物理的特性は次のとおり
であった。
【００８６】沸点：１１３−１１５℃／１０ｍｍＨｇ1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８９（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２０−１．７２（８Ｈ，
ｍ），２．０１−２．２２（２Ｈ，ｍ），２．８０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１６．３Ｈｚ），３．９２−
４．０６（２Ｈ，ｍ），４．５０−４．５９（１Ｈ，
ｍ），５．０６（１Ｈ，ｓ） ［Ｂ］ （３Ｓ，４Ｓ）−５−ヒドロキシ−３−ペンチ
ルペンタン−４−オリド［化合物（４）］の合成 工程［Ａ］で得られた化合物（３）７．５１ｇ（３７．
９ｍｍｏｌ）を酢酸３７ｍｌに溶解し、この溶液に撹拌
しながら４０％過酢酸６．７ｍｌを滴下して加えた。こ
のとき、反応温度は２０〜３０℃に維持した。次いで、
反応溶液を室温で一晩撹拌した後、反応溶液に、冷却し
ながらジメチルスルフィド２．４０ｇ（３８．７ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。得られた混合溶液を３０分室温で撹拌
した。得られた反応溶液を濃縮した後、得られた残渣を
メタノ−ル３０ｍｌに溶解し、さらに濃塩酸１０滴を加
え、５０℃に加温しながら６時間撹拌した。次に、溶液
を濃縮して、得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１〜
１：３）で精製して、化合物（４）６．３８ｇ（９０．
５％）を得た。
【００８７】得られた生成物の物理的特性は次のとおり
であった。
【００８８】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ):δ ０．９０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１０−１．６２
（９Ｈ，ｍ），２．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１
７．３Ｈｚ），２．３５−２．５２（１Ｈ，ｍ），２．
７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１７．３），３．６１
−３．７４（１Ｈ，ｍ），３．８５−３．９６（１Ｈ，
ｍ），４．１９−４．２９（１Ｈ，ｍ） ［Ｃ］ （３Ｓ，４Ｓ）−３−ペンチル−５−トシロキ
シペンタン−４−オリド［化合物（５）］の合成 工程［Ｂ］で得られた化合物（４）１．５１ｇ（８．１
２ｍｍｏｌ）を無水ピリジン１０ｍｌに溶解し、溶液
に、氷冷下、トシルクロリド２．３２ｇ（１２．２ｍｍ
ｏｌ）を加えた。室温で３時間半撹拌した後、反応溶液
を、冷希塩酸水溶液中にあけ、エ−テルで抽出した。得
られた抽出液を、水、飽和硫酸銅水溶液、水および飽和
食塩水溶液で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶液を濾過した後濃縮して、得られた残渣
を、シリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１〜５：１）で精製して、化合物
（５）２．３９ｇ（８６．６％）を得た。
【００８９】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【００９０】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．９
０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２０−１．６１
（８Ｈ，ｍ），２．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１
７．４Ｈｚ），２．３０−２．５３（４Ｈ，ｍ），２．
７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，１７．４），４．１０
−４．３４（３Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） ［Ｄ］ （３Ｓ，４Ｓ）−４，５−エポキシ−３−ペン
チルペンタン酸イソプロピル［化合物（６）］の合成 工程［Ｃ］で得られた化合物（５）３．００ｇ（８．８
２ｍｍｏｌ）を、イソプロピルアルコ−ル５０ｍｌに溶
解し、この溶液に炭酸カリウム１．３４ｇ（９．７１ｍ
ｍｏｌ）を加えた。反応溶液を５０℃で一晩撹拌した
後、不溶物を濾過した。濾液を濃縮した後、得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：エ−テ
ル＝１０：１〜５：１）で精製して、エポキシド化合物
（６）１．５３ｇ（７６．１％）を得た。
【００９１】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【００９２】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１５−１．５０
（１５Ｈ，ｍ），２．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，
