JPH06124485A - 回転塗布方法 - Google Patents
回転塗布方法Info
- Publication number
- JPH06124485A JPH06124485A JP27023692A JP27023692A JPH06124485A JP H06124485 A JPH06124485 A JP H06124485A JP 27023692 A JP27023692 A JP 27023692A JP 27023692 A JP27023692 A JP 27023692A JP H06124485 A JPH06124485 A JP H06124485A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- coating
- spin coating
- coating method
- application
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 円盤状基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をス
ピンコート法により塗布する回転塗布方法において、低
速回転させて一定量の塗料を塗布した後塗布を終了する
際に、段階的にあるいは連続的に回転速度を速くして塗
布を終了する。 【効果】 低速回転させて一定量の塗料を塗布した後塗
布を終了する場合に、段階的にあるいは連続的に回転速
度を速くして塗布を終了するので、樹脂の塗布終了部分
が先細りとなって樹脂の内周部分の形状をきれいな円形
とすることができ、従って一定量塗布終了後高速回転で
余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均一に外周方向へ振
り切られるためにすじが発生することはなく外観不良は
皆無となり、スピンコート工程における収率が著しく向
上する。
ピンコート法により塗布する回転塗布方法において、低
速回転させて一定量の塗料を塗布した後塗布を終了する
際に、段階的にあるいは連続的に回転速度を速くして塗
布を終了する。 【効果】 低速回転させて一定量の塗料を塗布した後塗
布を終了する場合に、段階的にあるいは連続的に回転速
度を速くして塗布を終了するので、樹脂の塗布終了部分
が先細りとなって樹脂の内周部分の形状をきれいな円形
とすることができ、従って一定量塗布終了後高速回転で
余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均一に外周方向へ振
り切られるためにすじが発生することはなく外観不良は
皆無となり、スピンコート工程における収率が著しく向
上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、円盤状基板に紫外線硬
化型樹脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転
塗布方法に関するものである。
化型樹脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転
塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来知られている円盤状基板の樹脂被膜
方法は、例えば、光ディスクではグルーブと称される溝
が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタク
リルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルーブ
が形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称さ
れる紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗布
してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた後、
紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
方法は、例えば、光ディスクではグルーブと称される溝
が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタク
リルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルーブ
が形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称さ
れる紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により回転塗布
してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた後、
紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
【０００３】次に真空蒸着法やスパッタ法等によりグル
ーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを作
製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コート
剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により
回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜していた。
ーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを作
製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コート
剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により
回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜していた。
【０００４】また、コンパクトディスクでは予め所定の
情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、情
報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッタ
法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保護
コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法
により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜を
製膜していた。
情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、情
報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッタ
法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保護
コート剤と称される紫外線硬化型樹脂をスピンコート法
により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜を
製膜していた。
【０００５】このようにハードコート剤や保護コート剤
等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、低速回転時に一定速度で樹
脂を一定位置から一定量円盤状基板に塗布し、塗布終了
後、高速回転させて余分な紫外線硬化型樹脂を振り切っ
て均一な被膜を形成していた。
