JPH05317797A - 回転塗布方法 - Google Patents
回転塗布方法Info
- Publication number
- JPH05317797A JPH05317797A JP12053392A JP12053392A JPH05317797A JP H05317797 A JPH05317797 A JP H05317797A JP 12053392 A JP12053392 A JP 12053392A JP 12053392 A JP12053392 A JP 12053392A JP H05317797 A JPH05317797 A JP H05317797A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shaped substrate
- disc
- coating
- spin coating
- coating material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 円盤状基板を低速回転させながら一定量の紫
外線硬化型塗料を円盤状基板に塗布する第１工程、円盤
状基板を高速回転させて基板上の余分な塗料を振り切る
第２工程及び円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹き
付ける第３工程を有する回転塗布方法。 【効果】 本発明の回転塗布方法によれば、一定量の紫
外線硬化型塗料を塗布し、次に高速回転で円盤状基板を
回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り切り、その後
円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹き付けるので、
レベルング性が悪い紫外線硬化型塗料でも表面温度を上
昇させることによりレベリング性を促進させることがで
きるためにさざ波が即座に消滅し、従って未硬化の塗膜
に紫外線を照射して硬化させて得られた被膜には細かい
筋は一切見られず、外観不良を皆無にすることができ
る。
外線硬化型塗料を円盤状基板に塗布する第１工程、円盤
状基板を高速回転させて基板上の余分な塗料を振り切る
第２工程及び円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹き
付ける第３工程を有する回転塗布方法。 【効果】 本発明の回転塗布方法によれば、一定量の紫
外線硬化型塗料を塗布し、次に高速回転で円盤状基板を
回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り切り、その後
円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹き付けるので、
レベルング性が悪い紫外線硬化型塗料でも表面温度を上
昇させることによりレベリング性を促進させることがで
きるためにさざ波が即座に消滅し、従って未硬化の塗膜
に紫外線を照射して硬化させて得られた被膜には細かい
筋は一切見られず、外観不良を皆無にすることができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は円盤状基板に紫外線硬化
型塗料をスピンコート法により塗布する回転塗布方法に
関するものである。
型塗料をスピンコート法により塗布する回転塗布方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来知られている円盤状基板の樹脂被膜
方法は、例えば、光ディスクではグルーブと称される溝
が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタク
リルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルーブ
が形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称さ
れる紫外線硬化型塗料をスピンコート法により回転塗布
してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた後、
紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
方法は、例えば、光ディスクではグルーブと称される溝
が形成されたポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタク
リルレート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等の円盤状のプラスチック基板に、グルーブ
が形成された側とは反対側の面にハードコート剤と称さ
れる紫外線硬化型塗料をスピンコート法により回転塗布
してプラスチック基板全面に均一に行きわたらせた後、
紫外線を照射してハードコート膜を製膜する。
【０００３】次に、真空蒸着法やスパッタ法等によりグ
ルーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを
作製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コー
ト剤と称される紫外線硬化型塗料をスピンコート法によ
り回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜してい
た。
ルーブが形成された側に記録膜を製膜して光ディスクを
作製する。この光ディスクの記録膜形成面側に保護コー
ト剤と称される紫外線硬化型塗料をスピンコート法によ