１５．３Ｈｚ），２．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，
１５．３），２．５２−２．６０（１Ｈ，ｍ），２．７
５−２．８６（２Ｈ，ｍ），４．９６−５．１０（１
Ｈ，ｍ） ［Ｅ］ （３Ｓ，４Ｒ）−３−ペンチル−６−ヘプテン
−４−オリド［化合物（７）］の合成 ヨウ化銅１２９ｍｇ（０．６８ｍｍｏｌ）を無水テトラ
ヒドロフラン５ｍｌに懸濁し、これに工程［Ｄ］で得ら
れたエポキシド（６）７７０ｍｇ（３．３８ｍｍｏｌ）
の無水エ−テル２５ｍｌ溶液を加えた。混合溶液に、ア
ルゴンガス雰囲気下で−２０℃に冷却しながら、ビニル
マグネシウムブロミドのテトラヒドロフラン溶液３．７
１ｍｌ（１．０Ｎ、３．７１ｍｍｏｌ）を滴下した。−
２０℃で１時間撹拌した後、反応溶液を飽和塩化アンモ
ニウム水溶液中にあけ、３０分撹拌し、不溶物を濾過し
た。得られた濾液をエ−テルで抽出した後、抽出液を飽
和食塩水で洗浄した。この後、抽出液を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥して濾過し、濾液を濃縮した。得られた残
渣をメタノ−ル５ｍｌに溶解し、この溶液に１０％水酸
化ナトリウム水溶液５ｍｌを加え、室温で３時間撹拌し
た。メタノ−ルを減圧留去した後、得られた残渣をエ−
テルで２度抽出した。さらに水層を希塩酸で酸性にした
後、該水層を１時間撹拌した。次いで、水層をエ−テル
で抽出し、得られた抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後濃縮して、粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：エ−テル
＝１０：１〜５：１）で精製して、化合物（７）４６９
ｍｇ（７０．８％）を得た。
【００９３】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【００９４】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１７−１．６５
（８Ｈ，ｍ），２．１２−２．２８（２Ｈ，ｍ），２．
３３−２．５４（２Ｈ，ｍ），２．６８（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１１．５，２０．５Ｈｚ），４．１７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６．５，１１．５Ｈｚ），５．１２−５．２２
（２Ｈ，ｍ），５．７４−５．９０（１Ｈ，ｍ） ［Ｆ］ （３Ｓ，４Ｒ）−６−ヒドロキシ−３−ペンチ
ル−４−ヘキサノリド［化合物（８）］の合成 工程［Ｅ］で得られた化合物（７）３２７ｍｇ（１．６
７ｍｍｏｌ）を無水塩化メチレン４０ｍｌに溶解し、こ
の溶液に、−７８℃に冷却しながらオゾンを飽和するま
で吹き込んだ。その後、反応溶液を室温まで上昇させた
後、過剰のオゾンをアルゴンガスを吹き込むことにより
除去した。次いで、反応溶液に、ボランジメチルスルフ
ィド０．５８ｍｌ（１０Ｍ，５．８４ｍｍｏｌ）を加
え、室温で２０時間撹拌した。次に、反応溶液に１Ｎ希
塩酸１ｍｌを加えてから、１時間撹拌した後、炭酸水素
ナトリウム粉を反応溶液が塩基性になるまで添加した。
次いで、反応液に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し
た後濾過した。濾液を濃縮した後、得られた残渣をカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１〜３：１）で精製して、化合物（８）２７２ｍｇ
（８１．９％）を得た。
【００９５】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【００９６】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．９
０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２１−１．６６
（７Ｈ，ｍ），１．７６−２．３０（６Ｈ，ｍ），２．
６１−２．７９（１Ｈ，ｍ），３．７４−３．８９（２
Ｈ，ｍ），４．２５−４．３６（１Ｈ，ｍ） ［Ｇ］ （３Ｓ，４Ｒ）−３−ペンチル−６−トシロキ
シヘキサン−４−オリド［化合物（９）］の合成 工程［Ｆ］で得られた化合物（８）２００ｍｇ（１．０
１ｍｍｏｌ）を無水ピリジン５ｍｌに溶解し、この溶液
に、氷冷下でトシルクロリド２８７ｍｇ（１．５１ｍｍ
ｏｌ）を加えた。室温で一晩撹拌した後、反応溶液を冷
希塩酸水溶液中にあけ、エ−テルで抽出した。得られた
抽出液を、水、飽和硫酸銅水溶液、水および飽和食塩水
溶液で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。次いで、有機層を濃縮し、得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１〜５：１）で精製して、化合物（９）２９２ｍｇ
（８２．３％）を得た。
【００９７】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【００９８】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．９