等の紫外線硬化型樹脂を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、低速回転時に一定速度で樹
脂を一定位置から一定量円盤状基板に塗布し、塗布終了
後、高速回転させて余分な紫外線硬化型樹脂を振り切っ
て均一な被膜を形成していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、低速回転時に一定速度で樹脂を一定位置から一
定量円盤状基板に塗布し、そのまま塗布を終了するので
樹脂の塗布終了部分にずれを生じてしまい、一定量塗布
終了後高速回転で余分な樹脂を振り切る時に、前記ずれ
部分の樹脂がその状態で外周方向へ振り切られるために
「すじ」が発生し、そのまま硬化せさると樹脂塗布面に
「すじ」が残こり、外観不良の原因となっていた。
法では、低速回転時に一定速度で樹脂を一定位置から一
定量円盤状基板に塗布し、そのまま塗布を終了するので
樹脂の塗布終了部分にずれを生じてしまい、一定量塗布
終了後高速回転で余分な樹脂を振り切る時に、前記ずれ
部分の樹脂がその状態で外周方向へ振り切られるために
「すじ」が発生し、そのまま硬化せさると樹脂塗布面に
「すじ」が残こり、外観不良の原因となっていた。
【０００７】また、「すじ」が発生しても硬化させる前
に十分な時間をとっていれば、この「すじ」は消滅する
が、これでは著しく生産能力が低下してしまう。
に十分な時間をとっていれば、この「すじ」は消滅する
が、これでは著しく生産能力が低下してしまう。
【０００８】本発明が解決しようとする課題は、円盤状
基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をスピンコート法によ
り塗布する回転塗布方法において、生産能力を低下させ
ることなく塗料塗布後の「すじ」の発生を無くし、外観
不良を皆無として、スピンコート工程における収率を向
上させることにある。
基板に紫外線硬化型樹脂等の塗料をスピンコート法によ
り塗布する回転塗布方法において、生産能力を低下させ
ることなく塗料塗布後の「すじ」の発生を無くし、外観
不良を皆無として、スピンコート工程における収率を向
上させることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するため、円盤状基板にスピンコート法によって塗料を
塗布する回転塗布方法において、低速回転させて一定量
の塗料を塗布した後、塗布を終了する際に、段階的にあ
るいは連続的に回転速度を速くして塗布を終了すること
を特徴とする回転塗布方法を提供する。
するため、円盤状基板にスピンコート法によって塗料を
塗布する回転塗布方法において、低速回転させて一定量
の塗料を塗布した後、塗布を終了する際に、段階的にあ
るいは連続的に回転速度を速くして塗布を終了すること
を特徴とする回転塗布方法を提供する。
【００１０】
【作用】本発明によれば、円盤状基板に紫外線硬化型樹
脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転塗布方
法において、低速回転させて一定量の塗料を塗布した後
塗布を終了する際に、段階的にあるいは連続的に回転速
度を速くして塗布を終了するので、樹脂の塗布終了部分
が先細りとなって樹脂の内周部分の形状をきれいな円形
とすることができ、従って、一定量塗布終了後高速回転
で余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均一に外周方向へ
振り切られるために、「すじ」が発生することはなく、
外観不良は皆無となり、スピンコート工程における収率
が著しく向上する。
脂等の塗料をスピンコート法により塗布する回転塗布方
法において、低速回転させて一定量の塗料を塗布した後
塗布を終了する際に、段階的にあるいは連続的に回転速
度を速くして塗布を終了するので、樹脂の塗布終了部分
が先細りとなって樹脂の内周部分の形状をきれいな円形
とすることができ、従って、一定量塗布終了後高速回転
で余分な樹脂を振り切っても、樹脂が均一に外周方向へ
振り切られるために、「すじ」が発生することはなく、
外観不良は皆無となり、スピンコート工程における収率
が著しく向上する。
【００１１】
【実施例】以下、実施例を示しながら具体的説明を行な
う。
う。
【００１２】（実施例１）円盤状基板である光ディスク
を記録膜の形成面側を上にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側を保護するために保護コート
剤「ＳＤ−３０１」（大日本インキ化学工業(株)製）を
塗布した。
を記録膜の形成面側を上にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側を保護するために保護コート
剤「ＳＤ−３０１」（大日本インキ化学工業(株)製）を
塗布した。
【００１３】この場合、ターンテーブルを６０ｒｐｍの
低速回転で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力
でφ１．０５mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤「ＳＤ−３０１」の塗布を
基板回転速度６０ｒｐｍで２秒間行ない、０．４秒後に
回転を９０ｒｐｍまで加速し、さらに０．２秒後に回転
を１２０ｒｐｍまで加速して、保護コート剤の塗布を行
なった。
低速回転で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力
でφ１．０５mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤「ＳＤ−３０１」の塗布を
基板回転速度６０ｒｐｍで２秒間行ない、０．４秒後に
回転を９０ｒｐｍまで加速し、さらに０．２秒後に回転
を１２０ｒｐｍまで加速して、保護コート剤の塗布を行
なった。
【００１４】塗布終了後、６，０００ｒｐｍの高速回転
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形
成したが、保護コート膜に「すじ」は全く見られなかっ
た。
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形
成したが、保護コート膜に「すじ」は全く見られなかっ
た。
【００１５】（実施例２）円盤状基板である光ディスク
を記録膜の形成面側を下にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側とは反対側の面にハードコー
ト剤「ＥＸ−７０４」（大日本インキ化学工業(株)製）
を塗布した。
を記録膜の形成面側を下にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側とは反対側の面にハードコー
ト剤「ＥＸ−７０４」（大日本インキ化学工業(株)製）
を塗布した。
【００１６】この場合、ターンテーブルを６０ｒｐｍの
低速回転で回転させると同時に、０．４kgf／cm2の圧力
でφ０．９２mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤「ＥＸ−７０４」の
塗布を基板回転速度６０ｒｐｍで１秒間行ない、０．５
秒後に回転を９０ｒｐｍまで加速し、さらに０．３秒後
に回転を１２０ｒｐｍまで加速して、ハードコート剤の
塗布を行なった。
低速回転で回転させると同時に、０．４kgf／cm2の圧力
でφ０．９２mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤「ＥＸ−７０４」の
塗布を基板回転速度６０ｒｐｍで１秒間行ない、０．５
秒後に回転を９０ｒｐｍまで加速し、さらに０．３秒後
に回転を１２０ｒｐｍまで加速して、ハードコート剤の
塗布を行なった。