り回転塗布して光ディスク全面に保護膜を製膜してい
た。
【０００４】また、コンパクトディスクでは予め所定の
情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、情
報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッタ
法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保護
コート剤と称される紫外線硬化型塗料をスピンコート法
により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜を
製膜していた。
情報信号が刻印された円盤状のプラスチック基板に、情
報信号が刻印されている側の面に真空蒸着法やスパッタ
法により反射膜を製膜して、この反射膜形成面側に保護
コート剤と称される紫外線硬化型塗料をスピンコート法
により回転塗布してコンパクトディスク全面に保護膜を
製膜していた。
【０００５】このようにハードコート剤や保護コート剤
等の紫外線硬化型塗料を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、低速回転時に一定速度で塗
料を一定位置から一定量円盤状基板に塗布し、次に高速
回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り切り、その後
紫外線を照射して硬化させて均一な被膜を形成してい
た。
等の紫外線硬化型塗料を円盤状基板にスピンコート法に
より回転塗布する場合には、低速回転時に一定速度で塗
料を一定位置から一定量円盤状基板に塗布し、次に高速
回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り切り、その後
紫外線を照射して硬化させて均一な被膜を形成してい
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、高速回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り
切った直後の樹脂表面には細かいさざ波状の筋が生じて
おり、特にレベリング性が悪い紫外線硬化型塗料ではそ
のままの状態で紫外線を照射すると硬化後の被膜表面に
もそのさざ波が残ってしまい、細かい筋として外観不良
を生じる欠点を有していた。
法では、高速回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り
切った直後の樹脂表面には細かいさざ波状の筋が生じて
おり、特にレベリング性が悪い紫外線硬化型塗料ではそ
のままの状態で紫外線を照射すると硬化後の被膜表面に
もそのさざ波が残ってしまい、細かい筋として外観不良
を生じる欠点を有していた。
【０００７】本発明が解決しようとする課題は、円盤状
基板に紫外線硬化型塗料をスピンコート法により塗布す
る回転塗布方法において、回転塗布後の未硬化の塗膜の
細かい筋の発生を無くし、得られた塗工物の外観不良を
皆無として、スピンコート工程における収率を向上させ
ることができる回転塗布方法を提供することにある。
基板に紫外線硬化型塗料をスピンコート法により塗布す
る回転塗布方法において、回転塗布後の未硬化の塗膜の
細かい筋の発生を無くし、得られた塗工物の外観不良を
皆無として、スピンコート工程における収率を向上させ
ることができる回転塗布方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、円盤状基板を低速回転させながら一定量の
紫外線硬化型塗料を円盤状基板に塗布する第１工程、円
盤状基板を高速回転させて基板上の余分な塗料を振り切
る第２工程及び円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹
き付ける第３工程を有することを特徴とする回転塗布方
法を提供する。
するために、円盤状基板を低速回転させながら一定量の
紫外線硬化型塗料を円盤状基板に塗布する第１工程、円
盤状基板を高速回転させて基板上の余分な塗料を振り切
る第２工程及び円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹
き付ける第３工程を有することを特徴とする回転塗布方
法を提供する。
【０００９】
【作用】本発明によれば、円盤状基板に紫外線硬化型塗
料をスピンコート法により塗布する回転塗布装置におい
て、一定量の塗料を塗布し、次に高速回転で円盤状基板
を回転させて余分な塗料を振り切り、その後円盤状基板
上の未硬化の塗膜に熱風を吹き付けるので、レベルング
性が悪い紫外線硬化型塗料でも表面温度を上昇させるこ
とによりレベリング性を促進させることができるため
に、さざ波が即座に消滅し、従って、この塗膜に紫外線
を照射して硬化させた得られた被膜には細かい筋が一切
見られず、外観不良を皆無にすることができる。
料をスピンコート法により塗布する回転塗布装置におい
て、一定量の塗料を塗布し、次に高速回転で円盤状基板
を回転させて余分な塗料を振り切り、その後円盤状基板
上の未硬化の塗膜に熱風を吹き付けるので、レベルング
性が悪い紫外線硬化型塗料でも表面温度を上昇させるこ
とによりレベリング性を促進させることができるため
に、さざ波が即座に消滅し、従って、この塗膜に紫外線
を照射して硬化させた得られた被膜には細かい筋が一切
見られず、外観不良を皆無にすることができる。
【００１０】
【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【００１１】（実施例）図１に示したように円盤状基板