０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１８−１．５９
（８Ｈ，ｍ），１．８０−１．９３（１Ｈ，ｍ），２．
０３−２．２７（３Ｈ，ｍ），２．５６（３Ｈ，ｓ），
２．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，１６．９Ｈｚ），
４．０６−４．２６（３Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ） ［Ｈ］ （１Ｒ，４Ｓ，７Ｓ）−７−ペンチル−２−オ
キサビシクロ［２．２．１］ヘプタン−３−オン［化合
物（１０）］の合成 工程［Ｇ］で得られた化合物（９）１９７ｍｇ（０．５
６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン５ｍｌに溶解
し、この溶液にアルゴンガス雰囲気下、−７８℃に冷却
しながら、リチウムヘキサメチルジシラジドのテトラヒ
ドロフラン溶液０．５６ｍｌ（１Ｎ，０．５６ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。反応温度を３時間かけて室温まで戻し
た後、反応溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液にあけ、
エ−テルで抽出した。得られた抽出液を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過して濃
縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン：エ−テル＝１０：１）で精製し
て、化合物（１０）８７．３ｍｇ（８５．６％）を得
た。
【００９９】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１００】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．９
０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１９−１．６０
（９Ｈ，ｍ），１．６２−１．８０（１Ｈ，ｍ），１．
８１−２．０６（３Ｈ，ｍ），２．６８−２．７５（１
Ｈ，ｍ），４．６０−４．６８（１Ｈ，ｍ） ［Ｉ］ （１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−３−ヒドロキシメチル
−２−ペンチル−１−シクロペンタノ−ル［化合物（１
１）］の合成 工程［Ｈ］で得られた化合物（１０）２１ｍｇ（０．２
１ｍｍｏｌ）を無水エ−テル１ｍｌに溶解し、この溶液
に、氷冷下で撹拌しながら水素化リチウムアルミニウム
６．６ｍｇ（０．１７ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を
１時間撹拌した後、反応液に水０．１ｍｌ，２Ｎ水酸化
ナトリウム０．２ｍｌおよび水０．１ｍｌを順次加え、
しばらく撹拌してから、不溶物を濾過した。濾液を濃縮
して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１〜１：１）
で精製して、ジオール化合物（１１）１８ｍｇ（８３．
７％）を得た。
【０１０１】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１０２】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２１−１．６０
（６Ｈ，ｍ），１．６７−１．９８（５Ｈ，ｍ），２．
１６−２．２９（１Ｈ，ｍ），３．４２−３．７３（４
Ｈ，ｍ），４．０５−４．１４（１Ｈ，ｍ） ［Ｊ］ （１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−３−トシロキシメチル
−２−ペンチル−１−シクロペンタノ−ル［化合物（１
２）］の合成 工程［Ｈ］で得られたジオール（１１）２３ｍｇ（０．
１２ｍｍｏｌ）を無水塩化メチレン１ｍｌに溶解し、こ
の溶液に、氷冷下で撹拌しながらトシルクロリド２４ｍ
ｇ（０．１２ｍｍｏｌ）およびピリジン２９ｍｇ（０．
３７ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン溶液１ｍｌをゆっく
り滴下した。反応溶液を室温で一晩撹拌した後、反応液
に飽和食塩水１ｍｌを加え、エ−テルで抽出した。得ら
れた抽出液を、飽和硫酸銅水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、抽
出液を濾過した後、濾液を濃縮して、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１〜１：１）で精製して、モノトシレ
−トとして化合物（１２）４２．８ｍｇ（８１．７％）
を得た。
【０１０３】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１０４】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１８−１．４０
（７Ｈ，ｍ），１．５２−１．８５（７Ｈ，ｍ），２．
２４−２．３８（１Ｈ，ｍ），２．４５（３Ｈ，ｓ），
３．９９−４．１７（３Ｈ，ｍ），７．３４（２Ｈ，