【００１７】塗布終了後、６，０００ｒｐｍの高速回転
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を
形成したが、ハードコート膜には「すじ」は全く見られ
なかった。
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を
形成したが、ハードコート膜には「すじ」は全く見られ
なかった。
【００１８】（比較例１）円盤状基板である光ディスク
を記録膜の形成面側を上にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側を保護するために保護コート
剤「ＳＤ−３０１」を塗布した。
を記録膜の形成面側を上にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側を保護するために保護コート
剤「ＳＤ−３０１」を塗布した。
【００１９】この場合、ターンテーブルを６０ｒｐｍの
低速回転で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力
でφ１．０５mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤の塗布を開始し、２．６秒
間６０ｒｐｍの一定速度のままで保護コート剤の塗布を
行なった。
低速回転で回転させると同時に、１．９kgf／cm2の圧力
でφ１．０５mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２３mmの位置であって、光ディスクの面上１mmの位
置に移動させて保護コート剤の塗布を開始し、２．６秒
間６０ｒｐｍの一定速度のままで保護コート剤の塗布を
行なった。
【００２０】塗布終了後、６，０００ｒｐｍの高速回転
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形
成したところ保護コート膜に「すじ」が見られた。
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させて保護コート膜を形
成したところ保護コート膜に「すじ」が見られた。
【００２１】また、塗布終了後、６，０００ｒｐｍの高
速回転で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切る
と「すじ」が発生するので、この「すじ」が消滅するま
で待ったところ６０秒以上の時間がかかってしまった。
速回転で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切る
と「すじ」が発生するので、この「すじ」が消滅するま
で待ったところ６０秒以上の時間がかかってしまった。
【００２２】（比較例２）円盤状基板である光ディスク
を記録膜の形成面側を下にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側とは反対側の面にハードコー
ト剤「ＥＸ−７０４」を塗布した。
を記録膜の形成面側を下にしてターンテーブルに設置
し、次に記録膜の形成面側とは反対側の面にハードコー
ト剤「ＥＸ−７０４」を塗布した。
【００２３】この場合、ターンテーブルを６０ｒｐｍの
低速回転で回転させると同時に、０．４kgf／cm2の圧力
でφ０．９２mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤の塗布を開始し、
１．８秒間６０ｒｐｍの一定速度のままでハードコート
剤の塗布を行なった。
低速回転で回転させると同時に、０．４kgf／cm2の圧力
でφ０．９２mmの塗布用ノズルを光ディスクの中心より
半径２２．５mmの位置であって、光ディスクの面上１mm
の位置に移動させてハードコート剤の塗布を開始し、
１．８秒間６０ｒｐｍの一定速度のままでハードコート
剤の塗布を行なった。
【００２４】塗布終了後、６，０００ｒｐｍの高速回転
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を
形成したところハードコート膜に「すじ」が見られた。
で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切り、直ち
に紫外線を照射して樹脂を硬化させてハードコート膜を
形成したところハードコート膜に「すじ」が見られた。
【００２５】また塗布終了後、６，０００ｒｐｍの高速
回転で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切ると
「すじ」が発生するので、この「すじ」が消滅するまで
待ったところ６０秒以上の時間がかかってしまった。
回転で光ディスクを回転させて余分な樹脂を振り切ると
「すじ」が発生するので、この「すじ」が消滅するまで
待ったところ６０秒以上の時間がかかってしまった。
【００２６】
【発明の効果】本発明の回転塗布方法では、低速回転さ
せて一定量の塗料を塗布した後塗布を終了する際に、段
階的にあるいは連続的に回転速度を速くして塗布を終了
するので、樹脂の塗布終了部分が先細りとなって樹脂の
内周部分の形状をきれいな円形とすることができ、従っ
て一定量塗布終了後高速回転で余分な樹脂を振り切って
も、樹脂が均一に外周方向へ振り切られるために「す
じ」が発生することはなく外観不良は皆無となり、スピ
ンコート工程における収率が著しく向上する。
せて一定量の塗料を塗布した後塗布を終了する際に、段
階的にあるいは連続的に回転速度を速くして塗布を終了
するので、樹脂の塗布終了部分が先細りとなって樹脂の
内周部分の形状をきれいな円形とすることができ、従っ
て一定量塗布終了後高速回転で余分な樹脂を振り切って
も、樹脂が均一に外周方向へ振り切られるために「す
じ」が発生することはなく外観不良は皆無となり、スピ
ンコート工程における収率が著しく向上する。
Claims (1)
- 【請求項１】 円盤状基板にスピンコート法によって塗
料を塗布する回転塗布方法において、低速回転させて一
定量の塗料を塗布した後、塗布を終了する際に、段階的
にあるいは連続的に回転速度を速くして塗布を終了する
ことを特徴とする回転塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27023692A JPH06124485A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 回転塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27023692A JPH06124485A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 回転塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124485A true JPH06124485A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17483456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27023692A Pending JPH06124485A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 回転塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124485A (ja) |
-
1992
- 1992-10-08 JP JP27023692A patent/JPH06124485A/ja active Pending
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