である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にしてタ
ーンテーブル３に設置し、記録膜２の形成面側を保護す
るために保護コート剤「ＥＸ−３１８」（大日本インキ
化学工業社製）４を塗布した。
である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にしてタ
ーンテーブル３に設置し、記録膜２の形成面側を保護す
るために保護コート剤「ＥＸ−３１８」（大日本インキ
化学工業社製）４を塗布した。
【００１２】この場合、ターンテーブル３を６０ｒｐｍ
の低速回転で回転させると同時に、φ１．０５mmの塗布
用ノズル５を光ディスク１の中心より半径２３mmの位置
であって、光ディスクの面上１mmの位置に移動させた
後、塗布用ノズルから１．４kgf／cm2の圧力で２秒間保
護コート剤４のを塗布した。次に、６，０００ｒｐｍの
高速回転で光ディスクを回転させて余分な保護コート剤
を振り切った。この場合の塗膜の表面の状態は、図２に
示したように細かいさざ波状の筋６が生じた状態であっ
た。
の低速回転で回転させると同時に、φ１．０５mmの塗布
用ノズル５を光ディスク１の中心より半径２３mmの位置
であって、光ディスクの面上１mmの位置に移動させた
後、塗布用ノズルから１．４kgf／cm2の圧力で２秒間保
護コート剤４のを塗布した。次に、６，０００ｒｐｍの
高速回転で光ディスクを回転させて余分な保護コート剤
を振り切った。この場合の塗膜の表面の状態は、図２に
示したように細かいさざ波状の筋６が生じた状態であっ
た。
【００１３】その後、図３に示したように熱風として８
０℃のクリーンエアー７を光ディスク１の表面上約１０
cm離れた位置から２秒間吹き付けた後、紫外線８を照射
して保護コート剤４を硬化させて保護コート膜を形成し
たが、保護コート膜表面には図４に示すように細かい筋
は全く見られなかった。
０℃のクリーンエアー７を光ディスク１の表面上約１０
cm離れた位置から２秒間吹き付けた後、紫外線８を照射
して保護コート剤４を硬化させて保護コート膜を形成し
たが、保護コート膜表面には図４に示すように細かい筋
は全く見られなかった。
【００１４】この熱風の温度は、光ディスクに熱変形を
生じさせて機械特性を劣下させてしまう程の高い温度で
はなく、レベリング性を促進し得る温度であれば良く、
紫外線硬化型塗料の種類やレベリング性能によって適宜
選択すれば良い。
生じさせて機械特性を劣下させてしまう程の高い温度で
はなく、レベリング性を促進し得る温度であれば良く、
紫外線硬化型塗料の種類やレベリング性能によって適宜
選択すれば良い。
【００１５】（比較例）図１に示したように、円盤状基
板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にして
ターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側を
保護するために保護コート剤「ＥＸ−３１８」（大日本
インキ化学工業社製）４を塗布した。
板である光ディスク１を記録膜２の形成面側を上にして
ターンテーブル３に設置し、次に記録膜２の形成面側を
保護するために保護コート剤「ＥＸ−３１８」（大日本
インキ化学工業社製）４を塗布した。
【００１６】この場合、ターンテーブル３を６０ｒｐｍ
の低速回転で回転させると同時に、φ１．０５mmの塗布
用ノズル５を光ディスク１の中心より半径２３mmの位置
であって、光ディスクの面上１mmの位置に移動させた
後、塗布用ノズルから１．４kgf／cm2の圧力で２秒間保
護コート剤４のを塗布した。次に、６，０００ｒｐｍの
高速回転で光ディスクを回転させて余分な保護コート剤
を振り切った。この場合の塗膜の表面の状態は、図２に
示したように細かいさざ波状の筋６が生じた状態であっ
た。
の低速回転で回転させると同時に、φ１．０５mmの塗布
用ノズル５を光ディスク１の中心より半径２３mmの位置
であって、光ディスクの面上１mmの位置に移動させた
後、塗布用ノズルから１．４kgf／cm2の圧力で２秒間保
護コート剤４のを塗布した。次に、６，０００ｒｐｍの
高速回転で光ディスクを回転させて余分な保護コート剤
を振り切った。この場合の塗膜の表面の状態は、図２に
示したように細かいさざ波状の筋６が生じた状態であっ
た。
【００１７】その後、図５に示したように、直ちに紫外
線８を照射して保護コート剤４を硬化させて保護コート
膜を形成したが、保護コート膜には図２に示したのと同
様に細かい筋６が被膜全面に見られた。
線８を照射して保護コート剤４を硬化させて保護コート
膜を形成したが、保護コート膜には図２に示したのと同
様に細かい筋６が被膜全面に見られた。
【００１８】
【発明の効果】本発明の回転塗布方法では、一定量の紫
外線硬化型塗料を塗布し、次に高速回転で円盤状基板を
回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り切り、その後
円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹き付けるので、
レベルング性が悪い紫外線硬化型塗料でも表面温度を上
昇させることによりレベリング性を促進させることがで
きるためにさざ波が即座に消滅し、従って未硬化の塗膜
に紫外線を照射して硬化させて得られた被膜には細かい
筋は一切見られず、外観不良を皆無にすることができ
る。
外線硬化型塗料を塗布し、次に高速回転で円盤状基板を
回転させて余分な紫外線硬化型塗料を振り切り、その後
円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を吹き付けるので、