ｍ），７．７９（２Ｈ，ｍ） ［Ｋ］ （１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２−ペンチル−１−テ
トラヒドロピラニロキシ−３−トシロキシメチルシクロ
ペンタン［化合物（１３）］の合成 工程［Ｊ］で得られたモノトシレ−ト（１２）２３ｍｇ
（０．０５４ｍｍｏｌ）を無水塩化メチレン２ｍｌに溶
解し、この溶液にジヒドロピラン１４ｍｇ（０．１６ｍ
ｍｏｌ）およびパラトルエンスルホン酸ピリジン塩３ｍ
ｇを加え、室温で一晩撹拌した。反応液に、エ−テル３
ｍｌ、次いで５０％飽和食塩水を加えてから、有機層を
分離した。該有機層を、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後に濾過し、濾液を濃縮した。得られた残渣を、分取
薄層クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：エ−テル＝
１：１）で精製して、トシレート（１３）２５．３ｍｇ
（９１．７％）を得た。
【０１０５】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１０６】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１９−２．００
（１９Ｈ，ｍ），２．２２−２．３９（１Ｈ，ｍ），
２．４４（３Ｈ，ｍ），３．３９−３．５０（１Ｈ，
ｍ），３．６２−３．８０（１Ｈ，ｍ），３．８７−
４．１９（３Ｈ，ｍ），４．５１−４．５９（１Ｈ，
ｍ），７．３１−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．７５−
７．８４（２Ｈ，ｍ） ［Ｌ］ （１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−３−シアノメチル−２
−ペンチル−１−テトラヒドロピラニロキシシクロペン
タン［化合物（１４）］の合成 工程［Ｋ］で得られたトシレ−ト（１３）２０ｍｇ
（０．０４ｍｍｏｌ）を無水ジメチルホルムアミド１ｍ
ｌに溶解し、この溶液に、撹拌しながらシアン化ナトリ
ウム５．８ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）及びテトラブチル
アンモニウムブロミド２．９ｍｇ（０．００９ｍｍｏ
ｌ）を加え、１００℃で一晩撹拌した。反応溶液を冷却
した後水にあけ、エ−テルで抽出した。得られた抽出液
を、飽和重曹水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。次に、抽出液を濾過した後濾液を濃縮した。
得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：エ−テル＝２０：１〜５：１）で精製
し、ニトリル化合物（１４）８．３ｍｇ（５８．０％）
を得た。
【０１０７】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１０８】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２０−２．０５
（１８Ｈ，ｍ），２．２８−２．５５（３Ｈ，ｍ），
３．４５−３．５６（１Ｈ，ｍ），３．７５−３．９０
（１Ｈ，ｍ），３．９７−４．０３（０．７Ｈｍ），
４．１４−４．１９（０．３Ｈ，ｍ），４．５２−４．
５９（０．７Ｈ，ｍ），４．６３−４．６８（０．３
Ｈ，ｍ） ［Ｍ］ （１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−１−ヒドロキシ−３−
メトキシカルボニルメチル−２−ペンチルシクロペンタ
ン［化合物（１）］の合成 工程［Ｌ］で得られたニトリル化合物（１４）２８ｍｇ
（０．０７７ｍｍｏｌ）をメタノ−ル１ｍｌに溶解し、
この溶液に水酸化ナトリウム２８ｍｇ（０．７ｍｍｏ
ｌ）の水溶液１ｍｌを加えた。この混合溶液を６０℃で
６時間撹拌した後、希硫酸水溶液にあけた。１時間撹拌
した後、反応溶液を塩化メチレンで抽出した。得られた
抽出液を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。次に、該抽出
液を濾過した後濃縮して、得られた残渣を、エーテル１
ｍｌに溶解した。この溶液に、ジアゾメタンのエーテル
溶液０．２ｍｌを加えてさらに１時間撹拌した。この混
合溶液を濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１〜５：１）で精製し、ヒドロキシエステルとして
化合物（１）１５．９ｍｇ（９０．３％）を得た。
【０１０９】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１１０】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．９
０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．１０−２．４５
（１７Ｈ，ｍ），３．６６（３Ｈ，ｓ），４．１３−
４．２７（１Ｈ，ｍ） ［Ｎ］ （２Ｓ，３Ｒ）−３−メトキシカルボニルメチ
ル−２−ペンチル−１−シクロペンタノン（ジヒドロエ
ピジャスミン酸メチル）の合成 工程［Ｍ］で得られたヒドロキシエステル（１）２０ｍ
ｇ（０．０８８ｍｍｏｌ）を無水塩化メチレンに溶解