レベルング性が悪い紫外線硬化型塗料でも表面温度を上
昇させることによりレベリング性を促進させることがで
きるためにさざ波が即座に消滅し、従って未硬化の塗膜
に紫外線を照射して硬化させて得られた被膜には細かい
筋は一切見られず、外観不良を皆無にすることができ
る。
【図１】スピンコート法により円盤状基板に紫外線硬化
型塗料を塗布する場合の概念的な図で、光ディスクをタ
ーンテーブル上に設置したときの側面図である。
型塗料を塗布する場合の概念的な図で、光ディスクをタ
ーンテーブル上に設置したときの側面図である。
【図２】紫外線硬化型塗料を塗布した後、高速回転で余
分な樹脂を振り切った時の未硬化の塗膜表面の状態を示
す平面図である。
分な樹脂を振り切った時の未硬化の塗膜表面の状態を示
す平面図である。
【図３】実施例に記載の方法により光ディスクに保護コ
ート剤を塗布する場合の概念図である。
ート剤を塗布する場合の概念図である。
【図４】スピンコート法により円盤状基板に塗料を塗布
する場合の概念的な図で、実施例２及び比較例２に記載
したハードコート剤を塗布する場合の光ディスクをター
ンテーブルに設置したときの側面図である。
する場合の概念的な図で、実施例２及び比較例２に記載
したハードコート剤を塗布する場合の光ディスクをター
ンテーブルに設置したときの側面図である。
【図５】比較例に記載の方法により光ディスクに保護コ
ート剤を塗布する場合の概念図である。
ート剤を塗布する場合の概念図である。
１ 光ディスク ２ 記録膜 ３ ターンテーブル ４ 保護コート剤 ５ 塗料塗布用ノズル ６ 細かいさざ波状の筋 ７ 熱風 ８ 紫外線
Claims (1)
- 【請求項１】 円盤状基板を低速回転させながら一定量
の紫外線硬化型塗料を円盤状基板に塗布する第１工程、
円盤状基板を高速回転させて基板上の余分な塗料を振り
切る第２工程及び円盤状基板上の未硬化の塗膜に熱風を
吹き付ける第３工程を有することを特徴とする回転塗布
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12053392A JPH05317797A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 回転塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12053392A JPH05317797A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 回転塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05317797A true JPH05317797A (ja) | 1993-12-03 |
Family
ID=14788643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12053392A Pending JPH05317797A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 回転塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05317797A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009514671A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフト | スピンコートにより膜厚を制御する方法および装置 |
| US8293330B2 (en) | 2005-12-22 | 2012-10-23 | Hoya Corporation | Lens coating apparatus and lens coating method |
| CN113956706A (zh) * | 2015-03-16 | 2022-01-21 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 用于衬底涂层的底漆材料 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP12053392A patent/JPH05317797A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009514671A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフト | スピンコートにより膜厚を制御する方法および装置 |
| US8293330B2 (en) | 2005-12-22 | 2012-10-23 | Hoya Corporation | Lens coating apparatus and lens coating method |
| CN113956706A (zh) * | 2015-03-16 | 2022-01-21 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 用于衬底涂层的底漆材料 |
| US11708495B2 (en) | 2015-03-16 | 2023-07-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Priming material for substrate coating |
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