し、この溶液に、ピリジニウムジクロメ−ト４９ｍｇ
（０．１３ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間撹拌し
た。この後、反応液にエ−テルを加え、不溶物をフロリ
ジルカラムで除去した。生成物を含む画分を濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ
−ヘキサン：エ−テル＝１０：１〜５：１）で精製して
ジヒドロエピジャスミン酸メチル１２．４ｍｇ（６２．
６％）を得た。
【０１１１】得られた生成物の物理的特性は、次の通り
であった。
【０１１２】1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）: δ ０．８
８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１６−１．６０
（９Ｈ，ｍ），１．７３−１．８０（２Ｈ，ｍ），２．
０７−２．１７（１Ｈ，ｍ），２．１９−２．２６（１
Ｈ，ｍ），２．２７−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．５８
−２．６９（１Ｈ，ｍ），３．７１（３Ｈ，ｓ） ジヒドロエピジャスミン酸メチルは、化粧料等の香気成
分として有用である。
【０１１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の飽和単環
炭化水素化合物の製造方法によれば、比較的入手が容易
でかつ光学純度が高いものが用意できるレボグルコセノ
ンを出発物質とし、その光学純度を維持したままで選択
的に光学活性な飽和単環炭化水素化合物を得ることがで
きる。
【０１１４】本発明の飽和単環炭化水素化合物の製造方
法によれば、出発物質として用いたレボグルコセノン
（２）の光学純度が保持されたまま合成系が進行するの
で、光学純度が高い飽和単環炭化水素化合物（１）を得
ることができる。また、上述のようにして得られた飽和
単環炭化水素化合物（１）は、そのまま、または、さら
に反応に供することにより、各種香料、医薬品、農薬等
として用いることができる。例えば、本発明の製造方法
は、５員環のものは、プロスタグランジン等の医薬品の
合成に応用できる。また、６員環のものは、香料として
知られているイロン、イオノンや、植物ホルモンである
アブシジン酸等の合成へ利用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 35/02 253/16 255/31 9357−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 307/58 (72)発明者 川上 浩 神奈川県横浜市緑区梅が丘６番地２ 日本 たばこ産業株式会社生命科学研究所内 (72)発明者 松本 克也 神奈川県横浜市緑区梅が丘６番地２ 日本 たばこ産業株式会社生命科学研究所内 (72)発明者 松下 肇 神奈川県横浜市緑区梅が丘６番地２ 日本 たばこ産業株式会社生命科学研究所内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記化１で示される飽和単環炭化水素化
    合物（１）の製造方法であって、 【化１】 但し、Ｒ1 は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数２
    〜１０のアルケニル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜５のア
    ルキル基を表し、ｍは１〜３の整数を表す。 （ａ）下記化２で示されるように、レボグルコセノン
    （２）のエノン部分にアルキル基Ｒ1 を付加することに
    より化合物（３）を得る工程と、 【化２】 但し、Ｒ1 は先に定義したとおりである。 （ｂ）下記化３で示されるように、工程（ａ）で得られ
    た化合物（３）を過酸で酸化することにより化合物
    （４）を得る工程と、 【化３】 但し、Ｒ1 は先に定義したとおりである。 （ｃ）下記化４で示されるように、工程（ｂ）で得られ
    た化合物（４）の水酸基を脱離基ＯＸ1 に変換すること
    により化合物（５）を得る工程と、 【化４】 但し、Ｒ1 は先に定義したとおりであり、Ｘ1 はＯＸ1
    として脱離可能な基を示す。 （ｄ）下記化５で示されるように、工程（ｃ）で得られ
    た化合物（５）を塩基で処理することにより化合物
    （６）を得る工程と、 【化５】 但し、Ｒ1 およびＸ1 は先に定義したとおりであり、Ｒ
    3 は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。 （ｅ）下記化６で示されるように、工程（ｄ）で得られ
    た化合物（６）にアルケニル基を導入することにより、
    化合物（７）を得る工程と、 【化６】 但し、Ｒ1 及びＲ3 は上記と同じ意味を示し、ｎは１〜
    ３の整数を示し、Ｒは水素原子又は炭素数１から（８−
    ｎ）個のアルキル基を示す（但し、ｎは前述のとおりで
    ある）。 （ｆ）下記化７で示されるように、工程（ｅ）で得られ
    た化合物（７）のアルケニル基の二重結合を酸化的に切
    断した後に還元することにより、化合物（８）を得る工
    程と、 【化７】 但し、Ｒ、Ｒ1 およびｎは先に定義したとおりである。 （ｇ）下記化８で示されるように、工程（ｆ）で得られ
    た化合物（８）の水酸基を脱離基ＯＸ2 に変換すること
    により、化合物（９）を得る工程と、 【化８】 但し、Ｒ1 およびｎは先に定義したとおりであり、Ｘ2
    はＯＸ2 として脱離可能な基を示す。 （ｈ）下記化９で示されるように、工程（ｇ）で得られ
    た化合物（９）を塩基で処理することにより閉環させ
    て、化合物（１０）を得る工程と、 【化９】 但し、Ｒ1 、ｍ、ｎおよびＸ2 は先に定義したとおりで
    ある。 （ｉ）下記化１０で示されるように、工程（ｈ）で得ら
    れた化合物（１０）を還元することにより、化合物（１
    １）を得る工程と、 【化１０】 但し、Ｒ1 およびｍは先に定義したとおりである。 （ｊ）下記化１１で示されるように、工程（ｉ）で得ら
    れた化合物（１１）の一級水酸基のみを選択的に脱離基
    ＯＸ3 に変換して、化合物（１２）を得る工程と、 【化１１】 但し、Ｒ1 およびｍは先に定義したとおりであり、Ｘ3
    はＯＸ3 として脱離可能な基を示す。 （ｋ）下記化１２で示されるように、工程（ｊ）で得ら
    れた化合物（１２）の二級水酸基に保護基Ｒ4 を導入す
    ることにより、化合物（１３）を得る工程と、 【化１２】 但し、Ｒ1 、ｍおよびＸ3 は先に定義したとおりであ
    り、Ｒ4 は水酸基の保護基を示す。 （ｌ）下記化１３で示されるように、式（１３）で表さ
    れる化合物にニトリル基を導入することにより、式（１
    ４）で表される化合物を得る工程と、 【化１３】 但し、Ｒ1 、Ｒ4 、ｍおよびＸ3 は先に定義したとおり
    である。 （ｍ）下記化１４で示されるように、工程（ｌ）で得ら
    れた化合物（１４）のニトリル基を加水分解してカルボ
    キシル基に変換した後、酸性条件下で保護基Ｒ4 を脱離
    させてのちにカルボキシル基をエステル化することによ
    り、飽和単環炭化水素化合物（１）を得る工程を具備す
    ることを特徴とする飽和単環炭化水素化合物の製造方法 【化１４】 但し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びｍは先に定義したとおりで
    ある。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の工程（ａ）〜（ｍ）を
    具備した化合物（１）の製造方法であって、前記化合物
    （１）が下記化１５の一般式で示される化合物（１’）
    であり、 【化１５】 但し、Ｒ1 ’は炭素数２から１０のアルケニル基を表わ
    し、Ｒ2 及びｍは先に定義したとおりである。更に、 工程（ａ）においてエノン部にアルキル基の代わりにア
    ルケニル基を付加し、 工程（ｂ）において、酸化反応の後に、生成物を更に酸
    化剤で処理し、次いで水酸基の保護及びアセタール化を
    行ない、 工程（ｍ）において、ニトリル基の加水分解、脱保護及
    びエステル化の後にWittig反応を行なう、ことを具備し
    たことを特徴とする製造方法。
  3. 【請求項３】 請求項１に記載の製造方法であって、工
    程（ａ）が、銅塩の存在下で、アルキル金属塩を用いて
    行なわれる方法。
  4. 【請求項４】 請求項２に記載の製造方法であって、工
    程（ａ）が、銅塩の存在下で、アルケニル金属塩を用い
    て行なわれる方法。
  5. 【請求項５】 請求項１又は２に記載の方法であって、
    工程（ｅ）が、銅塩の存在下で、アルケニル金属塩を用
    いて行なわれる方法。
  6. 【請求項６】 請求項３に記載の方法であって、前記ア
    ルキル金属塩が炭素数１から１０のアルキルリチウム又
    はアルキルマグネシウムハライドである方法。
  7. 【請求項７】 請求項４に記載の方法であって、前記ア
    ルケニル金属塩が炭素数２から１０のアルケニルリチウ
    ム又はアルケニルマグネシウムハライドである方法。
  8. 【請求項８】 請求項５に記載の方法であって、前記ア
    ルケニル金属塩が炭素数２から１０のアルケニルリチウ
    ム又はアルケニルマグネシウムハライドである方法。
  9. 【請求項９】 請求項３または４に記載の製造方法であ
    って、前記銅塩がヨウ化銅、臭化銅、及び塩化銅である
    方法。
  10. 【請求項１０】 請求項１又は２に記載の製造方法であ
    って、工程（ｃ）、工程（ｇ）及び工程（ｊ）において
    基Ｘ1 、Ｘ2 及びＸ3 が、それぞれエステル化反応によ
    って導入される方法。
  11. 【請求項１１】 請求項１に記載の製造方法であって、
    前記化合物（１）が下記化１６で表わされる化合物であ
    る方法。 【化１６】
  12. 【請求項１２】 下記化１７に示す一般式で表される化
    合物（１０）。 【化１７】 但し、Ｒ1 は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数２
    〜１０のアルケニル基を示し、ｍは１〜３の整数を示
    す。
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